レーザ(l26)及びAOM(10)は、レーザのパルスからパルスへのエネルギー安定性を損なうことなく、可変の非照射間隔で加工レーザ出力(40)を生じるように、ほぼ等間隔及びほぼ一定同様の高繰り返しレートでパルスさせる。加工レーザ出力(40)が要求されるときには、RFパルス(38)は、レーザ出力パルス(24)と時間一致でAOM(10)に供給され、ターゲットへレーザパルスを伝送する。加工レーザ出力(40)が要求されないときには、レーザパルスを遮断するように、RFパルス(38)は、レーザ出力パルス(24)と時間不一致でAOM(10)に供給される。即ち、AOM(10)における平均熱負荷は、加工レーザ出力(40)がランダムに、如何に要求されるかに関わらず、ほぼ一定となる。AOM(10)については、供給したRFパルス(38)のパワーを制御することにより、加工レーザ出力(40)のエネルギーを制御するように用いることもできる。RFパワーが変更されるときには、RFパルス(38)の持続時間(44)は、一定の平均RFパワーを維持するように変更される。
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