基板を持上げ支持するための、この発明に従ったピンアセンブリを提供する。当該ピンアセンブリは、垂直なピン移動の摩擦を減らすローラを備えたリフトピンのためのローラグライドと、弾性的に浮遊し１回のコーティングサイクルの後に台板を中心に置き直すためのボール軸受台板と、ピンと基板との間の摩擦を減らし、基板がピンに加える可能性のある横方向の力を最小限にするボール軸受ピン頭部とを含む。
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ディスク形状の被加工物を生成するためのこの発明の方法は、第１および第２のディスク形状の基板を生成するステップと、当該第１の基板の平坦な面の１つ上に少なくとも部分的に第１の接着剤を塗布するステップと、当該第１の接着剤を硬化するステップと、当該第１または第２の基板の平坦な面の少なくとも１つ上に少なくとも部分的に第２の接着剤を塗布するステップと、当該基板を接合して当該ディスク形状の被加工物を形成するステップとを含む。
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少なくとも滑り面の一定部分に少なくとも支持コート層と滑りコート層とからなる被覆コート層が析出被着された、滑り軸受に使用するための銅または銅含有合金からなる軸受材料であって、滑りコート層は硬質コート層であって、ダイヤモンドタイプの炭素を含有してなる軸受材料。 （もっと読む）

誘電体基板（１００）は第１の真空蒸着ステーション（１０２）で、１０^−５Ωｃｍ≦ρ≦１０^−１Ωｃｍが抵抗率（ρ）について成り立つ材料の層でコーティングされ、しかも、結果として生じる面積抵抗率Ｒ_Ｓが０≦Ｒ_Ｓ≦１０^−４Ω_δの範囲内におさまるようにコーティングされる。次いで、コーティングされた誘電体基板（１０４）にステーション（１０５）で反応性高周波プラズマ処理工程が施される。
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基板上に薄膜を堆積させるためのスパッタリングステーションは、互いに対向して配置され、プラズマ領域を規定する２つのターゲットと、磁界を生成する永久磁石またはコイルと、磁界を方向付けるヨークと、各ターゲットへのエネルギを個別に制御するために各ターゲットに接続された２つの個別の電源とを備える陰極を含む。
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接合された基板を分離するための方法およびその方法のために使用されるそれぞれの器具が開示される。この方法は、それぞれの手段によって、排気可能なチャンバ（２）に、接合された基板（１）を位置決めすることと、接合された基板（１）の間に少なくとも１つの空隙（５）を有する基板の部分的な区域を空間（１０）が含むように、シーリング機構（４）を用いてその排気可能なチャンバから上記空間を切離すことと、空間（１０）における圧力を維持しながら真空チャンバ（２）における圧力を低下させ、それによって、接合された基板を分離させることとを含む。
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マグネトロン源、マグネトロン処理チャンバ、かつ真空プラズマ処理される表面を有する基板を製造する方法は、非対称の非平衡の長い範囲のマグネトロン磁界パターンを生成しかつ用い、そのマグネトロン磁気パターンは、真空プラズマ処理される基板表面でのイオン密度を改善するために基板表面に沿って掃引される。長い範囲の磁界は、少なくとも０．１ガウス、好ましくは１ガウスから２０ガウスの間の基板表面に平行な磁界の成分を有して基板表面に到達する。プラズマ処理は、例えばスパッタリング被覆またはエッチングであり得る。
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基板（４）上の有機吸着体層（７）を解析するための方法は、解析される有機吸着体の屈折率に等しいか近い屈折率を有する表面を持つ基板（４）を設けるステップを含む。基板（４）の表面に、生体物質の屈折率を持つ少なくとも１つの層（５）を持つ層システム（５、６）が塗布され、層システムの上に有機吸着体層（７）が塗布される。基板上に偏光光を作用させると、反射および／または透過における偏光特性の変化が検出される。
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少なくとも２つの層の誘電体を有する層システムを含むディスプレイ装置用拡散バリアシステムであって、その層システムのうち少なくとも２つの隣接する層は同一の材料を含む。そのような拡散バリアシステムの製造方法であって、プラズマ蒸着システムの単一のプロセスチャンバにおいて、該プロセスチャンバに処理対象の基板を投入し、蒸着中に、制御された態様で、プロセスチャンバにおける少なくとも１つのプロセスパラメータを、そのプロセスパラメータを全く妨害することなく個別に変化させて、各々の変化によって異なる特性を備えた層を生じさせ、最後に該基板を該プロセスチャンバから取出すという工程を有する。
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本発明は工具または部品から硬質材料層系を除去するための方法および装置であり、除去方法を改善するために、クロムおよびアルミニウムを含有する少なくとも１つの層が基材に直接被着され、該基材は強力な酸化剤を含むアルカリ溶液を用いて膜除去される。
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