【課題】高品質のナノ粒子を造粒でき、しかも安定した粒径制御を可能にしたナノ粒子生成方法、前記ナノ粒子生成方法に基づいて生成したナノ粒子及び前記ナノ粒子生成方法に基づくナノ粒子生成装置を提供することである。
【解決手段】金属含有物質を含む溶媒を収容した溶媒反応部１の液中に対向電極対（２、３等）を配置し、バースト化された高電圧高周波パルスＶ２を対向電極の電極間に印加して電極付近の溶媒を気化し、前記気化により発生させた気泡に液中プラズマＰを発生させた後に高電圧高周波パルスＶ２の印加を停止して液中プラズマＰを消滅させ液中プラズマＰの発生領域の液温度を降下させる、前記印加及び前記停止の処理期間を１サイクルとして、高電圧高周波パルスＶ２の前記印加と前記停止を繰り返し行って間欠的に発生させた液中間欠プラズマにより前記金属含有物質の含有金属のナノ粒子を生成することができる。 （もっと読む）

【課題】ＣＮＭ等の難溶解性粉体の表面修飾処理を高速化して、大量の表面修飾処理を低コストで行うことのできる粉体可溶化方法及びその粉体可溶化方法に基づき粉体可溶化処理を行える粉体可溶化装置を提供することである。
【解決手段】攪拌部材４の終端部５を液中電極１４の対向電極として、両電極間に高電圧高周波パルス発生装置１７の合成電圧Ｖが印加される。合成電圧Ｖの印加により、水面３２近傍のＣＮＴあるいは水面３２に浮遊するＣＮＴ１１が粉体電極となって、液中電極１４との間で液中プラズマ放電２７を発生させる。液中プラズマ放電２７により液中電極１４の周囲が沸騰状態に達し、Ｈ^＋やＯＨ⁻等のラジカルを含む活性水蒸気２８が生ずる。活性水蒸気２８及び液中プラズマに接触することにより、浮遊ＣＮＴ粉体はＣＮＴ周囲に水和層が形成され親水化される。 （もっと読む）

【課題】液中連続プラズマを用いて化学反応効率を向上させることが可能な、より高い周波数の繰り返し大電力高電圧パルスを連続印加する電源装置を提供する。
【解決手段】溶液中に配置した電極に、より高い周波数の繰り返し大電力高電圧パルスを連続印加し、電極近傍にプラズマを発生させ、液中の気液界面でのプラズマ化学反応効率を向上させる電源装置である。ＩＧＢＴドライバ１８の分周・位相制御回路３は第１，第２，第３スイッチング信号を各々１／３周期だけ位相をずらして生成する。これらの第１，第２，第３スイッチング信号を各々、第１、第２、第３モジュレータ電源４，５，６の第１、第２、第３スイッチング回路１１，１２，１３に出力して、各スイッチング回路をスイッチング動作させ、電力増幅された第１、第２、第３パルス電圧を発生させる。これらの該第１、第２、第３パルス電圧を結合したパルス電圧をパルストランス１５に入力する。 （もっと読む）

【課題】従来の技術では、定盤との接触によるウエハホルダの磨耗や、砥粒や研磨剤のウエハホルダに対する影響を防ぐことができない、という第一の課題がある。また、金属製のウエハホルダの場合、ポリッシング研磨の際に供給される研磨剤により内部の金属イオンが外部に流出する、という第二の課題もある。
【解決手段】以上、第一および第二の課題を解決するために、研磨装置の定盤に対してウエハを保持するためのウエハホルダであって、ウエハ配置穴があけられ、少なくとも一部または全部がＤＬＣコーティングされている円盤体からなるウエハホルダを提供する。また、上記円盤体を、円盤状本体と、ウエハ配置穴を形成し円盤状本体に対して着脱可能としたウエハ配置リング部とから構成し、前記ウエハ配置リング部の厚さを、前記円盤状本体の厚さよりも厚く構成するウエハホルダも提供する。 （もっと読む）

【課題】酸化物粉末、磁性金属粉末等の高硬度粉末を含有する粉末を加圧成形する金属製金型において、優れた耐摩擦摩耗特性及び耐衝撃性を有する金型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも前記粉末を押圧する部位の金型表面を、粗面または放電加工による電極と金型基材との混合層と、前記粗面または前記混合層上に成形された０．３ＧＰａ以下の残留応力を有する非晶質炭素系硬質膜とから少なくとも構成する。これにより、高硬度で耐摩耗性があり、表面が平滑で摩擦係数が小さく、優れた離型性、耐薬品性・耐食性、摺動性という特性を有する上に耐衝撃性が向上した粉末成形金型が得られる。 （もっと読む）

【目的】液中に形成された気泡内にプラズマを発生させ、液中に活性イオン種を浸透拡散させる液中プラズマ発生方法及び液中プラズマ発生装置を提供する。
【構成】少なくとも一方が高電圧絶縁部６ｂと１つ以上の突出部を有する高電圧電極６からなる電極対を液体１４に浸漬し、この電極対間に高繰り返しの高電圧パルスを印加して前記高電圧電極６近傍の液体をジュール加熱するとともに連続的又は断続的に沸騰気化させ、この気化泡により前記高電圧電極６の突出部先端６ｃを少なくとも包囲する気化泡領域２８を形成し、前記高電圧パルス２６による前記気化泡内の高電圧絶縁破壊放電により前記気泡内の気化物を電離（プラズマ化）して各種イオンを形成し、このプラズマ中のイオン種を前記液体１４中に浸透拡散させることを特徴とする液中プラズマ発生方法及び液中プラズマ発生装置２である。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉ，Ｃｒ、Ｔｉ等の金属元素を含有した金属含有ＤＬＣ膜と称される硬質炭素系膜の除去方法において、機械装置の簡略化が可能であり、且つ金属含有ＤＬＣ膜の除去に要する時間も短い金属元素含有ＤＬＣ膜の除去方法を提供する。
【解決手段】材上に形成された金属元素を含有する硬質炭素系膜に対し、プラズマ中でイオン化若しくはラジカル化した際にフッ素イオン若しくはフッ素ラジカルを生じさせるガスを用い、そのガスから形成されたプラズマ中に該硬質炭素膜を暴露することを特徴とする硬質炭素膜の除去方法による。 （もっと読む）

【課題】 プラズマスイッチにて仮想陰極電子管を動作させるに必要な高電圧で且つ立ち上がりの速い電圧パルスを発生することができ、これによって高出力の電磁波を放射すること。
【解決手段】 コンデンサ群１０から供給される電流をＭＣ型爆薬発電機２０で増幅し、この増幅電流を電気エネルギーとして第１の空芯トランス３０に蓄積し、この電気エネルギーをプラズマスイッチ４０を通過させることで高電圧パルスとし、この高電圧パルスを第２の空芯トランス５０によって更に所定倍数増幅する。この高電圧パルスの電圧値が所定値になるとギャップスイッチ６０が作動し、これにて高速な立ち上がりパルス電圧波形が仮想陰極電子管７０へ印加される。ここで高出力の電磁波を発生してアンテナ８０から放射する。 （もっと読む）

【課題】大気圧下において被処理物表面又は被処理薄膜のプラズマ処理を高効率に行い、プラズマによる導電性・半導体性被処理物表面又は導電性・半導体性被処理薄膜の損傷を防止するプラズマ処理装置および方法を提供する。
【解決手段】電極間の距離が作動ガスの進行方向に沿って増大するグライディングアーク用電極対１８がプラズマ発生部４に配設され、プラズマ発生部４にプラズマを放射する射出口２０が設けられ、電極対１８の先端が射出口２０より内側に位置し、作動ガス供給手段により電極間に大気圧以上又は大気圧近傍の作動ガス１４が供給され、電圧印加時に電極間に生じるアーク４ａが電極間の開方向に移動するグライディングアークを発生させてプラズマを生成し、このプラズマを射出口２０から放射するプラズマ生成装置２を具備する。 （もっと読む）

【目的】 従来のプラズマ処理では困難であった物質固体表面の表面改質を行なうプラズマ生成装置及びプラズマ表面処理装置を提供する。
【構成】 電極間にプラズマを発生させるプラズマ発生部と、このプラズマ発生部に原料物質を供給する原料供給部から構成されるプラズマ生成装置において、前記原料物質が化学組成中にＯＨを有するＯＨ含有物質を少なくとも含み、前記原料供給部が前記ＯＨ含有物質をプラズマ発生部に供給するＯＨ含有物質供給手段から構成され、前記プラズマ発生部で生起されるプラズマがＯＨ分子、ＯＨイオン又はこれらから生成される二次粒子を少なくとも含有するＯＨ含有プラズマであるプラズマ生成装置と、このプラズマ生成装置によって生成されたＯＨ含有プラズマにより被処理物表面を処理して所望の表面特性を付与するプラズマ表面処理方法及びプラズマ表面処理装置である。 （もっと読む）