【課題】キャリア周波数の干渉により生じる深さ方向の像の不鮮明さや誤差を低減して、深さ方向の構造をより鮮明かつ高精度に観察・測定する。
【解決手段】周波数が異なる複数のレーザ光を発生する光源１１と、コム周波数間隔が可変で中心角周波数が異なる複数のコム光を順次生成するコム光生成装置１２からのコム光が順次入射され参照鏡からの戻り光と測定対象からの戻り光との干渉出力を、コム周波数間隔を掃引することにより複数回検出する光学干渉計１３と、複数のコム光の中心角周波数を設定し、コム周波数間隔を掃引し、所定の演算を行う演算制御部１４は、光学干渉計１３における参照鏡からの戻り光と測定対象からの戻り光との干渉出力を、コム周波数間隔を掃引することにより複数回検出し、各検出において得られた干渉成分の検出値から、測定対象の深さ方向の反射構率分布や散乱係数分布のみを取り出す演算を行うことで、測定対象の構造測定を行う。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能な干渉計、復調器および送受信器を提供する。
【解決手段】遅延干渉計は、基板２０１の上に配置されたハーフビームスプリッタ２０３と５角柱プリズム２０６，２０７と、を含む。ハーフビームスプリッタ２０３は、基板２０１にほぼ平行に入射する被測定光を２つの分岐光２０４，２０５に分岐する。５角柱プリズム２０６，２０７は、分岐光２０４，２０５の光軸が反射により基板２０１にほぼ垂直な方向に平行移動するよう、分岐光２０４，２０５をそれぞれ反射する。ハーフビームスプリッタ２０３は、５角柱プリズム２０６，２０７により反射された分岐光２０４，２０５（反射光２０８，２０９）を合波して、干渉光２１０，２１１を生成する。 （もっと読む）

【課題】トールボット干渉計のセンサ部の傾きを精度良く調整する。
【解決手段】トールボット干渉計は、光源１から発せられて被検光学系Ｌを通った光を、回折格子３および撮像素子４を含むセンサ部Ｍに導き、被検光学系の波面を計測する。該干渉計は、光軸ＯＡに沿った方向における被検光学系とセンサ部との位置関係を、波面の計測時とは異なる位置関係であって被検光学系の像点位置に撮像素子が配置されるように設定する機構７，８と、回折格子からの回折光の撮像素子上での光量分布を該撮像素子を用いて測定する測定部５と、光量分布の測定結果を用いてセンサ部の傾き補正量を算出する補正量算出部５と、傾き補正量に応じた光軸に対するセンサ部の傾き調整を行う機構９とを有する。 （もっと読む）

【課題】アッベ誤差を解消できる位置決め装置を提供する。
【解決手段】スライダに搭載されたレーザ干渉計と、固定ミラーとを備え、前記レーザ干渉計と前記固定ミラーとの間で往復するレーザ光を用いてレーザ干渉に基づく測長を行うことで前記スライダを位置決めする位置決め装置である。前記レーザ干渉計から得られた直線偏光のレーザ光を折り曲げることで、そのレーザ光の光路を変更させるミラーと、前記ミラーを経由した前記レーザ光を円偏光のレーザ光に変換して前記固定ミラーに照射するλ／４板と、を備える。 （もっと読む）

本発明は、制御可能なファブリ・ペロー干渉計に関し、この干渉計は微小機械（ＭＥＭＳ）技術によって製造される。従来技術の干渉計の製造は、犠牲層（１２３）のエッチングの間のミラーの劣化のリスクを含む。本発明による解決法に従えば、ミラーの少なくとも１つの層（１０３、１０５、１１４、１１６）は、ケイ素リッチな窒化ケイ素から成る。この発明的なファブリ・ペロー干渉計においては、ミラー層における酸化ケイ素の使用を回避または減少させることが可能であり、それによりミラーの劣化のリスクが減少する。また、高い粗さのミラー表面を使用することも可能であり、それによりミラーが互いに貼り付いてしまうというリスクが減少する。 （もっと読む）

【課題】 迷光の混入を防止して高精度に干渉計測を行うことのできる光学ユニットを提供する
【解決手段】 光学ユニット（３０１）は、相互に偏光面が直交する第１の偏光（Ｅ１）及び第２の偏光（Ｅ２）の一方を透過させて他方を反射させる第１偏光分離面（Ｓ１１）及び第２偏光分離面（Ｓ１２）を含み、第１ビーム及び第２ビームを相互に分離して異なる方向に射出させる偏光分離部（２０１）と、該第１ビームの偏光状態を変化させる第１偏光変換部（１５）と、偏光分離部から射出した第２ビームを反射して偏光分離部に再入射させる固定反射部（１８）と、該第２ビームの偏光状態を変化させる第２偏光変換部（１７）と、第１ビーム及び第２ビームを、各々その入射位置と異なる射出位置から各々その入射方向に逆向きに射出させて偏光分離部に再入射させるリトロレフレクター（１４）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】追尾式レーザ干渉計を動かすことなく、簡便な構成により、測定範囲の拡大や特異点における測定精度の向上を可能とする。
【解決手段】入射された測定光を反射して入射方向に戻すための再帰的反射体２０と、測定光を出射する手段、前記再帰的反射体で反射され戻ってくる戻り光を受光する受光手段３０、測定光と戻り光の両光軸の距離が常に一定となるように測定光の出射方向を制御する出射方向制御手段４０を有する本体１０と、を有し、前記本体内の基準点と再帰的反射体との距離の増減に応じて測定値を出力する追尾式レーザ干渉計において、前記本体１０と再帰的反射体２０との間の光路中に、少なくとも１つの光反射手段８０を配置して、前記測定光及び戻り光の光軸の方向を変化させる。 （もっと読む）

一態様において、本発明は、干渉計測アセンブリに相対的に測定物体を移動させながら３つの異なる測定軸のそれぞれにそって干渉計測アセンブリと測定物体との間の距離を干渉計測法により監視すること、測定軸に非平行な回転軸に関して測定物体の配向角度を監視すること、測定物体の異なる位置に対する、与えられた位置について３つの異なる測定軸のそれぞれにそった測定物体の距離に基づくパラメータの値を決定すること、少なくともそれらのパラメータ値の周波数変換から測定物体の表面形状プロファイルに関する情報を導き出すことを含む方法を特徴とする。情報を導き出すことは、所定の情報に基づき誤差の配向角度を補正すること、測定物体の運動中に監視された配向角度のバラツキを説明することを含む。
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【課題】干渉効率或るいはビジビリティの低下の原因となる干渉光を特定し，特定した干渉光を除去することにより干渉効率或るいはビジビリティの低下を軽減することが可能な干渉計及び該干渉計を用いたフーリエ分光装置を提供すること。
【解決手段】ビームスプリッタ３により生成された干渉光の波面画像を検出器１４で連続的に撮像し，撮像された連続波面画像に基づいて該連続波面画像における複数の分割領域（領域α，β，γ）ごとの干渉光波の位相差を算出し，算出された位相差に基づいて複数の分割領域ごとの干渉光波の同期性を判定し，同位相であると判定された干渉光のみを透過させるように，生成された所定位相の干渉光のみを透過させる透過制限装置６を制御する。 （もっと読む）

【課題】干渉計においてステージの回転による基準ビームと測定ビームのずれを最小限に抑える。
【解決手段】第１の方向（Ｚ）に沿った変位を測定するための干渉計システム１００、１００Ａ、４００は、（１）第１の方向に沿って移動するステージ１０８に取り付けられた測定ルーフ状光学部品１０４、４０４（例えばポロプリズム）と、（２）（ａ）測定ルーフ状光学部品に対向する第１の面１０５および（ｂ）該第１の面の反対側の第２の面１０９を備えた偏光ビームスプリッタ１０３と、（３）測定ルーフ状光学部品と偏光ビームスプリッタの第１の面との間に配置された第１の波長板１０６、４０６と、（４）偏光ビームスプリッタの第１の面とは反対側に配置された方向転換光学部品１１０とを含む。システムを通る測定光路は、第１の方向および該第１の方向に対して垂直な第２の方向（ＹまたはＸ）によって画定される平面内に位置するセグメントのみで構成される。 （もっと読む）

【課題】構成簡易でコンパクトな光学系を備え、かつ光学系の調整を容易に行なうことが可能な波面測定用干渉計装置、および光ビームの波面測定と光ビームスポットの特性測定とを行なうことが可能な光ビーム測定装置および方法を得る。
【解決手段】光ビーム測定装置１０Ａは、光源部１１から射出された光ビームを２つの光束に分離するビームスプリッタ１３と、分離された一方の光束の一部を被検光束として入射方向と逆向きに反射する半透過反射面１５ａと、半透過反射面１５ａを透過した光束の一部を波面整形された基準光束に変換して射出する反射型の基準光生成手段２３とを備えており、光ビームの波面測定と光ビームスポットの特性測定とを行なうことができる。 （もっと読む）

本発明は、変調干渉計（２）と、この変調干渉計（２）と空間的に分離されており且つ変調干渉計（２）と光ファイバ装置（６）を介して結合されているまたは結合可能な測定センサ（３）と、供給されるビームを電気信号に変換し、該信号を位相差に基づき評価する受信装置および評価ユニットとを有する、測定対象（８）の表面の形状、粗さまたは距離を検出する干渉測定装置に関する。正確な表面測定が光学的なセンサ軸（３．５）に対する射出面（３．４）の傾斜角度（γ）が少なくとも４６°であることによって達成される。
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本発明は、変調干渉計（２）と、この変調干渉計（２）と空間的に分離されており且つ変調干渉計（２）と光ファイバ装置（６）を介して結合されているまたは結合可能な測定センサ（３）と、供給されるビームを電気信号に変換し、該信号を位相差に基づき評価する受信装置および評価ユニットとを有する、測定対象（８）の表面の形状、粗さまたは距離を検出する干渉測定装置に関する。狭い孔においても信頼に足る測定を実施できるための有利な構造は、部分透過性領域（３．３）が、光学的なセンサ軸（３．５）に関して射出角度（α）で傾斜されている、センサファイバ（３．１）の射出面（３．３１）と、同様に光学軸（３．５）に関して入射角度（β）で傾斜されている、対象側に続くファイバ部分（３．２）の入射面（３．３２）とを用いて形成されており、射出面（３．３１）と入射面（３．３２）との間には楔状の空隙が形成されていることによって達成される。
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総じて、一態様では、本発明は、干渉部品と測定物体との間の距離を、３本の異なる測定軸の各々に沿って、測定物体を光学干渉部品に対して移動させながら、干渉法を利用して監視するステップと、測定物体の監視距離からの異なる位置に対する第１パラメータおよび第２パラメータの値を決定するステップであって、所与の位置に対して、第１パラメータは、所与の位置において３本の異なる測定軸の各々に沿った測定物体の監視距離に基づき、所与の位置に対して、第２パラメータは、所与の位置において測定軸の内２本の各々に沿った測定物体の監視距離に基づく、ステップと、第１および第２パラメータ値から測定物体の表面形状プロファイルに関する情報を導出するステップとを含む方法を特徴とする。
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一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
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