【課題】被計測物が様々な屈折率で、かつ様々な厚さの透明媒質の下に配置されていても、その被計測物の高さを容易に計測する。
【解決手段】高さ計測装置１は、照明光から分岐された第１照明光を被計測物６に導く対物レンズ２４と、照明光から分岐された第２照明光を参照ミラー２８に導く対物レンズ２６と、第２照明光の光路長を調整する移動部３６と、被計測物６及び参照ミラー２８で反射される２つの照明光の干渉像を撮像する高速度カメラ１２と、対物レンズ２４と被計測物６とを光軸方向に相対移動するピエゾ駆動装置１８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】参照光の位相設定精度に限界がある場合でも、測定対象物による位相シフト量を用いた計測する光位相測定装置を提供する。
【解決手段】コヒーレント光源８１、光源よりの光波を２分岐する光分岐手段８２、光波のうちの参照光波８９を周波数ωｍで位相変調する位相変調手段８３ａ、分岐された後に被測定対象物８５を透過又は反射した信号光波と位相変調された参照光波８９とを合成する光合成手段９７と、合成された干渉光の強度を測定する光強度測定手段８８を有する光干渉計を備えた光位相測定装置で、干渉光の強度を一定の時間に亘って取得し、取得した時系列の強度信号をフーリエ変換し、位相変調の周波数ωｍの整数倍の周波数成分のうち少なくとも２つの成分の光強度を演算して、位相変調手段の変調指数ｍを同定して、該変調指数ｍに基づいて前記被測定対象物８５による信号光波の位相変化量φを算出する演算手段９５を備えた光位相測定装置。 （もっと読む）

【課題】光路長差が小さくなっても被加工物の厚みまたは上面高さ位置を正確に計測することができる計測装置を提供する。
【解決手段】被加工物保持手段に保持された被加工物の基準面から上面までの距離を計測する計測装置であって、被加工物の上面で反射した反射光と基準面で反射した基準反射光を受光したイメージセンサーからの検出信号に基づいて分光干渉波形を求め、この分光干渉波形における各波長毎の隣接する１またはｎ個隣の光強度との差を演算して分光干渉差分波形を求め、分光干渉差分波形と理論上の波形関数に基づいて波形解析を実行し、被加工物の上面で反射した反射光の光路長と基準面で反射した基準反射光の光路長との光路長差に基づいて被加工物の基準面から上面までの距離を求める。 （もっと読む）

【課題】本発明は、構成が単純であり、正確な絶対距離測定結果を経済的に提供できる固定波長絶対距離干渉計の提供。
【解決手段】第１の光源と波面半径検出器と波面半径検出器における測定結果から低解像度絶対光路長Ｒを求める第１の固定波長絶対距離干渉計と、合成測定波長Λを有する第２の干渉計光ビームを送出するビーム送出手段と前記第２の干渉計光ビームを参照ビームと測定ビームとに分割するとともに、戻ってきた参照ビームと測定ビームとを重ね合わせるビーム分割／重ね合わせ手段と記重ね合わせビームを受光して位相φを示す信号を発生する第２の干渉計検出器と前記重ね合わせビームの波数Ｎ_Λ、波長Λ、および位相φに基づいて中解像度絶対光路長測定値Ｚ_Ｍを求めるように構成された第２の光路長計算部を備える第２の干渉計と、を有する固定波長絶対距離干渉計。 （もっと読む）

【課題】 測定後の原点を高精度に設定することができ、被測定物の変位情報（絶対変位情報）を高精度に測定することができる干渉測定装置を得ること。
【解決手段】 第１光源手段からの第１の光束と第２光源手段からの第２の光束を合波する第１の合波手段と、第１の光束と第２の光束が合波された光束を、２つの光束に分割し、一方の光束を被測定物の測定面に入射させ、他方の光束を参照面に入射させ、測定面からの反射光束と参照面からの反射光束を合波する光学系と、
測定面と参照面からの反射光束とに含まれている分割された２つの第１の光束により形成される光束と、２つの第２の光束により形成される光束を受光する受光手段と、
受光手段で受光した第１の光束に基づく第１の信号と受光手段で受光した第２の光束に基づく第２の信号とを用いて測定原点を決定する決定手段を有すること。 （もっと読む）

【課題】回転対称な線織面で構成される被検面の形状等を短時間で測定することが可能な光波干渉測定装置を得る。
【解決手段】回転軸Ｒ_２回りに回転せしめられる被検レンズ９の被検面（コバ部表面９５、嵌合面９８、嵌合部底面９９）に対し、顕微干渉計１から測定光軸Ｌに沿って収束しながら進行する低可干渉性の測定光を照射し、被検面の回転位置毎に対応した各回転位置別干渉縞を第１撮像カメラ２４の１次元イメージセンサ２３により撮像する。この各回転位置別干渉縞の画像データに基づき被検面の形状が解析される。 （もっと読む）

【課題】分光器の分解能が異なる場合に発生するコントラスト差を補正する。
【解決手段】光源から照射された測定光の対象物体からの戻り光と、光源から照射された参照光のミラーからの戻り光とを合波して、分光器により分解されて検出された波長スペクトルに基づいて対象物体の断層像を構成する構成部を備える光干渉断層撮像装置であって、分光器の分解能を含む対象物体の測定条件を選択する選択部と、構成部により構成された断層像の光強度を、選択部により選択された分光器の分解能ごとに予め定められた伝達関数によって規格化する規格化部と、規格化部により規格化された断層像の光強度から画像を形成する画像形成部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 大口径の被検光学系の面形状を測定する波面形状測定方法、及び大口径の被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定装置を提供する。
【解決手段】被検光学系の面形状を測定するための波面形状測定方法において、重力方向に伸びた回転軸（ＫＪ）を中心に液体（ＥＴ）を入れた容器（ＹＫ）を回転させることにより、重力方向に凹んだ回転放物面の液体反射面（ＥＨ）を形成する液体反射面形成工程と、反射平面（ＨＭ）を有する基準平面鏡（ＫＨ）を液体反射面に対向するように配置する工程と、干渉計（ＫＳ）から可干渉性を有する光束を液体反射面に照射し、液体反射面で反射された光束が基準平面鏡で反射され、再び液体反射面を経由して干渉計に戻った光束を干渉させて、基準平面鏡の面形状を測定する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】表面の干渉分析の方法とシステムを提供する。
【解決手段】物体の空間的特性を決定するための方法には、２つ以上の界面を含む測定物体からの走査低コヒーレンス干渉信号を得ることが含まれる。走査低コヒーレンス干渉信号には、２つ以上の重なり合う低コヒーレンス干渉信号（それぞれ個々の界面に起因する）が含まれる。低コヒーレンス干渉信号に基づいて、少なくとも１つの界面の空間的特性が決定される。場合によって、決定は、低コヒーレンス干渉信号のサブセットに基づき、信号の全体に基づくのではない。あるいはまたは加えて、決定は、低コヒーレンス干渉信号を得るために用いられる干渉計の機器応答を示す場合があるテンプレートに基づくことができる。 （もっと読む）

【課題】非球面形状を高精度に測定する際に、被測定物の着脱が正確な位置に作業性よく行える測定装置を提供する。
【解決手段】被測定物１０を保持する被測定物保持機構Ａと、測定光を照射して光干渉測定を行う干渉光学系２を有する干渉光学機構Ｂとは、それぞれ相対的に移動可能に設置されてなり、被測定物保持機構Ａに被測定物１０を先端に保持しエアスピンドルによる回転機構７０で回転駆動されるサンプルステージ６と一体に回転する回転体６４を設けるとともに、該回転体に形成された凹状の係合部６４ａに係合してその回転を規制する規制機構６５を設け、被測定物の着脱時にはサンプルステージの回転を規制する。 （もっと読む）

【課題】チャックテーブルに保持された半導体ウエーハ等の被加工物の上面位置を計測する計測装置および計測装置を装備したレーザー加工機を提供する。
【解決手段】発光源からの光を第１の経路に導くとともに第１の経路を逆行する反射光を第２の経路に導く第１の光分岐手段と第１の経路に導かれた光を平行光にし、この平行光を第３の経路と第４の経路に分ける第２の光分岐手段と第３の経路に配設され第３の経路に導かれた光を被加工物に導く対物レンズと、第２の光分岐手段と対物レンズとの間に配設された集光レンズと、第４の経路に導かれた平行光を反射し、この反射光を逆行せしめる反射ミラーと、第２の経路に導かれた反射光を回折する回折格子と、回折光の所定の波長域における各波長の逆数の光強度を検出するイメージセンサーと、検出信号からの分光干渉波形と理論上の波形関数に基づくフーリエ変換理論による波形解析を実行する制御手段とを具備している。 （もっと読む）

【課題】 手持ち式分光計に組み込むことができる干渉計を開示する。
【解決手段】 干渉計は、包囲光路光学部品群と検出器を有し、包囲光路光学部品群は少なくとも２つの反射素子（２２１、２２２）とビームスプリッタ（２１０）を有し、ビームスプリッタは入力ビーム（２０５）を第１および第２ビーム（２３１、２３２）へ分割する。包囲光路光学部品群は第１および第２のビームを、領域を包囲する光路の逆方向に周回させ、第１および第２のビームを検出器（２５０）に向けて出力する。検出器は第１および第２のビームの干渉により生じたパターンを検知する。好ましい実施例では、２つの反射素子は一対の凹面鏡であり、包囲光路光学部品群は三角形の領域を包囲する。反射および結像のために凹面鏡を使用するので干渉計は小型になる。 （もっと読む）

【課題】アッベ誤差を解消できる位置決め装置を提供する。
【解決手段】スライダに搭載されたレーザ干渉計と、固定ミラーとを備え、前記レーザ干渉計と前記固定ミラーとの間で往復するレーザ光を用いてレーザ干渉に基づく測長を行うことで前記スライダを位置決めする位置決め装置である。前記レーザ干渉計から得られた直線偏光のレーザ光を折り曲げることで、そのレーザ光の光路を変更させるミラーと、前記ミラーを経由した前記レーザ光を円偏光のレーザ光に変換して前記固定ミラーに照射するλ／４板と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ノイズ耐性が大きく、比較的短時間で位相つなぎを実行できる２次元位相データの位相つなぎ方法および、これを用いた干渉測定装置を提供する。
【解決手段】本発明は２次元の位相分布を表す位相データに含まれる位相ジャンプを補正するための位相つなぎ方法であって、ある測定点および該測定点の周囲にある複数の測定点を用いて局所的な近似面を生成する手法を用いて、各測定点に関連した複数の近似面を構築するステップ（ｓ２〜ｓ４）と、隣接する近似面の間に位相ジャンプがある場合、一方の近似面に対して位相２πを加算または減算することによって近似面の位相つなぎを行い、参照近似面を生成するステップ（ｓ５）と、参照近似面と該参照近似面の生成に使用した測定点との間に位相ジャンプがある場合、この測定点に対して位相２πを加算または減算することによって測定点の位相つなぎを行うステップ（ｓ６〜ｓ９）等を含む。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成により、参照ミラーを僅かに傾斜させるだけで、ウェハなどの試料（被測定物）の表面形状を計測し、ごみやポールピースなどの正確な座標位置を特定し、電子顕微鏡、描画装置などの荷電粒子ビーム装置にその正確なデータを送受信して、作業効率の向上に一層貢献することができる干渉顕微鏡及び測定装置を提供する。
【解決手段】ウェハなどの試料にレーザ光を照射し、干渉計を用いて、試料の表面内部を観察検査する干渉顕微鏡及び測定装置において、ビームスプリッターと参照ミラーとの間に光を導光するための参照光路を設けるとともに、ビームスプリッターと試料との間に光を導光するための測定光路を設けて、参照光路と測定光路において光学的光路差を設ける。しかも、参照ミラーを微小量傾けることによって、検出手段に干渉縞を形成する。 （もっと読む）

【課題】平面状の大型被検面の形状および平行平板状の被検体の２つの被検面の形状を短時間で高精度に測定できるようにする。
【解決手段】被検面８０を回転軸Ｒ回りに回転可能に構成するとともに、干渉計本体部１を被検面８０に対し移動可能に構成し、回転する被検面８０上を被観察領域が移動するようにする。被観察領域が前記被検面内を移動する間に、干渉光を１次元イメージセンサにより順次取り込み、該干渉光により形成される直帯状の観察位置別干渉縞を順次撮像し、撮像された各々の前記観察位置別干渉縞に基づき、被検面８０の形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】被検体の表面および裏面の各形状を、互いの相対的な位置関係を正確に把握しつつ高精度に測定する。
【解決手段】回転軸Ｒ_２回りに回転せしめられる被検レンズ９に対し、顕微干渉計１の相対姿勢を変えながら行う形状測定を、被検レンズ９が裏面側から支持された状態で行う表面部の測定と、被検レンズ９が表面側から支持された状態で行う裏面部の測定とに分けて行う。表面部の測定により求められたコバ部側面９７の第１の形状情報と、裏面部の測定により求められたコバ部側面９７の第２の形状情報とを互いに照合することにより、被検体表面と被検体裏面との相対位置関係を求める。 （もっと読む）

【課題】平面状の大型被検面の形状を短時間で高精度に測定できるようにする。
【解決手段】回転角度が順次変動する被検面８０に第１の光束が照射される期間、第１の光束と第２の光束との仮想光路長差を回転角度の変動に応じて周期的に変動させる。この変動期間内において、第１の光束と第２の光束との干渉光を１次元イメージセンサ２６により順次受光し、受光した干渉光の光強度を１次元イメージセンサ２６の画素毎にそれぞれ検出する。この光強度が最大となる各時点に対応した回転角度および仮想光路長差の各値に基づき被検面８０の形状情報を求める。 （もっと読む）

【課題】測定値の信頼性に関する新たな情報を提供できるようにする。
【解決手段】カーブフィッティング法において理論干渉波形毎に得られる各フィッティングレベルと、各フィッティングレベルにそれぞれ対応する各理論干渉波形の膜厚との相関を示す相関図３６を作成して表示するとともに、膜厚むらによって変化する相関図３６の波形の谷部のピーク値について、しきい値Ｌ１，Ｌ２を設定し、谷部のピーク値が、しきい値Ｌ１，Ｌ２で規定される警報範囲に入ったときには、安定に測定が行われていないとして警報を出力するようにしている。 （もっと読む）