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Fターム[2F064HH09]の内容

光学的手段による測長計器 (11,246) | 検出部 (1,361) | 受光素子の数、形態 (761) | 撮像管 (43)

Fターム[2F064HH09]に分類される特許

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【課題】 複数波長による表面形状の測定方法およびこれを用いた装置によって測定する場合に発生するクロストーク現象のクロストーク補正係数を算出する。
【解決手段】 測定対象面の平面領域内から輝度の異なる6点以上の干渉輝度信号を取得し、前記輝度信号に干渉縞モデルとクロストークモデルとの組み合わせを適合(フィッティング)することにより、クロストーク補正係数を一括して算出するクロストーク補正係数算出方法、また、該方法を実行できる装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】より簡単に画像測定機の校正を行うことができるようにする。
【解決手段】標準尺51は、被検物を撮像して得られた観察画像に基づいて被検物の部位間の距離を測定する画像測定機の校正に用いられる校正器である。標準尺51には、原点からの長さを示す目盛101と、目盛101の真値を得るための器差が内包されているコード102が設けられている。画像測定機の校正時には、画像測定機によりコード102の読み込みとデコードがされ、これにより得られた器差から目盛101の真値が算出される。そして、画像測定機により各目盛101を対象とした距離測定がされ、その測定結果と、コード102から得られた真値とから、画像測定機の測定誤差が求められる。目盛101の真値を得るためのコード102を標準尺51に設けることで、より簡単に校正を行うことができるようになる。本発明は、観察システムに適用することができる。 (もっと読む)


【課題】被検物に対する被検面の形状測定データの座標を高精度に求めること。
【解決手段】マーク形成工程(S1)と、形状測定工程(S2)と、マーク検出工程(S3)と、座標算出工程(S4)とからなる干渉計測方法であり、S1のマーク形成工程では、被検物の被検面に基準マークを形成する。マーク検出工程では、形状測定工程で得られた形状測定データからエリアセンサの座標系を基準とする基準マークの位置を検出する。座標算出工程では、マーク形成工程にて形成された被検物の座標系を基準とする基準マークの位置情報と、マーク検出工程にて検出されたエリアセンサの座標系を基準とする基準マークの位置情報との対応関係を求める。この対応関係に基づき、形状測定工程により得られた形状測定データを被検物の座標系に変換する演算を行う。 (もっと読む)


【課題】高精度に光学素子の収差を測定する。
【解決手段】2光束干渉計100Aは、参照光の光路に配置され、円偏光の回転方向を逆にすると共に円偏光の位相をシフトする半波長板104と、半波長板を回転することによって位相シフト量を変更する半波長板回転手段111と、被検光の光路に沿って被検物Oの前後に配置され、円偏光を直線偏光に変換する一対の1/4波長板106a及び106bと、両1/4波長板が同一方向の進相軸を有するように両1/4波長板を回転する回転手段112及び113と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ノイズ耐性が大きく、比較的短時間で位相つなぎを実行できる2次元位相データの位相つなぎ方法および、これを用いた干渉測定装置を提供する。
【解決手段】本発明は2次元の位相分布を表す位相データに含まれる位相ジャンプを補正するための位相つなぎ方法であって、ある測定点および該測定点の周囲にある複数の測定点を用いて局所的な近似面を生成する手法を用いて、各測定点に関連した複数の近似面を構築するステップ(s2〜s4)と、隣接する近似面の間に位相ジャンプがある場合、一方の近似面に対して位相2πを加算または減算することによって近似面の位相つなぎを行い、参照近似面を生成するステップ(s5)と、参照近似面と該参照近似面の生成に使用した測定点との間に位相ジャンプがある場合、この測定点に対して位相2πを加算または減算することによって測定点の位相つなぎを行うステップ(s6〜s9)等を含む。 (もっと読む)


【課題】縞感度の正確な値を容易に得ることができ、高精度に測定できる斜入射干渉計を提供すること。
【解決手段】プリズム底面141に対する予備測定用光の入射角θを変更し、撮像手段16にて検出される合成光の参照光領域の強度に基づいて入射角θが臨界角θC1となる状態を検出する。続いてプリズム底面141に対する入射角θを前記臨界角θC1に固定する。この臨界角θC1でプリズム底面141に測定用光を入射する。測定用光は予備測定用光より波長が長いので、一部の光がプリズム底面141を透過し合成光が形成される。この合成光に基づいて被測定面Sを測定する。縞感度の値は、予備測定用光および測定用光の波長から正確に定まるので、被測定面Sに対する入射角θを直接測定する必要がなく、容易に該縞感度の正確な値を得ることができる。該縞感度で測定することで高精度に測定できる。 (もっと読む)


【課題】干渉計において、被検体の光軸調整作業を円滑かつ高精度に行うことができるようにする。
【解決手段】干渉計1は、参照面反射光Lおよび被検面反射光Lを集光するコリメータレンズ5と、参照面反射光Lおよび被検面反射光Lの光路を、第1光路Pおよび第2光路Pに分岐するハーフプリズム17と、干渉縞の像を光電変換して第1の映像信号を取得する干渉縞カメラ12と、ピンホール18aとスクリーン部18bとを有するスクリーン板18と、スクリーン板18の像を光電変換して第2の映像信号を取得するスポットカメラ16と、ピンホール18aを通過する光を受光する受光素子19と、映像信号を表示する表示部13と、受光素子19の出力値に応じて、第1および第2の映像信号のいずれかを選択的に切り替えて表示部13に供給する信号選択部23とを備える。 (もっと読む)


【課題】白色干渉計測装置において、比較的短時間でカラー画像を取得し、かつ同時に複数の波長を使用して高さ情報を求める。
【解決手段】白色干渉計測装置(1)は、対象物(600)に対して、相互に異なる波長を夫々有する第1光、第2光及び第3光を相互に独立に照射可能な照明手段(110)と、照明手段から照射された第1光、第2光及び第3光の各々の光路に配置された干渉対物レンズ(130)と、対象物を撮像可能な撮像手段(120)と、対象物及び干渉対物レンズ間の距離を変更可能な距離変更手段(140)と、距離を連続的に変更するように距離変更手段を制御しつつ、第1光、第2光及び第3光の各々を、所定の時間間隔で順次照射するように照明手段を制御すると共に、干渉対物レンズを介し、第1光、第2光及び第3光の各々の照射と同期して対象物のモノクローム干渉画像を複数撮像するように撮像手段を制御する制御手段(250)とを備える。 (もっと読む)


【課題】測定用プローブの動きの検出方法および測定機器を提供する。
【解決手段】予め定められた像平面上に物体平面を結像するようになされた対物レンズと前記物体平面との間に設けられた測定用プローブの動きを検出するための方法が開示されている。さらに、対物レンズと測定用プローブとを含む測定機器が開示されている。光の入射ビームを測定ビームおよび参照ビームに分割する。対物レンズによって測定ビームをコリメートさせるために、測定ビームを対物レンズの後側焦点面に集光させる。コリメートされた測定ビームを測定用プローブにおいて反射させる。対物レンズが反射測定ビームを後側焦点面に集光させるようにするために、反射測定ビームを対物レンズの方へ向ける。反射測定ビームがコリメートされる。コリメートされた測定ビームおよび参照ビームを重ね合わせて重畳ビームを生成し、反射測定ビームと参照ビームとの間の干渉を検出する。 (もっと読む)


【課題】機械的な動作を低減することによって測定に要する時間を短縮し、且つモーションアーチファクトを抑制できる干渉測定装置を提供する。
【解決手段】干渉測定装置1は、複数の波長成分を含む光Pを出力する光源11と、第1分岐光Pが被測定物9により反射されて生じる第1反射光Rと第2分岐光Pが反射ミラー73により反射されて生じる第2反射光Rとを干渉させて当該干渉光RIを出力する干渉光学系と、第1分岐光Pの光路上に設けられた第1レンズ21と、第2分岐光Pの光路上に設けられた第2レンズ22と、干渉光RIの干渉パターンを撮像する撮像部51とを備える。第1レンズ21による各波長成分の焦点位置は第1レンズ21の軸上色収差に起因して第1分岐光Pの光軸方向に並んでおり、各波長成分毎に異なる光軸方向位置における干渉パターンを撮像部51において撮像する。 (もっと読む)


【課題】曲率半径測定装置において、大気の揺らぎに起因するレーザ干渉測長器の測定誤差を低減することができ、曲率半径の測定精度を向上することができるようにする。
【解決手段】曲率半径測定装置100は、可干渉性の光束を参照面で参照光と測定光とに分割し、この測定光を曲面からなる被検面8aに向けて集光位置Pに収束するように照射し、被検面8aの被検面反射光Lと参照光とを干渉させて干渉縞を観察する干渉計2と、干渉計2の光軸C方向に沿って集光位置Pに対する被検面8aの相対位置を変化させる移動機構14と、移動機構14によって移動される反射鏡に測長光を照射して移動距離測定を行うレーザ干渉測長器10と、レーザ干渉測長器10と反射鏡との間で、測長光の光路に沿う方向に伸縮可能とされ、測長光の光路を側方から囲繞する蛇腹カバー9とを備える。 (もっと読む)


【課題】平行平面板の被測定面に対して高精度な測定を行うことが可能な干渉測定方法を提供する。
【解決手段】所定の参照面6aおよび平行平面板5の被測定面5aに、互いに干渉しない異なる波長を有する2種類の可干渉光を照射する第1のステップと、2種類の可干渉光が照射された参照面6aおよび被測定面5aからの反射光に基づいて形成される干渉縞を検出する第2のステップと、検出した干渉縞の光強度分布に基づいて被測定面5aの高さを測定する第3のステップとを有し、平行平面板5における被測定面5aと反対側の面5bからの反射光の影響を排除するように2種類の可干渉光における波長の関係および、参照面6aと被測定面5aとの間の光学距離を調整するようになっている。 (もっと読む)


【課題】被測定体によって形成される光束の波面を高精度(例えば、高空間周波数のうねり成分まで)、且つ、短時間で測定することができる測定方法を提供する。
【解決手段】参照面を有する光学系と、検出面を有する検出部とを備え、前記光学系によって前記検出面に形成される被測定体又は基準面からの被検光束と前記参照面からの参照光束との干渉パターンを前記検出部で検出する測定装置を用いて、前記被測定体によって形成される光束の波面を測定する測定方法であって、前記測定装置における位相伝達関数及びパワースペクトル密度を用いて、前記測定装置による測定結果から前記光学系に起因する波面誤差を分離する測定方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】フーリエ変換法による波形解析においてデータ範囲の有限性などに起因するリップル状の解析誤差を確実に抑える。
【解決手段】本発明の波形解析方法は、フーリエ変換法を利用した解析処理を入力波形へ施すことにより、その入力波形の各成分を算出する本解析手順(S11)と、本解析手順で算出された各成分を基礎データとした関数フィッティングにより、各成分が既知のモデル波形を作成するモデル作成手順(S14、S15)と、モデル作成手順で作成されたモデル波形へ本解析手順と同じ解析処理を施すことにより、そのモデル波形の特定成分を算出するテスト解析手順(S16)と、テスト解析手順で算出された特定成分とモデル波形の実際の特定成分との差異を、テスト解析手順の特定成分に関する解析誤差として算出する誤差算出手順(S17)と、誤差算出手順で算出された解析誤差に基づき本解析手順で算出された特定成分を補正する補正手順(S21)とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 光学素子を介して得られる干渉縞に不明瞭な部分がある場合でも、不明瞭の部分の透過波面を精度よく算出することができる波面計測方法及びそれを用いた波面計測装置を得ること。
【解決手段】 被検物を透過した光束の透過波面を算出する波面計測方法において、光束を被検物に第1の角度で入射させ、透過した光束を用いて形成した干渉縞画像から2次元位相画像を算出する位相算出工程と、該位相算出工程で算出された2次元位相画像から干渉度合の違いに基づいてマスクを生成するマスク生成工程と、被検物に光束を第1の角度と異なる第2の角度で入射させ、透過した透過波面を第1の角度における透過波面に合致するように変換する波面変換工程と、前記位相算出工程で算出された2次元位相画像及びマスク生成工程で生成されたマスク及び波面変換工程からのデータをもとに位相接続を行う位相接続工程と有すること。 (もっと読む)


【課題】干渉計において、構成を簡素化することができ、光軸調整後に迅速に干渉縞観察を行うことができるようにする。
【解決手段】レーザ光源2からのレーザ光Lを参照レンズ6の参照面6aと被検体20の被検面20aとに照射し、参照面反射光Lと被検面反射光Lとを重畳して干渉させて干渉光束を形成し、この干渉光束の干渉縞の像を観察する干渉計1であって、干渉光束の入射方向側の表面が反射面9bとされ、その中心部に干渉光束を透過させる開口9aが形成された絞り板9と、干渉光束の光路上で、絞り板9の反射面9bと対向して配置されたハーフミラー面8aと、絞り板9の開口9aを透過した光を集光する撮像レンズ10と、撮像素子11とを備え、撮像レンズ10は、ハーフミラー面8aを介して、反射面9bと撮像面11aとを共役の関係にするように設けられた構成とする。 (もっと読む)


【課題】フィゾー型干渉計を用いた装置を用いて、微小径略半球レンズの面精度測定とレンズ表面の欠陥観察とを高精度に行うことの可能な面精度測定及び表面欠陥観察装置、並びに面精度測定及び表面欠陥観察方法を提供する。
【解決手段】フィゾー型の干渉計光学系を用いた、被検レンズ7の被検面の面精度測定と被検面の欠陥観察をする装置である。被検レンズ7の位置調整に際し、被検レンズ7の位置を確認可能に構成された第一の光束制御板8と、中心に開口部8a、周囲に遮蔽部8bを有する第二の光束制御板8と、中心に遮蔽部8a、周囲に開口部8bを有する第三の光束制御板8とを有し、これらの光束制御板のうち所望の光束制御板を干渉計光学系の参照面5aからの反射光の集光点Pを含む干渉計光学系の光軸Zに対して垂直な仮想平面上に挿脱可能な光束制御手段8を備える。 (もっと読む)


【課題】高精度かつ広ダイナミックレンジで被測定物の表面形状を測定することができる干渉測定装置を提供する。
【解決手段】干渉測定装置1は、光源11,12、レンズ21〜25、アパーチャ31、光合波器41、光分波器42、ハーフミラー43、撮像部51、解析部52、受光部61、変位検出部62、ピエゾアクチュエータ71、駆動部72、ミラー73、ステージ81、駆動部82および制御部90を備える。制御部90は、変位検出部62による光路長差検出結果に基づいて、光路長差が複数の目標値に順次になるように、駆動部72,82を介してピエゾアクチュエータ71およびステージ81による光路長差調整動作を制御する。制御部90は、ステージ81による移動動作の際にも、光路長差が各目標値になるようにピエゾアクチュエータ71による移動動作をフィードバック制御する。 (もっと読む)


【課題】干渉計の部品、構成の変更や大掛かりな補正をすることなく、被測定物の複数の被測定個所の寸法を正確に測定できる寸法測定方法を提供する。
【解決手段】光波干渉を用いて、予備値が既知の被測定物の相対向する端面間の寸法を、複数の被測定個所において測定する寸法測定方法であって、平行光線を直進光と参照光とに2分割し、直進光の光路中に、直進光の波面に設定した測定位置と複数の被測定個所のうちの1つとが重なるように被測定物を挿入する設置過程と、直進光が被測定物に反射した反射光を参照光と干渉させ、得られた干渉縞を基に被測定個所の寸法を求める測定過程と、を複数の被測定個所の全てについて実施する。 (もっと読む)


【課題】斜入射干渉計及び斜入射干渉計の較正方法の改良に関する。
【解決手段】斜入射干渉計は、可干渉性の光束を参照光束と測定光束とに分割し、測定光束が被測定物に斜入射されかつ被測定物の被測定面で反射された測定光束を参照光束と合成して干渉光束を生じさせる。干渉光束を撮像した干渉縞画像からの干渉縞信号に基づき被測定面の形状を解析する解析処理装置とを備え、解析処理装置には被測定面として平坦面と平坦面に対して平行でかつ高さが異なりしかも高さが既知の段差面を有する較正用治具に基づき入射角絶対値を求める較正手段が設けられ、較正手段は高さを入力する入力手段と、平坦面と段差面とに基づく干渉縞画像から被測定面に対応する位相分布を算出する位相分布算出手段と、位相分布に基づいて平坦面と段差面との位相差を算出する位相差算出手段と、位相差に基づき入射角絶対値を算出する入射角算出手段とを有する。 (もっと読む)


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