【課題】 本発明は、処理対象となるワークの表面状態に応じて、所定の濡れ性となるように、適切なプラズマ処理が可能なプラズマ処理装置、プラズマ処理方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的としている。
【解決手段】 本発明は、ワーク表面に所定の濡れ性を付与するために、チャンバ２０２内にワークＷを導入して、これにプラズマ処理を行う処理装置本体と、チャンバ２０２内に配設され、ワーク表面の濡れ性を測定する測定手段２０５と、処理装置本体および測定手段２０５を制御する制御手段２０７と、を備え、制御手段２０７は、測定手段２０５による測定結果に基づいて処理装置本体を制御することにより、ワーク表面が所定の濡れ性となるようにプラズマ処理強度を調整することを特徴とする。 （もっと読む）