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Fターム[2F065RR02]の内容

光学的手段による測長装置 (194,290) | 比較基準データの作成、設定 (2,769) | 局所パターンでの比較 (61)

Fターム[2F065RR02]に分類される特許

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【課題】距離計測対象領域を複数の局所領域に分割して並列処理を行う場合には、距離計測点の空間分解能に対応した各局所領域の演算処理量の均一化も考慮されていないため、並列処理化による処理時間の短縮効果が損なわれる。
【解決手段】パターン光が投光された計測対象物の撮像画像から、当該計測対象物の距離情報を算出する距離情報算出部と、パターン光の計測点の空間分解能を、局所領域ごとに適応的に設定可能な局所パターン設定部と、を有し、局所パターン設定部は、距離情報算出部の演算量に関する情報に基づき、パターン光の計測点の空間分解能を設定する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、分解能を維持しつつ測定範囲をより広げ得るひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。
【解決手段】本発明では、複数のマークMを備える試験体SMに外力を作用させる前後における試験体SMの画像が、外力作用前画像および外力作用後画像として第1カメラ装置11によって得られ、追跡マークMcとされる、前記複数のマークMのうちの1つのマークMの位置および所定の基準位置の間の基準距離と、前記外力作用前画像における追跡マークMcの位置と、前記外力作用後画像における追跡マークMcの位置とに基づいて、試験体SMの伸縮率が求められる。ここで、追跡マークMcが外力作用後画像での所定の端部領域内に位置する場合には、複数のマークMのうちの前記追跡マークMcと異なって前記端部領域外に位置するマークMを新たな追跡マークMcとするものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は検査方法に関わり、より詳細には形状測定装置の測定対象物に対する検査方法を提供する。
【解決手段】基板を検査する検査装備において検査領域を設定するために、基板上に複数の測定領域を設定し、測定領域のうち測定対象物を検査するためのターゲット測定領域と隣接する少なくとも一つ以上の隣接測定領域の基準データ及び測定データを獲得した後、隣接測定領域内で少なくとも一つ以上の特徴客体を抽出する。特徴客体に対応する基準データと測定データとを比較して、歪曲量を獲得し、歪曲量を補償してターゲット測定領域内の検査領域を設定する。これにより、基準データと測定データとの間の変換関係をより正確に獲得することができ、歪曲を補償した正確な検査領域を設定することができる。 (もっと読む)


【課題】パターン要素のエッジ位置を再現性よく求める。
【解決手段】パターン測定装置では、対象物上のパターン要素を示す画像において当該パターン要素の一のエッジに交差するx方向における輝度プロファイルが取得される。続いて、輝度プロファイルにおいてエッジを示す傾斜部に含まれる複数の画素位置のうち、x方向に連続するとともに当該複数の画素位置よりも少ない画素位置を対象位置群として、複数通りの対象位置群71,72を決定し、各対象位置群71,72に含まれる画素位置における輝度プロファイルの輝度から高次の近似式が求められる。そして、複数通りの対象位置群71,72にそれぞれ対応する複数の近似式において、所定のエッジ輝度T0となる傾斜部内の位置を複数のエッジ候補位置として取得し、複数のエッジ候補位置に基づいて最終的なエッジ位置が求められる。これにより、パターン要素のエッジ位置を再現性よく求めることができる。 (もっと読む)


【課題】 ダイレクトセンシングにおいて、第1画像データのテンプレート領域が第2画像データの撮像領域から外れてしまう可能性を低減する。
【解決手段】 第1画像データにおけるテンプレート領域が、第2画像データの中で物体の移動と直交する方向において変位する変位方向と変位量を取得する。取得した変位方向と変位量に基づいて前記方向においてテンプレートパターンを切り出す位置を設定する。 (もっと読む)


【課題】計測対象物のベースとなる形状を基準とした歪みを抽出し得る形状認識装置を構成する。
【解決手段】3次元データに基づいて、ベース形状データ生成手段16が、計測対象物Tの本来の表面形状を複数の曲率で表すベース形状データを生成し、詳細形状データ生成手段17が計測対象物Tの詳細な表面形状を複数の曲率で表す詳細形状データを生成する。これらのデータの曲率値の同一の領域の曲率同士を比較することで歪みを求め外面形状を評価する形状評価手段19を備えた。 (もっと読む)


【課題】2次元構造の断面データが表す形状曲線の近似するための処理を簡単に行い得る装置を構成する。
【解決手段】ベース形状データ生成手段16が、設定領域の3次元データを切り出し計測対象物Tの本来の表面形状を示す2次元データを生成する。詳細形状データ生成手段17が設定領域の3次元データを切り出し計測対象物Tの詳細な表面形状を示す2次元データを生成する。これらの2次元データから曲率取得手段18が曲率を算出する。この曲率取得手段18は、2次元データのサンプルポイントの中央付近を頂点とした点群上又は点群付近を通過する2次曲線を近似曲線として適用し、適用された近似曲線のサンプルポイント中央部での曲率に基づいて前記曲率を算出する。 (もっと読む)


【課題】3次元形状を計算することが困難な箇所がある領域の3次元地図として、有用なものを作成することを目的とする。
【解決手段】複合メディア合成装置120の3次元地図作成部123は、移動可能な計測装置に搭載されたカメラ、レーザスキャナ、ステレオカメラの出力するデータの少なくともいずれかを用いて計測装置の周辺領域の3次元地図を構築する。メディア合成部125は、カメラの出力する映像データから、3次元地図作成部123が3次元地図を作成できない領域(カメラやステレオカメラで撮影しても映像の精度が悪くなる領域、レーザスキャナのレーザが到達する範囲外の領域)以外の領域の映像を抽出し、抽出した映像と3次元地図作成部123が作成した3次元地図とを合成する。 (もっと読む)


【課題】繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。
【解決手段】試料100の繰り返しパターンに対応して試料の撮像画像に繰り返し現れる単位パターンD1〜D4のそれぞれの対応する部分同士を比較することにより欠陥を検出する欠陥検査欠陥検出装置50において、各単位パターンの領域D1〜D4を複数のフレームに分割したフレーム(1〜32)の単位で欠陥検出処理を行う対象領域を指定する。 (もっと読む)


【課題】 道路、河川、水路、管路内の360度の全周囲画像上で瞬時に、かつ容易に幅、高さ、奥行きを判断できる立体メジャーを周囲画像に表示する立体メジャー表示機能付き画像表示装置を得る。
【解決手段】 立体メジャー表示機能付き画像表示装置は、360度の全周囲画像を記憶したデータベース10と、カメラ高さ等を記憶したデータベース11と、全周囲画像情報取出部13と、平面画像生成部15と、全周画像位置算出部16と、立体メジャー出力部17と、立体メジャー生成部18と、表示制御部19と、表示部20等を備えて、任意地点における指定方向の全周囲画像(360度)上に立体メジャーを重ね表示する。 (もっと読む)


【課題】通路に設置されたカメラによりコンテナ車両を撮影した画像から、コンテナ車両の傾き角度を検出する、コンテナ車両傾き角度検出装置を提供することである。
【解決手段】本発明のコンテナ車両傾き角度検出装置においては、車両抽出部22が、予め作成しておいた車両の映っていない背景画像と画像入力部21でメモリ25に入力された画像の差分を取り、当該画像中でのコンテナ車両の存在する領域を抽出し、領域を囲む画像軸に平行な矩形枠を計算すると共に、領域の重心位置を計算し、領域に関する各種データをメモリ25ヘ保存し、傾き角度検出部23は、予め作成しておいたコンテナ四隅の部分画像を用い、画像入力部でメモリ25に入力された画像の車両領域から画像のテンプレートマッチングによりコンテナ四隅の位置を検出し、検出されたコンテナ四隅の位置関係からコンテナ車両の傾き角度を計算する。 (もっと読む)


【課題】ユーザの姿勢を検出する場合に、姿勢検出の精度を向上できる姿勢検出装置を提供する。
【解決手段】ユーザを含む画像を撮像する撮像手段と、ユーザの体のいずれかの部位が接触したことを検知する接触検知部材とを備え、撮像した画像に基づいてユーザの姿勢を特定する際に、当該画像を撮像した時点において接触検知部材にユーザが接触しているか否かを示す情報に応じて、当該特定する姿勢の範囲を制限する姿勢検出装置である。 (もっと読む)


【課題】連続的にピッチが変化する繰り返しパターンを持つ電極に対して、従来方法でも検出できていた欠陥はもとより、従来方法では見逃していたあらゆる形態の欠陥についても、安定して確実に検出することができる電極検査方法を提供する。
【解決手段】連続的にピッチが変化する繰り返しパターンを持つ電極に対して、ピッチを規定する情報をピッチテーブルメモリに記憶し、ピッチテーブルメモリからピッチ情報を読み出し、そのピッチ情報を基に撮像画像における電極の繰り返しピッチだけ離れた画素の濃度をFIFOメモリに記憶し、FIFOメモリから読み出された画素濃度をサブピクセル処理し、さらに繰り返しピッチの小数部分に対応する画素濃度を求めるサブピクセル処理をし、それらのサブピクセル処理により得られた画素濃度を基にして繰り返しピッチ離れた画素を比較処理し、その比較結果から欠陥部を抽出する。 (もっと読む)


【課題】計測画像のばらつきになどに起因にする誤計測や計測失敗が生じるのを低減して安定した計測を可能にする。
【解決手段】複数の異なるテンプレート画像17a,19a,20aを予め登録し、計測画像21と各テンプレート画像17a,19a,20aとを順次マッチングさせ、複数の異なる判定基準から選択した判定基準、例えば、マッチングスコア値が、閾値を越え、かつ、最も大きい画像を一致画像と判定し、この一致画像に基づいて、計測位置を求めて計測を行うようにしている。 (もっと読む)


【課題】検査方法の設定を簡素化し作業効率を改善するとともに、オペレータの習熟度に依存しにくい、高速かつ高認識率の検査を実現することを目的とする。
【解決手段】基板10上に実装された部品20の画像を光学センサ50で取得し、その画像に対し演算処理を行って良否を判定する実装基板外観検査方法400において、前記部品20の検査の対象となる部分を含む領域を探索領域A1として設定し、該探索領域A1内において、検査領域A2〜A5をシフトさせて、予め登録された部品画像を探索するに際して、前記検査領域A2〜A5内の画像と前記部品画像との近似マハラノビス距離を演算し、前記近似マハラノビス距離が設定した閾値より小さくかつ最小となる点を探索した箇所とすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路装置の信頼性を向上させることができる技術を提供する。
【解決手段】ウエハ段階で、バンプ面側に再配線層を形成する半導体集積回路装置であるWPP100の外観検査を行う工程で、同軸落射照明204から同軸落射方向に光を照射しながらカメラ202で撮像する工程と、拡散照明205から撮像方向と交差する方向に光を照射しながらカメラ202で撮像する工程とを順次切り替えて行い、得られた画像と予め撮像されたティーチング画像とをパターンマッチングを行うことにより欠陥の有無を判定する。 (もっと読む)


【課題】基準画像との画像比較を用いた位置合わせにおいて、位置合わせの正確性の正確性を向上するとともに、位置合わせの長期安定性を確保することができる位置合わせ方法及び装置を提供する。
【解決手段】ウェーハ10の画像を取得する画像取得光学系14と、ウェーハ10の画像と基準画像群32の基準画像との画像比較に基づき位置情報を算出し、算出した位置情報を用いて、ウェーハ10の位置合わせを行う位置合わせ部18と、位置合わせ部18によるウェーハ10の位置合わせが正しいか否かを判定する判定部22とを有している。 (もっと読む)


【課題】アライメントエラーによる検査エラーを引き起こすことなく欠陥検査を行うことができる欠陥検査方法、欠陥検査装置、及びパターン抽出方法を提供すること。
【解決手段】本発明の一形態の欠陥検査方法は、パターニングがされた検査対象の欠陥検査を行う欠陥検査方法であり、前記検査対象(30)のパターンデータまたは画像からアライメントを行うことが可能な形状を有するパターン(50)を抽出し、このパターンを用いて前記検査対象の局所領域のアライメントを行う。 (もっと読む)


【課題】タイヤ作製用の型部材について、タイヤ表面に対応する面以外の部分も含む全体の形状精度を検査する。
【解決手段】計測によって取得された型部材3次元測定データと、型部材の3次元設計データとを比較することで、作製された型部材の形状の3次元設計データからのずれ量を導出するものであり、型部材は、タイヤ一周分のトレッド面形状をタイヤ周方向に沿って複数の部分に分割した部分形状の1つに対応し、比較の際、取得した型部材3次元測定データに応じて、型部材3次元測定データにおける測定データ基準点を設定し、測定データ基準点と設計データ基準点とを一致させて、3次元測定データと3次元設計データとのずれ量を導出する。 (もっと読む)


【課題】 アライメントマークの計測の高速度化を図りつつ、マーク位置を高精度に計測できるようにする。
【解決手段】 ウエハWを載置して移動するウエハステージWSと、ウエハステージWS上に載置されたウエハWに形成されたアライメントマークAM1〜9を検出するアライメントセンサAS1〜3と、アライメントマークAM1〜9をアライメントセンサAS1〜3で検出する際のウエハステージWSの移動方向であるY方向に沿って、ウエハステージWS上に配列的に設けられた複数のステージマークSM1R〜SM9R,SM1L〜SM9Lと、アライメントセンサAS1〜3がウエハマークAM1〜9を検出しているときに、ステージマークSM1R〜SM9R,SM1L〜SM9Lを検出するステージマークセンサSS1〜2と、これらセンサAS1〜3,SS1〜2の検出結果に基づいて、アライメントマークAM1〜9の位置を求める制御装置FIAUとを備えて構成される。 (もっと読む)


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