【課題】波長が３００ｎｍ帯以下の露光光に対する透過性に優れると共に、基板密着性及び現像溶解性に優れるレジスト材料を提供する。
【解決手段】レジスト材料のベース樹脂は、同種又は異種の水素原子、炭素数１以上で２０以下の直鎖状、分岐状著しくは環状のアルキル基、フルオロアルキル基又は酸により脱離する保護基を有するスルホンアミド基含有の第１ユニット及びベンゼン環上にフッ素原子又は炭素数が１以上２０以下の直鎖状、分岐状若しくは環状のフッ素化されたアルキル基又は特定の置換基を有するアルコキシ基を有するスチレン誘導体からなる第２ユニットから構成される繰り返し単位を含む高分子化合物よりなり、微細加工技術に適したレジスト材料となる。 （もっと読む）

【課題】 ホトレジスト層を形成する面に銅が存在する支持体の上であってもレジストパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法および接続端子の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂を含有するポジ型ホトレジスト組成物であって、前記（Ａ）成分が、カチオン部にナフタレン環を有するオニウム塩（Ａ１）を含有することを特徴とする、ｇ線、ｈ線およびｉ線から選ばれる１種以上の波長の光を用いて露光するためのポジ型ホトレジスト組成物およびこれを用いた厚膜ホトレジスト積層体、厚膜レジストパターンの製造方法および接続端子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】インク流路壁となる被覆樹脂層を形成する際に、溶解力の強い溶媒を用いてもインク流路パターンの形崩れのおそれがない、高品位のインクジェットヘッドの製造方法、該製造方法で製造されたインクジェットヘッドを提供する。
【解決手段】エネルギー発生素子が設けられた基板面上に、第一の波長域の電離放射線の照射により分子間架橋反応が進行し、第一の波長域と異なる第二の波長域の電離放射線の照射により主鎖分解型の分子崩壊反応を生じる感光性樹脂組成物層を形成し、第一の波長域の電離放射線の照射及び現像処理によりインク流路パターンを形成する。そして、その上にインク流路壁となる被覆樹脂層を形成し、インク吐出口を形成後、第二の波長域の電離放射線を照射してインク流路パターンを形成している感光性樹脂組成物層を溶解除去する。 （もっと読む）

【課題】 顔料の分散性、分散安定性が高く、さらに耐光性も高く、塗膜外観の優れた膜を形成することができる感光性着色樹脂組成物、着色画像形成用感光液及び感光性エレメントとこれらを用いた光学特性の優れた着色画像の製造法及びカラーフィルターの製造法を提供する。
【解決手段】 顔料、樹脂、光重合性不飽和結合を分子内に１個以上含有するモノマー、及び光開始剤を含有する感光性着色樹脂組成物に、一般式（Ｉ）
【化１】


（Ｘは水素原子又はハロゲン原子であり、Ｒ¹は水素原子又はアルキル基であり、Ｒ²はアルキレン基であり、Ｒ³は水素原子又はメチル基である）及び一般式（ＩＩ）
【化２】


（Ｒ⁴は水素原子又はメチル基、Ｒ⁵はアルキレン基であり、Ｙは水素原子又はアルコキシ基であり、Ｚは水素原子又は水酸基である）で表される紫外線吸収性化合物を含有させる。 （もっと読む）