説明

Fターム[2H025DA12]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 層構成 (3,681) | 感光(フォトレジスト)層の構造、形成 (295) | 多層の感光層を持つもの (187) | 各層の感光材料が同一であるもの (6)

Fターム[2H025DA12]に分類される特許

1 - 6 / 6


【課題】直描用として新規に開発された感光性乳剤をスクリーン印刷用メッシュに塗布し、直描装置により作製できるようにしたスクリーン印刷用製版を得る。
【解決手段】版枠の内側にスクリーン印刷用メッシュが張設され、スクリーン印刷用メッシュの中央部の印刷領域に直描用感光性乳剤が塗布されたものにおいて、直描用感光性乳剤は、スクリーン印刷用メッシュのスキージ面に塗布された高感度SBQ系乳剤と、スクリーン印刷用メッシュのプリント面に塗布された高解像性ジアゾ系乳剤と、少なくともプリント面に塗布されて表面保護層を形成するオーバーコート剤とからなる多層構造である。 (もっと読む)


【課題】複雑で高価な蒸着法によることなく導電層を形成し、不良品の発生を防ぎながら効率よく導電層の一部を除去することが可能な、導電層を有する三次元構造物及び三次元金属構造物の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記製造方法は、(A)基板上にパターン化有機膜を形成する工程と、(B)無電解メッキにより前記パターン化有機膜表面に導電層を形成する工程と、(C)ゲル状エッチング組成物と接触させることにより前記導電層の一部を除去する工程と、を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】高アスペクト比の周期的な構造を有する3次元モールドを、製造効率良く製造する方法と、この製造方法によって得られる3次元モールド、加工物、及び樹脂成形品を提供する。
【解決手段】本発明の3次元モールドの製造方法では、レジスト層を基体上に備える被加工物を準備する工程、第一の加熱工程、照射工程、第二の加熱工程、及び現像工程を少なくとも有する。レジスト層は、下記一般式(1)で表されるアルコキシシランの加水分解物および縮合物の少なくとも一方を含む。下記一般式(1)において、Rは水素原子又は1価の有機基を表し、Rは1価の有機基を表し、nは1〜3の整数を表す。第二の加熱工程ではレジスト層を300℃以上で加熱する。更にこの製造方法によって得られる3次元モールドをモールドとして、加工物及び樹脂成形品を作製する。
(もっと読む)


【課題】 本発明は、優れた難燃性を有し、かつ現像性、耐湿性、電気信頼性に優れた多層構造の感光性ドライフィルムレジスト及びその作製方法、並びにこれらの利用方法を提供することである。
【解決手段】 第一感光層が(A1)バインダーポリマー、(B1)(メタ)アクリレート、(C1)光反応開始剤、及び(D1)難燃剤、を必須成分として含有し、第二感光層が(A2)バインダーポリマー、(B2)(メタ)アクリレート、及び(C2)光反応開始剤を必須成分として含有し、(D2)難燃剤を実質上含有せず、上記(D1)難燃剤が一般式(1)
【化1】


(式中、Xは2価の芳香族炭化水素基を表し、R1〜R4はそれぞれ独立して1価の芳香族炭化水素基を表す。)であることを特徴とする、少なくとも第一感光層及び第二感光層を含む多層構造の感光性ドライフィルムレジスト。 (もっと読む)


【課題】前記アディティブ法により形成される回路のアスペクト比が1:1以上であり、かつ高精細な回路が簡易な方法で得られ、前記露光ヘッドの取付位置や取付角度のずれ、前記パターンの解像度のばらつきや濃度むらを軽減し、前記パターンを高精細に、かつ効率よく形成可能な回路基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】厚みが40μm以下の感光層を重ねて複数回積層し、感光層を形成する感光層形成工程と、前記感光層を露光する露光工程と、現像工程と、アディティブ法により金属を埋め込み、回路を形成する回路形成工程と、前記回路形成後に、硬化部分を剥離除去する硬化部分剥離除去工程とを含む回路基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】
メッキ高さが高く多段段差形状を有するメッキ形成物の形成を可能にする。
【解決手段】
ネガ型ホトレジスト組成物を、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)酸発生剤、(c)その他の成分を含有するネガ型ホトレジスト組成物とし、
(A)ネガ型ホトレジスト組成物の層を形成し、加熱後、露光する。
(B)前記工程(A)を2回以上繰り返してネガ型ホトレジスト層を積み重ねた後、全ての層を同時に現像することで多層レジストパターンを形成する。
(C)多層レジストパターンにメッキ処理を行うことによりメッキ形成物を形成する。 (もっと読む)


1 - 6 / 6