【課題】白色に対応するサブ画素を少なくとも含む複数のサブ画素により１画素が構成さ
れた垂直配向型の液晶表示装置において、製造工程が増加するのを抑制しながら、視角特
性を向上させることが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】この液晶表示装置は、負の誘電率異方性を有する液晶分子からなる液晶層１
と、白色のサブ画素２１ｄに対応する領域に設けられ、液晶層１の液晶分子の傾斜方向を
規制するための突起１６と、赤色、緑色および青色の各サブ画素２１ａ〜２１ｃに対応す
る領域にそれぞれ設けられた赤色カラーフィルタ１２、緑色カラーフィルタ１３および青
色カラーフィルタ１４とを備えている。そして、突起１６は、青色カラーフィルタ１４と
同一の層からなる。 （もっと読む）

【課題】実質的に透明な基板、カラーフィルタ、実質的に透明な半導体回路、反射型ディスプレイ表示要素の順にディスプレイを構成する反射型ディスプレイにおいて、配線抵抗の増加や膜剥がれが生じず、かつ高表示品位の反射型ディスプレイを提供する。
【解決手段】実質的に透明な第１の基板１と、前記第１の基板１上に形成された画素部に複数色の着色部からなる着色層２を有するカラーフィルタ６と、前記カラーフィルタ６上に形成された表面が平坦な保護層３と、前記保護層３上に形成された実質的に透明な半導体回路４と、共通電極１０と第２の基板１１とを有し前記半導体回路４に対向して配設される反射型ディスプレイ表示要素９と、を少なくても有し、前記カラーフィルタ６は隣接する前記着色部間の周辺部が重なり合うことなく形成され、前記保護層３は、前記着色層２上に前記カラーフィルタ６全面を覆うように形成されていることを特徴とする反射型表示装置。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、広範囲の特定波長の光を選択的に透過又は反射できる多層構造球状粒子、及び簡便な製造方法の提供である。
【解決手段】本発明の多層構造粒子は中心層（Ｌ０）をコアとし、コアの中心に対して同心状に２層以上の層（Ｌｎ）を積層した構造を有し、隣合う層の屈折率差のすべてが０．０１〜１．５であり、中心層（Ｌ０）及び層（Ｌｎ）のうち少なくとも１層が金属酸化物層（Ｍ）であることを特徴とする。本発明の多層構造粒子の製造方法はパルスレーザー照射を利用する製造工程（１０）、気体状金属化合物を利用する製造工程（２０）、ゾル−ゲル法や２重ミセル層を利用する製造工程（３０）及びゾル−ゲル法を利用する（４０）からなる群より選ばれる少なくとも２種、少なくとも２種の繰り返し又は少なくとも１種の繰り返しを含むこと、又は相反する電荷を利用する製造工程（５０）を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光の利用効率が高く、マイクロレンズを安定して形成することができる固体撮像装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板に複数の受光部を形成する工程と、前記基板上における前記複数の受光部に対応する複数の領域に、カラー材料からなる複数のパターンを相互に離隔して形成する工程と、前記複数のパターンをナノインプリント法により加工して、複数のマイクロレンズを形成する工程と、を備えたことを特徴とする固体撮像装置の製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】着色画素とブラックマトリクスのマトリクス部の重なりにより生ずる段差を低減し、カラーフィルタ全面での平坦化を図るとともに、額縁部が十分な光学濃度を有する液晶表示装置用カラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】透明基板と、この透明基板上に形成されたマトリクス状の遮光層と、このマトリクス状の遮光層により区分された領域に形成された複数色の着色画素とを具備する液晶表示装置用カラーフィルタにおいて、前記遮光層は、前記着色画素間のマトリクス部と、前記複数色の着色画素を含む表示領域を囲む額縁部とを有し、前記マトリクス部の膜厚は、前記額縁部の膜厚より薄いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】乾燥工程において起こる塗膜のムラやスジの発生が抑えられた製膜方法を提供する。
【解決手段】基板上に、溶剤、顔料を含有する塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程と、前記塗布膜を形成する工程後に前記塗布膜を乾燥する工程を有する製膜方法であって、前記乾燥開始時の粘度が温度２５℃において１〜５ｃｐまたは８以上であり、かつ、前記塗布膜表面から鉛直方向とは逆方向に１ｃｍの離れた部分の前記乾燥開始時における風速が０．９ｍ／ｓ以上１．１ｍ／ｓ以下であることを特徴とする製膜方法。 （もっと読む）

【課題】光電変換素子は白黒用配列と青色用配列群と緑色用配列群と赤色用配列群で構成され、カラーフィルタは緑色、青色、赤色の順に形成されるリニアセンサーにて、青色カラーフィルタの膜厚のバラツキを低減させたリニアセンサーを提供する。
【解決手段】白黒用光電変換素子２ＢＷの上方に、透明パターン５が青色カラーフィルタ３Ｂの形成前に設けられている。青色用光電変換素子２Ｂ−ａから、青色カラーフィルタと透明パターンが接する位置までの距離ｌ１が、青色用光電変換素子２Ｂ−ｄから、緑色カラーフィルタと青色カラーフィルタが接する位置までの距離ｌ２より短いこと。 （もっと読む）

【課題】光センサ用フィルタにおいて、製造コスト、欠陥の発生、分光シフトを抑制する。
【解決手段】本発明の一態様に係る光センサ用フィルタＦ１は、複数の受光素子３１，３２に対となる複数のフィルタ４，５を含む光センサ用フィルタである。複数のフィルタ４，５は、複数の受光素子３１，３２の光入射側に配置されており顔料分散レジストにて形成される赤フィルタ４と、複数の受光素子３１，３２の一部の光入射側に配置されており顔料分散レジストにて形成される青フィルタとを具備する。赤フィルタ４と青フィルタ５とは、積層されている。 （もっと読む）

【課題】セルギャップを均一にするための精度の高いスペーサを有するカラーフィルタを安価に提供すること。
【解決手段】支持体上に、遮光部と、異なる分光特性を有する複数色の着色画素部と、前記遮光部上に分光特性の異なる２色以上の着色層が積層してなるスペーサと、を有し、該スペーサが以下の（ａ）〜（ｄ）の条件を全て満たすことを特徴とするカラーフィルタ。
（ａ）高さ方向に沿った断面形状が略台形、（ｂ）遮光部からの高さが２．０〜４．０μｍ、（ｃ）底面積が５０〜２００μｍ^２、（ｄ）２／３の高さにおいて垂直に切断した場合の断面積が２５〜１３０μｍ^２ （もっと読む）

【課題】膜厚の異なる透過部と反射部を含む着色画素を形成するための露光を、フォトマスクに透過率低減処理を施すことなく、低コストで行うことを可能とする露光方法、露光装置、及び半透過型液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】光透過部用開口パターンと、この光透過部用開口パターンよりも大きい光反射部用開口パターンとを有するフォトマスクを用いて、光源からの光を、最初に前記光透過部用開口パターン又は光反射部用開口パターンのいずれか一方を通して前記基板上に形成された感光性着色樹脂層の前記光透過部形成領域又は光反射部形成領域のいずれか一方に照射し、次いで前記基板を前記光透過部用開口パターン又は光反射部用開口パターンの他方に対応する位置に移動させて、前記光透過部用開口パターン又は光反射部用開口パターンの他方に部分的に重ねて照射。 （もっと読む）

【課題】基板を固定しておき、塗布ヘッドを移動させるスリット塗布方法であっても、基板の表面状態の影響を受けることなく、高い塗布速度でも塗布液を基板の表面に均一かつ安定に塗布する。
【解決手段】
塗布ヘッド２２のスリット先端から塗布液を流出させて板状の平坦な基板１６表面との隙間に塗布液のビードを形成すると共に、塗布ヘッド２２を走行させて基板１６表面にビードを介して塗布液を塗布するスリット塗布方法において、基板１６を、テーブル１４上の凹部に基板１６とテーブル１４との面が面一になるように嵌め込んで保持する基板保持工程と、塗布ヘッド２２を基板１６の一端側から他端側に走行させて塗布液を塗布すると共に、塗布ヘッド２２と一体走行する減圧チャンバ６８によりビードの塗布ヘッド２２走行方向前方を減圧する減圧塗布工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】イメージセンサの製造方法を提供する。
【解決手段】実施例に係るイメージセンサの製造方法は、カラーフィルタ層の上に、ＬＴＯ（Ｌｏｗ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｏｘｉｄｅ）層形成するステップと、ＬＴＯ層の上にフォトレジストパターンを形成するステップと、フォトレジストパターンに熱処理を行って、犠牲マイクロレンズを形成するステップと、犠牲マイクロレンズ及びＬＴＯ層に１次エッチングを行って、ＬＴＯ層からなる予備マイクロレンズを形成するステップと、予備マイクロレンズに２次エッチングを行って、予備マイクロレンズに比べて曲率半径が減少したマイクロレンズを形成するステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】イメージセンサの製造方法を提供する。
【解決手段】フォトダイオード及びトランジスタが形成された半導体基板１０に、カラーフィルタ層１１を形成するステップと、カラーフィルタ層１１上に、平坦化層１２を形成するステップと、平坦化層１２上に、ＬＴＯ（Ｌｏｗ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｏｘｉｄｅ）層１３を形成するステップと、ＬＴＯ層１３上に、カラーフィルタ層１１と対応するように、フォトレジストパターンを形成し、リフロー処理するステップと、フォトレジストパターンとＬＴＯ層１３を反応性イオンエッチング工程でエッチングして、マイクロレンズ１３ａを形成するステップと、反応性イオンエッチング工程中、フォトレジストパターンをリフローされるようにするステップと、を含む。 （もっと読む）

本発明は二色性比、耐熱性、耐久性、高明暗比及び偏光性に優れたカラーフィルタ層の形成に使われる液晶性、二色性及び重合反応性を有する新たな二色性染料、これを含むカラーフィルタ層形成組成物及びこれにより製造されたカラーフィルタアレイ基板（上部基板）並びに上記カラーフィルタアレイ基板を含む液晶ディスプレイに関する。
本発明によると、Ｒ１−Ｌ１−Ｍ−Ｌ２−Ｄの構造を有する二色性染料（但し、式においてＤは二色性構造、Ｍは液晶性構造、Ｒ１は末端反応性作用基であり、Ｌ１及びＬ２はＲ１、Ｍ及びＤを連結する連結構造である。）、これを含むカラーフィルタ層形成組成物が提供される。また、本発明のカラーフィルタ層形成組成物で形成されたカラーフィルタ層を有するカラーフィルタアレイ基板及びこれを含み上部配向膜及び／または偏光板を必要としない液晶ディスプレイが提供される。本発明のカラーフィルタアレイ基板及びこれを含む液晶ディスプレイは優れた耐久性、偏光度、解像度及び明暗比を表す。
（もっと読む）

【課題】本発明は、インクジェット法により高い位置精度でスペーサー部を形成することが可能なカラーフィルター、および、その製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基材、および、上記基材上に形成され、開口部を備える遮光部を有するカラーフィルター用基板と、上記開口部内に形成された着色層と、上記着色層および上記遮光部を覆うように形成され、下記式（Ｉ）で表されるシラン化合物からなる撥液層と、上記撥液層上であり、かつ、上記遮光部上にインクジェット法によって形成され、ビーズおよび樹脂を含有するスペーサー部と、を有することを特徴とするカラーフィルターを提供することにより上記課題を解決するものである。
Ｙ_ｎＳｉＸ_{（４−ｎ）} （Ｉ） （もっと読む）

【課題】膜厚の制御性及び密着性を損なうことなく、明度の高い反射部を有する透過型液晶表示装置用カラーフィルタを提供すること。
【解決手段】透明基板上に着色画素を形成してなる半透過型液晶表示装置用カラーフィルタであって、前記着色画素は、透過部と、この透過部に隣接する反射部とを有し、前記透過部は、前記透明基板上に形成された第１の着色樹脂層からなり、前記反射部は、前記第１の着色樹脂層より薄い膜厚を有する第２の着色樹脂層からなり、前記第２の着色樹脂層には孔が形成されており、前記第１の着色樹脂層、第２の着色樹脂層、及び孔は、それぞれに対応する透明部、半遮光部、及び遮光部を有するフォトマスクパターンを用いて形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】着色剤を高濃度に含有する場合であっても、着色剤の分散性に優れ、スリット塗布での適性があり、インクジェットの目詰まりがなく、かつ、インク塗布液のレベリング性がよく、平坦性に優れた着色画素部が形成できる硬化性着色組成物を提供する。
【解決手段】着色剤と、分散樹脂と、重合開始剤と、重合性化合物と、溶剤と、を含有する硬化性着色組成物であって、該溶剤が、（Ａ）常圧での沸点が１８０℃以上２８０℃以下である溶剤と、（Ｂ）溶解度パラメータが８．５〜１０．５であり常圧での沸点が１３０〜１７０℃である溶剤とを含み、該分散樹脂が下記一般式（１）で表される高分子化合物等を含有することを特徴とする硬化性着色組成物〔Ｒ¹：（ｍ＋ｎ）価の有機連結基、Ｒ²：単結合、２価の有機連結基、Ａ¹：有機色素構造等を有する１価の有機基、ｍ＝１〜８、ｎ＝２〜９（ｍ＋ｎ＝３〜１０）、Ｐ¹：高分子骨格〕。
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【課題】本発明は、液晶表示装置に係り、特に、フォトエッチング工程によってブラックマトリックスなしで光漏れが防げる光遮断領域または光遮断層を含む液晶表示装置用基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明は、レーザー装置のステージ上に透明基板を配置する段階と；第１ないし第３光透過領域を取り囲む光遮断領域を前記透明基板内に形成するために、前記透明基板に所定のパワーを有するレーザービームを照射する段階と；前記第１ないし第３光透過領域各々に位置する赤色、緑色、青色のサブカラーフィルタを含むカラーフィルタ層を形成する段階と；前記赤色、緑色、青色のサブカラーフィルタの境界部は、前記光遮断領域に対応することを特徴とする液晶表示装置用基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 顔料の分散安定性に優れ、また耐薬品性に優れた感光性着色組成物、およびそれを用いて得たカラ−フィルタ、及び液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】 樹脂、光重合開始剤、重合性モノマ−、及び着色剤を含む感光性着色組成物において、前記樹脂が、（Ａ）炭素数５〜２０のアルキル鎖を有するアルキル（メタ）アクリレ−ト、（Ｂ） ベンジル（メタ）アクリレ−ト、（Ｃ）下記一般式（１）で表される化合物、及び（Ｄ）以上の化合物以外のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を共重合してなる共重合体樹脂であることを特徴とする感光性着色組成物。
【化１】
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【課題】表面に存在する異物を除去することが可能な有機ＥＬ素子用カラーフィルタ基板、および、カラーフィルタ基板の表面を傷つけることなく、異物を除去して歩留まり良く有機ＥＬ素子用カラーフィルタ基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】基板２と、上記基板２上に形成された着色層３と、上記着色層３上に形成されたオーバーコート層４と、上記オーバーコート層４上に形成された無機層５とを有し、素子形成領域１１と、上記素子形成領域１１の外周に配置され、切断されうる余剰の切断領域１２とを有する有機ＥＬ素子用カラーフィルタ基板１であって、上記無機層５が、上記素子形成領域１１および上記切断領域１２に設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）