【課題】 帯電極性が異なる電子写真感光体を製造する際に発生する感光体の品質上の不具合を防止した電子写真感光体の製造方法を提供する。
【解決手段】 正帯電用または負帯電用の如き帯電極性の異なる電子写真感光体を同一の反応容器内で製造する場合には、帯電極性の異なる電子写真感光体を製造する前に、反応容器の内壁の少なくとも円筒状基体に対向する部分を、液体を使って洗浄をする。 （もっと読む）

【課題】堆積膜の均一性と特性の向上及び画像欠陥の抑制を同時に達成可能な電子写真感光体の製造方法を提供する。
【解決手段】減圧可能な反応容器の内部への円筒状基体設置工程と、反応容器の内部への堆積膜形成用原料ガス導入工程と、反応容器の内部にあって円筒状基体とは離間して配置された電極、および円筒状基体の、一方の電位に対する他方の電位が交互に正と負になるように、正弦波の交番電圧を電極と円筒状基体の間に印加して、原料ガスを分解し、円筒状基体の表面に堆積膜を形成する堆積膜形成工程と、を有するプラズマＣＶＤ法によって電子写真感光体を製造する方法において、交番電圧の周波数が１０ｋＨｚ以上３００ｋＨｚ以下で、電極と円筒状基体の一方の電位に対する他方の電位が、正であるときの電位差の絶対値の最大値、および負であるときの電位差の絶対値の最大値は、一方が放電維持電圧未満の値であって、他方が放電開始電圧以上の値である。 （もっと読む）

【課題】 安価かつ簡便な手段によって電磁波の漏洩が確実に防止された堆積膜形成装置を提供すること。
【解決手段】 反応容器の中に導入された原料ガスに反応容器を通じて励起電力を印加して励起種を生成し基体の上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、前記反応容器は反応容器本体と前記反応容器本体から電気的に絶縁された反応容器構成体とからなり、前記堆積膜形成装置は前記反応容器の外部を取り囲むように配置され且つ接地電位とされた電磁波遮蔽筐体を有し、電磁波遮蔽箔体が前記反応容器構成体と前記電磁波遮蔽筐体との間の空隙を塞ぐように且つ前記反応容器構成体と前記電磁波遮蔽筐体とを電気的に接続するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】放電の均一性を上げて軸方向の電位ムラを改善し、濃度ムラのない高品位な画像が得られる電子写真感光体の製造方法を提供する。
【解決手段】円筒状の中心電極の少なくとも一部を兼ねる円筒状基体１０２を、減圧かつ電気的に接地された反応容器１０１の内部に設置し、電源１０７から前記中心電極の一方の端部領域を経由して電力を供給することで前記中心電極と反応容器１０１との間に交番電圧を印加し、前記円筒状基体１０２の上に堆積膜を形成する電子写真感光体の製造方法において、前記中心電極の端部領域であって前記電源に接続されている端部領域とは反対側の端部領域の内側に、電気的に接地された円筒状可動部材１０８を誘電体を介して挿入することでコンデンサーを形成し、前記円筒状可動部材の侵入部分１１３の長さを変化させることによって前記コンデンサーの容量を堆積膜形成処理中に変化させる。 （もっと読む）

【課題】 チャージアップの抑制および二次反応の抑制を高いレベルで両立する電子写真感光体の製造方法を提供する。
【解決手段】 電極および円筒状基体の一方の電位に対する他方の電位が交互に正と負になるように、周波数３ｋＨｚ以上３００ｋＨｚ以下の矩形波の交播電圧を電極と円筒状基体の間に印加して、原料ガスを分解し、円筒状基体上に堆積膜を形成して、電子写真感光体を製造するにあたり、前記正になるときの電極と円筒状基体の電位差の絶対値および前記負になるときの電極と円筒状基体の電位差の絶対値の一方が放電維持電圧の絶対値未満の値であって、他方が放電開始電圧の絶対値以上の値であるようにする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、簡易に、特性の均一性と画像特性を同時に向上させる方法を提供する。
【解決手段】 リング状部材１００，２００の外周面には、周方向に３箇所以上の凸部１０２を有し、凸部１０２の外接円の直径ｄ０は、円筒状基体１０８、下補助基体１０７、上補助基体１１２の内壁面の内径より大きくする。リング状部材１００，２００の凸部１０２を円筒状基体１０８、下補助基体１０７、上補助基体１１２の内壁面にくい込ませた状態で、基体ホルダ１１８に円筒状基体１０８、下補助基体１０７、上補助基体１１２を設置する。 （もっと読む）

【課題】 膜の構造欠陥および膜特性ムラが低減された高品質の感光体を低コストで製造することができる電子写真感光体の製造装置を提供する。
【解決手段】 原料ガス導入管が、回転可能な機構および周方向に複数のガス放出孔を有し、且つガス放出孔のうち利用しないガス放出孔を塞ぐ手段を有して、回転可能な機構を用いて原料ガス導入管を回転させてガス放出孔を塞ぐ手段によって塞がれるガス放出孔を切り替えることによって反応空間の内部への原料ガス導入に利用するガス放出孔を切り替えることができる構成とする。 （もっと読む）

【課題】 比較的高い成膜速度で、特性ムラおよび欠陥の少ない良好な堆積膜を形成する。
【解決手段】 円柱状または円筒状の複数の基体の外周面に堆積膜を形成する堆積膜の形成方法であって、複数の前記基体を、各中心軸を平行にして、隣り合う前記基体間で前記外周面同士を間隙をおいて対向させた状態で、反応室内に配置する第１ステップと、該反応室内に前記堆積膜の原料ガスを連続的に供給するとともに排出する第２ステップと、隣り合う前記基体を前記中心軸回りに互いに逆方向に回転させて、前記間隙に流れ込む前記原料ガスの流れを生じさせる第３ステップと、対向する前記外周面間に電圧を印加して前記原料ガスを分解し、分解生成物からなる堆積膜を前記外周面に堆積させる第４ステップと、を含むことを特徴とする堆積膜の形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】安価にメンテナンス性の向上を可能とする処理容器の設置方法を提供する。
【解決手段】複数の部材から構成され、かつ減圧可能な手段と接続される処理容器の設置方法であって、少なくとも、以下の工程を順次行う。（ａ）大気圧力状態の前記処理容器を、前記複数の部材の少なくとも一部が固定されていない状態で、被処理基体の受け渡しが行われる場所に配置し、（ｂ）前記被処理基体を搬送する搬送容器を前記処理容器に、前記複数の部材の少なくとも一部が固定されていない状態のまま接続し、（ｃ）前記搬送容器に対して前記処理容器が所定の位置となるように、前記複数の部材の各位置を調整し、（ｄ）前記減圧可能な手段を用いて、前記処理容器の内部の減圧を実施して前記複数の部材の全てを固定し、（ｅ）前記処理容器と前記搬送容器を切り離す。 （もっと読む）

【課題】 肉厚の薄い円筒状基体においても円筒状基体の端部変形を緩和することを可能にし、画像濃度ムラが抑制された高品質な画像が得られる電子写真感光体の製造方法を提供する。
【解決手段】 円筒状基体を基体ホルダーに設置し、減圧可能な反応容器内に搬入して、前記円筒状基体の上に光導電層を形成する電子写真感光体の製造方法において、少なくとも前記円筒状基体の両端内周面側に、前記円筒状基体の内周面側から外周面方向へ力を付与するように前記円筒状基体と同じ線膨張率の材料で形成された装着部材を設けることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、異なる種類の感光体を効率よく低コストで製造することができる電子写真感光体の製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラズマＣＶＤ法によって電子写真感光体を製造するための電子写真感光体の製造装置であって、真空気密可能な反応空間を有し、かつ、少なくとも一部の内側壁が円筒状電極で構成されている反応容器１０１と、前記円筒状電極に高周波電力を供給し、前記反応空間にグロー放電を生起させることによって、前記反応空間に供給された原料ガスを励起させるための高周波電力供給手段と、前記反応空間を排気するための排気手段と、を有する電子写真感光体の製造装置において、前記円筒状電極が、円筒状電極本体１０２、及び、前記反応空間に原料ガスを供給するためのガス放出孔が設けられているガス供給部材１１６を有し、ガス供給部材１１６が、円筒状電極本体１０２に脱着可能である。 （もっと読む）

【課題】膜特性の優れた堆積膜を生産性良く形成することができる堆積膜形成装置および堆積膜形成方法を提供する。
【解決手段】減圧可能で内部に基体１０２を設置可能な反応容器部１０１および、反応容器部１０１との間を開口および閉口する弁体を有するゲートバルブ部１３０からなり、弁体により反応容器部１０１とゲートバルブ部１３０との間を開口して、反応容器部１０１の中に基体１０２を搬入し、堆積膜を形成する堆積膜形成装置において、ゲートバルブ部は、弁体を摺擦することが可能な摺擦部材と、弁体が反応容器部１０１とゲートバルブ部１３０との間を閉口している位置から開口している位置に移動する際に、弁体と摺擦部材を摺擦させるか否かの選択可能であって、摺擦させる場合に、摺擦部材が弁体を摺擦することによって、弁体に付着した異物を除去し、さらに除去した異物を反応容器部１０１の中へ落とすことが可能な摺擦機構を有する。 （もっと読む）

【課題】大面積の機能性堆積膜を均一に安定して形成することが可能な堆積膜形成装置を提供する。特に、帯電特性の優れた高品質な電子写真感光体を安価に生産性よく製造する堆積膜形成装置を提供する。
【解決手段】高周波電極が側壁を兼ねた反応容器１０１の中に、原料ガスと放電エネルギーを印加して、基体の表面に堆積膜を形成するための堆積膜形成装置１００において、排気系に接続された排気部１０９が、反応容器１０１の側壁の一部に設けられ、排気部１０９が基体から死角となるように高周波電極と同電位の衝立部材１１１を設ける。 （もっと読む）

【課題】膜厚や膜特性の均一性に優れた堆積膜を生産性良くさらに低コスト形成することができるＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】基体ホルダに保持された円筒状基体に対向して配置された電極部材に高周波電力を印加して円筒状基体と電極部材との間にプラズマを生起し円筒状基体の表面に堆積膜を形成するＣＶＤ装置であって、電極部材は円筒状基体の円筒面に正対している部分と正対していない部分を有し、正対していない部分の一部の直径が正対している部分の直径よりも小さく、かつ正対していない部分から円筒状基体またはこれと同電位の部材への最短距離が正対している部分から円筒状基体またはこれと同電位の部材への最短距離よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】球状突起に起因する画像欠陥を克服し、電気特性の優れた光受容部材を安価に安定して製造し得る光受容部材の形成方法を提供する。
【解決手段】気相成長法により、円筒状の基体の表面にケイ素原子を母材とする非晶質材料からなる光受容層を形成する光受容部材の形成方法において、補助基体の外面の算術平均高さＲａが、０．１μm以上、１．０μm未満であることを特徴とする光受容部材の形成方法。 （もっと読む）

【課題】大面積の機能性堆積膜を膜厚方向に安定して形成することが可能な方法を提供する。特に、帯電特性の優れた高品質な電子写真感光体を安価に生産性よく製造する方法を提供する。
【解決手段】真空気密可能な反応容器に、基体を設置し、ケイ素原子を含む原料ガスを高周波電力により分解し該基体上に堆積膜形成を行う堆積膜形成方法において、堆積膜形成工程中に前記反応容器と排気手段とを接続する排気配管内に三フッ化塩素を含むガスを供給することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画像欠陥の改善を図り、真空処理特性、製品品質および良品率の向上によるコスト低減を達成することができる真空容器及び堆積膜形成方法を提供する。
【解決手段】真空容器は、円筒状基体１０１を設置した基体ホルダーが設置される減圧可能な容器と、容器内を大気状態から排気する排気手段とを有する。真空容器は、基体ホルダーの内部空間内に、排気手段に接続されている排気ポート１０６ａを有する。 （もっと読む）

【課題】膜厚や膜特性の均一性に優れ、欠陥の少ない堆積膜を、生産性良く形成できる堆積膜形成装置を提供する。
【解決手段】堆積膜形成装置は、反応容器１０１と、反応容器１０１の中に設置され、装着された基体１０２を回転可能に支持する基体ホルダ１０７とを有する。堆積膜形成装置は、基体ホルダ１０７の長手方向の一端側を保持し、反応容器１０１に電気的に接続された基体ホルダ保持手段としての回転支持機構１１５をさらに有する。堆積膜形成装置は、基体ホルダ１０７の前記一端側とは反対側の端部に設けられ、基体ホルダ１０７を反応容器１０１に電気的に接触させることを可能とする接触部材１５０を備えている。堆積膜形成装置は、接触部材１５０を反応容器１０１に電気的に接触させるために、基体ホルダ１０７を長手方向に移動させる移動装置１２５をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】触媒ＣＶＤ法において、緻密で、膜質の良好な半導体層を有する電子写真感光体の形成が可能な堆積膜形成方法を提供する。
【解決手段】基体を収容する真空容器と、該真空容器内に原料ガスを供給するガス供給手段と、該ガス供給手段より供給される原料ガスに接触するように配置された触媒体と、を備えた触媒ＣＶＤ装置を用いて、少なくとも水素及び／又はハロゲンを含む非単結晶シリコン膜を製造する堆積膜形成方法であって、前記原料ガスのうち、シリコン原子を含んだガス状の分子が前記真空容器内に導入されてから排出されるまでの間に、前記触媒体に衝突する回数が１回以上、４回以下となる条件下で堆積膜形成を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】チャッキング部材が固定される基体ホルダーの凹状部に残留したダストが基体の表面に付着することを防ぐ。
【解決手段】搬送容器（不図示）は、基体ホルダー１０２を保持して搬送容器内に対する前記基体ホルダーの搬入及び搬出を行うチャッキング部材１０３を備えている。基体ホルダー１０２の上部には、チャッキング部材１０３によって保持される凹状部１０２ａが構成されている。基体ホルダー１０２を収容した状態で搬送容器内を真空排気する際に前記凹状部１０２ａ内の空間の圧力と円筒状基体１０１の周囲の空間の圧力とを等しくするために、チャッキング部材１０３には上記両空間を連通させるために貫通穴１０９が形成されている。 （もっと読む）