【課題】 高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】 短光パルスを発生する種パルス光源、パルスを伸長する伸長器、及び複数の鎖状につながった偏光を保持しているファイバ区分とからなり、その偏光保持ファイバの少なくとも１つは増幅器であるチャープパルス増幅システムにより、課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】密着性向上のために反応性金属を使用する必要がなく、且つ圧電素子層の成膜面積を制限する必要もなく、下部電極の剥離が生じないようにする。
【解決手段】磁気光学効果により入射光の偏光方向に回転を与える画素を備えている磁気光学層と、各画素に個別に応力を印加する応力付与要素を備えている圧電層を具備している。磁気光学層１０は、非磁性基板１６に磁性膜からなる多数の画素１４が配列された２次元アレイ構造であり、圧電層１２は、反射膜を兼ねる下部電極２０、圧電素子層２２、上部電極２４が順に積層され、下部電極は画素列に対応するように行数分だけ並設され、上部電極は下部電極と直交する方向の画素行に対応するように列数分だけ並設され、それらが画素の部分で交差して応力付与要素を形成する。下部電極は、画素の部分では広幅で画素間及び引出し部分では狭幅となるように線幅が周期的に広狭変化する配線パターンである。 （もっと読む）

【課題】電圧駆動特性を向上させることで、必要な光変調量を保ちながら、駆動電圧を低減でき、読み取り・書き込みエラーが生じないようにする。
【解決手段】空間光変調器は、磁気光学効果により入射光の偏光方向に回転を与える多数の画素を備えている磁気光学層１０と、各画素に個別に応力を印加する多数の応力付与要素を備えている圧電層１２を具備している。磁気光学層は、非磁性基板１６に磁性膜からなる画素１４が縦横規則的に配列された２次元アレイ構造であり、圧電層は、基板側に位置し反射膜を兼ねる下部電極２０、圧電素子層２２、上部電極２４が順に積層され、下部電極と上部電極が画素の部分で交差して応力付与要素を形成するマトリックス配線方式である。ここで各画素となる磁性層は、その膜厚が０．３〜２．２μｍに設定されている。 （もっと読む）

【課題】小型で光弾性測定装置へのセッティングが容易な光弾性変調器およびそれを備えた光弾性測定装置を提供する。
【解決手段】円盤状の光学素子４６の周側面の一端に圧電素子４７を接触させ、当該圧電素子４７と対向する側をフレーム４８に接触させて光学素子４６の両端を支持する。当該構成において、光弾性変調器４５の共振周波数を光学素子４６の共振周波数より低い周波数に設定して圧電素子４７から振動させる。このとき、光学素子４６に付与される振動は減衰した後、光学素子４６には圧電素子４７の慣性による応力のみが付与されるので、光学素子４６内には均一に複屈折量が発生し、この状態で光学素子４６に光を透過させることにより、透過光に変調がかけられる。 （もっと読む）

【課題】磁気光学層／圧電層／薄膜トランジスタ回路層の順に下から積み上げていく基本概念を踏襲した上で、温度プロセス・ルールを守り、圧電体の分極処理を、ＴＦＴに損傷を与えることなく容易に行うことができ、圧電体の特性劣化が生じず、しかもＴＦＴの特性改善も行えるようにする。
【解決手段】基板１０上に磁気光学層（ＹＩＧ１２）及び圧電層（ＰＺＴ１６）を形成した後、ＴＦＴのＭＯＳ構造まで作製した段階で、水蒸気アニールによる欠陥修復処理を行い、次いでゲート電極及びソース／ドレイン領域にコンタクトホール３０を形成し、該コンタクトホールを通してそれらを一括接続するベタ導電膜３６を設け、ベタ導電膜と圧電層の共通電極１４間に電界を印加して分極を行い、その後、前記ベタ導電膜を除去する。これによって、基板上に磁気光学層、圧電層、薄膜トランジスタ回路層を、その順序で積層形成する。 （もっと読む）

【課題】高精度な測定が可能な位相変調法を光検波手段として使用した光センサを提供する。
【解決手段】本発明は、引っ張り応力に対する偏波面保持ファイバ内を伝播する光の位相変化の違いを利用し、位相変調子１０、送光用偏波面保持ファイバ２３、コイル状偏波面保持ファイバ光学素子３０に適切な偏波面保持ファイバを使用することにより、高精度な測定が可能な光センサを実現する。 （もっと読む）

【課題】バイアスフリーで高効率であり、かつ歩留まりの良い安価な光変調デバイスを提供する。
【解決手段】光弾性効果を有する基板１上の一方の面側に少なくとも２本の光導波路２を有し、基板１の一部が固定されており、基板１の幅方向のほぼ真ん中に配置され、基板１の一方の面または一方の面と背向する他方の面における固定されていない箇所に応力を付与することにより、基板１を基板１の厚さ方向に変形させる調整手段２１を備え、調整手段２１によって基板１に応力が付与される際に２本の光導波路２に完全に同じ応力が加わらないことで２本の光導波路２の屈折率に差が生じてなり、調整手段２１により少なくとも２本の光導波路２の光学的な長さを所望の長さに調整するとともに、その調整後の状態を保持することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】可変分散補償器の分散補償量を最適に制御すること。
【解決手段】低周波発振回路１０１は、所定周波数の信号を発振する。可変分散補償器１０２は、受信する光信号に対して分散補償を行い、発振された所定周波数の信号に応じて分散補償の分散補償量を変化させる。復調部１０３は、分散補償された光信号を復調する。エラー監視部１０４は、復調信号のエラー状態を監視するバンドパスフィルタ部１０５は、エラー状態を示す信号から所定周波数以下の周波数の信号を取り出す。同期検波回路１０６は、バンドパスフィルタ部１０５によって取り出された信号と、所定周波数の信号と、に基づいて分散補償量変更信号を生成する。重畳回路１０７は、低周波発振回路１０１から可変分散補償器１０２に出力される所定周波数の信号に、分散補償量変更信号を重畳する。 （もっと読む）

【課題】オフセット量をほぼゼロでシングルモードファイバからマルチモードファイバへ光信号を入射し、出射側に高次モード除去装置を設置して光伝送を行う際に、受信側の信号誤り率が最適で高速伝達が可能な光伝送システムを提供する。
【解決手段】マルチモードファイバ１０の入射側にシングルモードファイバ２０を光軸が略一致するように接続し、マルチモードファイバ１０の出射側に高次モード除去装置３０を設け、該高次モード除去装置３０を介して受信器５０に送信器４０から光信号を伝送する。また、高次モード除去装置３０は調節手段を備えており、該調節手段により光信号の誤り率が最適になるように調節する。 （もっと読む）

【課題】電圧駆動方式による省電力、低発熱の利点を有し、しかも画素数が多くなっても表示のコントラストが低下せず、データ処理の高信頼性を維持できるようにする。
【解決手段】それぞれ独立に磁化方向を設定可能で、磁気光学効果により入射光の偏光方向に回転を与える複数の画素を備えている磁気光学層１０と、変形することで前記の各画素に個別に応力を印加させる複数の応力付与要素を備えている圧電層１２を具備している空間光変調器である。画素の選択及び応力付与要素への電圧印加時間の延長のために各画素毎に薄膜トランジスタ１８を配設すると共に、各薄膜トランジスタを選択駆動するアクティブ・マトリックス式電気配線２０を形成した薄膜トランジスタ回路層１４を具備し、磁気光学層、圧電層、薄膜トランジスタ回路層の順序で積層されている。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ用の投影露光装置における結像特性に影響を及ぼすことができる改良型光学装置を提供する。
【解決手段】光学装置は、ソケットに装着され少なくとも１つの光学面を有する光学部品、特にレンズ１を備え、この場合、部品内の応力をマニピュレータ３〜５；６〜１４によって設定または変更可能である。マニピュレータ３〜５；６〜１４は、部品自体、または、部品の周囲を取り囲むホルダもしくはソケット２の周囲領域において、部品の光軸にほぼ平行に力および／またはトルクを付加し、付加された力および／またはトルクの大きさは、応力複屈折を部品に誘起するような強度である。 （もっと読む）

【課題】ＷＤＭ伝送システムに適用される光増幅装置について、ＷＤＭ伝送路に伝搬される複数波長の信号光を波長毎に制御するとともに、伝搬品質を向上すること。
【解決手段】増幅用光導波路２に第１光分岐器３を介して接続されて複数波長の信号光を受光する第１の光電変換素子８と、増幅用光導波路２のうち第１光分岐器８よりも信号光出力側で増幅用光導波路２に励起光を照射する励起光源９と、増幅用光導波路２のうち励起光の照射領域よりも信号光出力側で第２光分岐器４を介して接続されて前記複数波長の信号光を受光する第２の光電変換素子１０と、増幅用光導波路２のうち第１光分岐器３と第２光分岐器４の間の領域に接続されて波長毎に減衰量の設定が可能な光減衰器７と、第１の光電変換素子８の出力と第２の光電変換素子１０の出力に基づく比較値が、外部から設定される目標利得値に一致し又は近づく状態になるまで励起光源９の光出力を制御する第１制御回路１１と、光減衰器７の出力を目標となるスペクトラムに設定させる第２制御回路１４とを有する。 （もっと読む）