【課題】 投影対物レンズの全体としての設計を適度に変化させて、ペッツヴァルの和の補正に関して柔軟性を得ることができるカタジオプトリックインライン投影対物レンズを提供する。
【解決手段】 投影対物レンズが、自身の物体面内に配置される軸外物体フィールドを自身の像面内に配置される軸外像フィールド上に結像させる一方で、少なくとも１個の中間像を創出する。前記物体フィールドから到来する放射を鏡群の鏡群入口の方へと収束させる正の屈折力を有する前側レンズ群と、前記物体側鏡群入口と像側鏡群出口と光軸に対して交差方向に形成されるとともに、幾何学的に前記鏡群入口と前記鏡群出口との間に配置される鏡群平面とを有する前記鏡群と、前記鏡群出口から出射する放射を前記像面上に集束させる正の屈折力を有する後側レンズ群とを前記光軸に沿って前記の順序で含む。前記鏡群は、前記鏡群入口からの放射を第１の反射部分上において受ける第１の鏡と、前記第１の鏡から反射される放射を第２の反射部分上において受ける第２の鏡と、前記第２の鏡から反射される放射を第３の反射部分上において受ける第３の鏡と、前記第３の鏡から反射される放射を第４の反射部分上において受けるとともに、前記放射を前記鏡群出口へと反射する第４の鏡とを有する。少なくとも２個の前記鏡は、前記光軸に対して回転対称な曲率面を有する凹面状の鏡面を有する凹面鏡であり、前記鏡群の前記鏡は、少なくとも１個の中間像が鏡群入口と鏡群出口との間において前記鏡群の内側に配置されるとともに、前記鏡群入口から到来する放射が前記鏡群平面を少なくとも４回通過し、かつ前記鏡群の凹面状の鏡面において少なくとも２回反射された後に前記鏡群出口において前記鏡群から出射するように構成される。前記鏡群入口は、前記前側レンズ群から出射する放射が入口主光線高さを有する領域内に配置され、前記第２の反射部分は、前記第２の鏡に衝突する放射が、前記入口主光線高さから第１の方向に逸脱する第２の主光線高さを有する領域内に配置され、前記第４の反射部分は、前記第４の鏡に衝突する放射が、前記入口主光線高さから前記第１の方向とは反対の第２の方向に逸脱する第４の主光線高さを有する領域内に配置される。 （もっと読む）

マイクロリソグラフィ投影露光装置（１１０）の投影対物レンズが、液浸液（１３４）が感光層（１２６）に隣接する液浸オペレーションに合わせて設計される。液浸液の屈折率は、投影対物レンズ（１２０、１２０’、１２０”）の物体側において液浸液と隣接する媒質（Ｌ５、１４２、Ｌ２０５、ＬＬ７、ＬＬ８、ＬＬ９）の屈折率より大きい。投影対物レンズは、液浸オペレーション中、液浸液（１３４）が物体平面（１２２）に向かって凸状に湾曲するように設計される。
（もっと読む）

集束力のほとんどが反射によってつくられ、収差の付加を避けるために屈折角が制限される、大開口数対物光学系を特徴とするマイクロリソグラフィ投影用反射屈折結像光学系。開口数を上げるために像面補正光学素子が浸漬構成でマンジャンミラーに添えられる。マンジャンミラーと像面補正光学素子の間の光結合は入射角または屈折率差を制限することによって屈折角を制御するように構成される。像コントラストを向上させるために径方向対称偏光化効果がひとみにおいて達成される。
（もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィを可能にする値に達することができる非常に高い像側開口数の可能性を有する真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用するのに適する反射屈折投影対物レンズを提供する。
【解決手段】 投影対物レンズの物体面上に設けられたパターンを投影対物レンズの像面上に結像するための反射屈折投影対物レンズであって、物体面上に設けられたパターンを第１中間像に結像する第１対物レンズ部、第１中間像を第２中間像に結像する第２対物レンズ部、及び第２中間像を像面上に結像する第３対物レンズ部、を備え、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡とが、第２中間像の上流側に配置され、ひとみ面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、すべての凹面鏡が、ひとみ面から光学的に離して配置される、反射屈折投影対物レンズ。 （もっと読む）

本発明は、レンズ合焦プロセスを、各表面に複数の湾曲軸状光学要素を組み込む２つ以上の表面に分割する。軸状光学系は、鋳造、機械加工、又は吊架薄膜（２４８）によって製造することができる。吊架薄膜が使用される場合、光学系の両側が、透明な吊架薄膜を有する場合がある。別法として、吊架薄膜光学系の一方の側が、反射薄膜を使用する場合がある。
（もっと読む）

【課題】この種装置乃至組立体における複数の光学要素間に介挿される絞り部材を最適なものとした光学要素アッセンブリとこの光学要素アッセンブリを備えた撮像装置を提供。
【解決手段】本光学要素アッセンブリFAは、第１の光学要素10、第２の光学要素20、位置決め保持部材30を含み、第１の光学要素10は一の射出面側13の有効光束通過領域14の周辺部位に自己の嵌合用形状部15a，15bを有し、第２の光学要素20は一の入射面21側の有効光束通過領域24の周辺部位に自己の嵌合用形状部26a，26bを有し、位置決め保持部材30は当該部材の一面31から他面32への光透過を許容する光学的絞り開口33を有し、当該開口周辺の絞り形成部は、開口の径方向に沿う断面の厚み方向寸法が開口周縁33aに向かって漸減し当該開口周縁33aを成す端部が相対的に小さな周縁端寸法ｔに至る形状をなす如く成形され、上記寸法ｔは５μｍ乃至５０μｍであることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】 均質化効果以上に、入射光の分布に追加効果も与えるフライアイコンデンサを、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系や、そのようなフライアイコンデンサを有する照明系にも使用できるようにする。
【解決手段】 入力光分布を出力光分布に変換するためのフライアイコンデンサ（１１５；２１５；３１５；４１５）において、複数の光チャネルを生じるために光学群（２１、２２；１２１、１２２；２２１、２２２；４０；１４０）の少なくとも１つのラスター配列を有するフライアイコンデンサ（１１５；２１５；３１５；４１５）であって、光学群（２１、２２；１２１、１２２；２２１、２２２；４０；１４０）の少なくとも一部は、光チャネルを通過する光の偏光状態を変化させるための偏光変化手段（３０；１２１、１２２；２３０；４０；１４０）を有する、フライアイコンデンサ。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも３つのアクチュエータデバイス（９）を介して、構造体（８）について、６自由度まで光学素子（７）を操作するための装置に関する。各アクチュエータデバイス（９）が、それぞれ１自由度の有効な力を生成する、少なくとも２つの力制御アクチュエータを備え、アクチュエータデバイス（９）の連結点（１１）は、光学素子（７）に直接作用する。
（もっと読む）

約２６６〜１０００ｎｍの波長域や１５７ｎｍから赤外に至る波長域といった各種の波長域に属する光エネルギ用の対物系を用いる検査システム及び方法を提供する。この対物系は、光を受け取る１個又は複数個の合焦レンズ素子（３０４)を含む合焦レンズ素子集合体（３１１)と、合焦レンズ素子集合体（３１１)により合焦された光エネルギを受け取り中間的な光エネルギを出射するよう方向設定された視野レンズ素子（３０５)と、視野レンズ素子（３０５)から中間的な光エネルギを受け取り制御された光エネルギを発生させるよう位置設定されたマンジャンミラー装置（３１２)とを備える。各合焦レンズ素子は約１００ｍｍ未満と小径であり、その最大補正視野サイズは約０．１５ｍｍである。制御された光エネルギは、検査する標本（３１０)に与える前に、油、水、シリコーンゲル等の浸漬媒に通してもよい。

（もっと読む）

一例の実施形態によれば、投影対物レンズ（１００，２００）が提供され、そこには少なくとも２つの非平面（曲面）ミラー（Ｍ１〜Ｍ４）が含まれており、それにおいて最後から２番目の非平面ミラー（Ｍ３）と最後の非平面ミラー（Ｍ４）の間における軸距離が、光路（光軸）に沿って定義されるものとするとき、最後の非平面ミラーと、光路内において続くレンズの第１の屈折表面の間における軸距離より大きい。一例の実施形態においては、第１の屈折表面がシングル・パス・タイプのレンズと関連付けされる。本件の対物レンズは、少なくとも約０．８０またはそれ以上、たとえば０．９５の開口率を伴ってイメージを形成する。好ましくはこの対物レンズは折り返しミラーを含まず、また２つのミラーの間に中間イメージを有してなく、さらには対物レンズの瞳は、オブスキュレーションから解放される。 （もっと読む）

【課題】 開口を光軸と略垂直方向に移動させることにより光学素子の任意の部分を選択的に利用する簡単な構成で、焦点距離の調整等を可能とする。
【解決手段】 少なくとも２つの光学素子３１、３２から構成され、物体側に配置されて１次像を形成する第１群３１、１次像を像面に投影する第２群３２から構成され、１次像近傍に光路を選択する偏向ミラー４を配置し、第１群又は第２群は少なくとも２つの連続な回転非対称面を有する焦点距離可変光学素子からなる光学系。 （もっと読む）