【課題】 アナモルフィックな結像光学系を用いた画像読取光学系であって、焦点ズレによるコントラスト性能の変化が少ない画像読取光学系およびこれを用いた画像読取装置を提供する。
【解決手段】 光学的位相変更フィルタは、入射する光束の中心における面法線を含み、かつ主走査方向あるいは副走査方向を含む所定面に関してのみ、対称な形状の面形状成分を備え、入射する光束の中心における面法線を含み、前記所定面に直交する面に関して一方側を前記進相領域、他方側を前記遅相領域とする。 （もっと読む）

【課題】照度の低下を防止し、照度むらの低減を図ることができる画像投射装置を得る。
【解決手段】リフレクタ１１を有する光源、照明均一化素子４、リレーレンズ５，６、第１、第２折り返しミラー７，８を有してなる照明光学系と、配列された各ミラー画素を傾けて画像を形成し照明光学系によって照明光が照射される反射型空間光変調素子１０と、反射型空間光変調素子１０で反射される光を画像投射面に投射する投射光学系２０と、を有する。第２折り返しミラー８は、投射光学系２０の鏡筒部分と第２折り返しミラー８との機械的な重なり合いを避けるための切り欠き８１を有し、リフレクタ１１を有する光源ユニット１は、反射型空間光変調素子１０の照明領域において切り欠き８１に対応する部分の照度分布調整を行うための位置調整部材を有する。 （もっと読む）

【課題】改善された検査装置、反射屈折対物系および屈折対物系を提供する。
【解決手段】検査装置５００は、第１ビーム５２２を受け、第１ビーム５２４をウェーハ５０８から反射するべく誘導するように構成された反射屈折対物系５０４と、反射したビームによって作り出された第１の像を検出する第１センサ５１０、第２ビーム５２４をウェーハ５０８から反射するべく誘導するように構成された屈折対物系５０６と、反射したビームによって作り出された第２の像を検出する第２センサ５１２を備える。検査装置５００は、ウェーハから反射されたビームによって作り出された第３の像を検出するように構成される第３センサ５１４も備えることができ、第１および第２の像は、ＣＤ測定に使用され、第３の像は、ＯＶ測定に使用され得る。第２ビームは、約２００ｎｍ〜約４２５ｎｍのスペクトル範囲を、第３ビームは約４２５ｎｍ〜約８５０ｎｍのスペクトル範囲を有する。 （もっと読む）

【課題】 極紫外スペクトル範囲（ＥＵＶ）内の波長に向けて構成された反射投影レンズを用いてマスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】 マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＰＬＳ）と、加熱光源（ＨＬＳ）と、反射投影レンズ（２６）と、好ましくは投影レンズ（２６）の外側に配置され、ドライバ（１２４）を用いて第１の位置と第２の位置との間で変位させることができる反射スイッチング要素（１２２；２２２；３２２；４２２；１４；１４，１４０）とを含む。この場合、スイッチング要素の第１の位置では、投影光（ＰＬ）のみが投影レンズ（２６）に入射することができ、スイッチング要素の第２の位置では、加熱光（ＨＬ）のみがこの投影レンズに入射することができる。 （もっと読む）

【課題】光学要素を取り付けるのに十分な設計空間を、特に対物系の前方部分に確保する投影対物系を提供する。
【解決手段】物体視野が形成される物体平面（２０、１００、３００、２１０３）と、入射瞳（ＶＥ）と、前記物体平面において前記入射瞳（ＶＥ）を鏡像化することによって得られる、鏡像化入射瞳平面（１０３）内の鏡像化入射瞳（ＲＥ）と、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と、光軸（ＨＡ）と、少なくとも第１の鏡（Ｓ１）と第２の鏡（Ｓ２）とを備える。この投影対物系の入射瞳のバック・フォーカスが負であり、物体視野の中心点から発生して、物体平面から像平面にかけて対物系を横断する主光線（ＣＲ、ＣＲＰ）が、少なくとも１つの交差点（ＣＲＯＳＳ）において光軸（ＨＡ）と交差し、すべての交差点（ＣＲＯＳＳ、ＣＲＯＳＳ１、ＣＲＯＳＳ２）の幾何学的位置が、像平面（２１、１０２、３０２、２１０２）と鏡像化入射瞳平面（１０３）との間にある。 （もっと読む）

【課題】照明光学系の光利用効率が高く、縦置き可能な画像表示装置に関する。
【解決手段】光源、集光器、光ミキシング素子、カラーフィルタ、反射型画像表示素子、第１リレーレンズ及び第２リレーレンズ、第１折り返しミラー及び第２折り返しミラーからなる照明光学系と、反射型画像表示素子を構成する複数の微小ミラーのうちオン状態にある微小ミラーからの反射光を被投射面に投射する投射光学系と、を有し、反射型画像表示素子が有する表示面と被投射面との成す角が略直交しており、第１リレーレンズが光源と光ミキシング素子が成す光軸に対してチルトしている、画像表示装置による。 （もっと読む）

【課題】 観察者の眼の位置がライトガイドに対して上下方向に動いても、観察者が観察対象の虚像を正常に視認することができる表示装置を提供する。
【解決手段】 出射機構２１、２２と、ライトガイド３とを備える表示装置１であって、出射機構２１、２２は、上下方向に並べられた第一出射機構２１と第二出射機構２２とを有し、第一出射機構２１は、第一部分と上下補正した第一部分とを少なくとも含む画像表示光を出射するか、或いは、第二出射機構２２は、第三部分と上下補正した第三部分とを少なくとも含む画像表示光を出射し、ライトガイド３は、第一面３３ｃで第一出射機構２１からの上下補正した第一部分となる画像表示光を１回以上反射させるか、或いは、第二面３３ｄで第二出射機構２２からの上下補正した第三部分となる画像表示光を１回以上反射させるかの少なくともいずれかを行って、画像表示光を観察者の眼に導くことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有効利用する波長において、ＥＵＶ光源、特に、ＥＵＶプラズマ光源の光源パワー及び光源位置を十分な精度を持って測定することができる測定手段を備えたＥＵＶ照明システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、ＥＵＶ光源（３）の、又はＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）がＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲がＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される。 （もっと読む）

【課題】 良好な結像性能と小型化を両立する投影光学系を提供する。
【解決手段】 投影光学系は、物体面に配置された物体の中間像を形成する第１の反射光学系と前記中間像を像面に投影する第２の反射光学系とを含む。前記第１の反射光学系は、前記物体面から出射され前記物体面に直交する第１方向に沿って入射した光を反射する第１の平面鏡と、前記第１の平面鏡からの光を反射する第１の光学系と、前記第１の光学系からの光を反射して前記中間像の形成位置に向け前記第１方向に沿って出射する第２の平面鏡とを有する。前記第２の平面鏡における光の反射位置と前記中間像の形成位置との間の前記第１方向における距離は前記第１の平面鏡における光の反射位置と前記物体面との間の前記第１方向における距離よりも短い。 （もっと読む）

【課題】反射面を含む結像光学系を採用しつつ、色収差も補正可能で、歪みない大画面の投射が可能で、コンパクトな投射光学系を実現する。
【解決手段】画像を形成するライトバルブに光源からの照明光を照射し、ライトバルブに形成された画像を平面の投影面に拡大投影する投射光学系であって、１以上のレンズからなり、投影面とライトバルブとの間に、画像の中間像を形成するための正のパワーを有する第１光学系７１と、中間像と第１光学系との間に設けられた１枚の第１反射面７２１と、中間像を結像した後の発散する光束を反射し、投影面状に結像させるための正のパワーを有する１枚の第２反射面７２２と、を有し、第１反射面７２１、第１光学系７１、第２反射面７２２の順に、投影面から近い位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィを可能にする真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用するのに適する反射屈折投影対物レンズを提供する。
【解決手段】物体面１０１上に設けられたパターンを像面１０２上に結像するための反射屈折投影対物レンズ１００であって、物体面上に設けられたパターンを第１中間像１０３に結像する第１対物レンズ部１１０、第１中間像を第２中間像１０４に結像する第２対物レンズ部１２０、及び第２中間像を像面上に結像する第３対物レンズ部１３０、を備え、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡１２１と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡１２２とが、第２中間像の上流側に配置され、ひとみ面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、すべての凹面鏡が、ひとみ面から光学的に離して配置される。 （もっと読む）

【課題】集積回路を製造するためのマイクロリソグラフィーにおいて、マスク乃至レチクル形態の対象物をEUV照射によって照らすために使用される公知の照明システム及びそれらを備えた投影露光システムを指定サイズのEUVにより処理能力が増加する乃至所定のEUV処理能力によりサイズが減少されるよう、更に発達させることである。
【解決手段】光学軸の方向にEUV照射を集束するコレクタ、二次光源を発生するための第一光学要素、上記二次光源の位置に配置された第二光学要素及び第一光学要素と合わせて最大５つとなる更なる光学要素をコレクターと照明領域の間に備える照明システムにおいて、光学要素と光学軸が６０°よりも大きいか３０°よりも小さい入射角で交わり、光学軸の少なくとも一つの軸部分が少なくとも二つの光学要素の間において照明主要面に対して傾斜していることを特徴とする、照明システムによって成し遂げられる。 （もっと読む）

【課題】被照射面に合わせて出射光の進行方向を制御することができ、かつ直視したときの眩しさを低減することができる光束制御部材を提供すること。
【解決手段】光束制御部材１００は、光束制御部材１００の中央部に形成され、発光素子２００から出射された光を入射する入射部１１０と、光束制御部材１００の中央部と外周部との間に形成され、入射部１１０から入射した光を光束制御部材１００の外周部に導光する板状の導光部１２０と、光束制御部材１００の外周部に形成され、導光部１２０により導光された光を外部に出射する出射部１３０とを有する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、画素毎のずれが発生することなく、フルスペクトルの鮮明な画像を投影する。
【解決手段】白色光を射出する光源部１０と、白色光の回折光を発生する第１の回折格子１９と、色分解された光束を光変調して反射するＤＭＤ２２と、ＤＭＤ２２に第１の回折格子１９からの光束を導くとともに、ＤＭＤ２２からの反射光を射出するＲＴＩＲプリズム２１と、ＤＭＤ２２からのフルスペクトルの所望の分布になっている光束を調整合成した光束として発生する第２の回折格子２４と、この光束を偏向走査して各スペクトル分布の光束を時分割により２次元化するガルバノミラー２９と、接眼レンズ３１を含む結像光学系３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】反射面を含む結像光学系を採用しつつ、色収差も補正可能で、歪みない大画面の投射が可能で、コンパクトな投射光学系を実現する。
【解決手段】画像を形成するライトバルブに光源からの照明光を照射し、ライトバルブに形成された画像を平面の投影面に拡大投影する投射光学系であって、１以上のレンズからなり、投影面とライトバルブとの間に、画像の中間像を形成するための正のパワーを有する第１光学系７１と、中間像と第１光学系との間に設けられた１枚の第１反射面７２１と、中間像を結像した後の発散する光束を反射し、投影面状に結像させるための正のパワーを有する１枚の第２反射面７２２と、を有し、第１反射面７２１、第１光学系７１、第２反射面７２２の順に、投影面から近い位置に配置されている。 （もっと読む）

【課題】瞳ファセットを視野ファセットに割り当てる方法を提供する。
【解決手段】照明光の部分ビームに対する照明チャンネルの定義のために投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法。最初に、少なくとも１つの照明パラメータが識別される。次に、可能な照明チャンネルを評価する評価関数が事前定義される。これに、評価変数を計算する段階が続く。評価ターゲット範囲を達成する評価変数を有する照明チャンネルが事前選択される。少なくとも１つの外乱変数及びこの外乱変数への照明関数の依存性が識別される。外乱変数は、事前定義された外乱変数変動範囲で変更され、評価変数の変動が評価関数に基づいて計算される。変動範囲全体において評価ターゲット範囲に留まる、変更された評価変数を有する照明チャンネルが選択される。 （もっと読む）

【課題】ＮＡ＞１の開口数で液浸リソグラフィが可能な非常に高い像側開口数を有する真空紫外（ＶＵＶ）領域で使用する反射屈折投影対物レンズの提供。
【解決手段】物体面１０１上のパターンを像面１０２上に結像するための反射屈折投影対物レンズであって、パターンを第１中間像１０３に結像する第１対物レンズ部１１０と、第１中間像を第２中間像１０４に結像する第２対物レンズ部１２０と、第２中間像を像面１０２上に結像する第３対物レンズ部２３０とを有し、第１連続鏡面を有する第１凹面鏡１２１と、第２連続鏡面を有する少なくとも１つの第２凹面鏡１２２とが、第２中間像１０４の上流側に配置され、瞳面が、物体面と第１中間像との間、第１及び第２中間像の間、及び第２中間像と像面との間に形成され、主光線高さがすべての凹面鏡１２１，１２２で光学的に離して配置される。 （もっと読む）

【課題】掩蔽（obscurated：オブスキュレーション）光学系において、分解能の限界が結像構造の位置及び配向に応じて変わる場合、結像光学系の精密測定の実行を可能にするデバイス、このデバイスを有する投影露光装置、その方法、センサユニットとを提供する。
【解決手段】結像光学系上流ビーム経路内に位置決め可能な第１格子構造（１６）を有する第１格子パターン（６）と、下流ビーム経路内に位置決め可能な第２格子構造（１８）を有する第２格子パターン（８）と、第２格子パターン（８）の第２格子構造（１８）への第１格子パターン（６）の第１格子構造（１６）の結像中に生成される重ね合わせ縞パターンの空間分解測定用センサユニットとを備えるデバイスに関する。 （もっと読む）

【課題】コンパクトなマイクロリソグラフィー投影光学系を提供する。
【解決手段】物体面１００の物体フィールドを像面１０２の像フィールドに結像する、波長が２４８ｎｍ以下、好ましくは１９３ｎｍ以下、特に波長が１〜３０ｎｍの範囲のＥＵＶリソグラフィー用のマイクロリソグラフィー投影光学系に関する。本マイクロリソグラフィー投影光学系は、例えば、虹彩絞りを導入することができる、十分なスペースの取扱い可能な絞り面２０００を設ける。 （もっと読む）

【課題】光源からの光を導くための改善されたコリメータを提供する。
【解決手段】導光体およびＬＥＤなどの光源を有する平坦反射コリメータ組立体において、導光体の側面は、導光体の軸線上に配置された平行化焦点を有する放物面形を有する平行化反射面を形成する。導光体の中心部は、平行化焦点と実質的に同じ虚焦点を有する主反射面を形成する。平行化反射面は、放物面であるか、又は、様々な焦点距離を有し且つ共通の平行化焦点を有する複数の放物面部分として形成される。また、平行化反射面は、分散光学系を有してもよい。 （もっと読む）