【課題】 観察者が観察する虚像と外界とに輝度ムラが発生することを抑制することができる表示装置を提供する。
【解決手段】 第一面４６ａ及び／又は第二面４６ｂで光学系３からの画像表示光を設定方向へと反射させながら出射面４２に導き、出射面４２から画像表示光を観察者の眼に導く第一ライトガイド５を備える表示装置１であって、第一ライトガイド５は、第二ライトガイド４に画像表示光を導く誘導面４３を有し、第一面５６ａ及び／又は第二面５６ｂで第一ライトガイド５からの画像表示光を反対設定方向へと反射させながら出射面５２に導き、出射面５２から画像表示光を観察者の眼に導く第二ライトガイド５を備え、第一ライトガイド４における出射面４２からの画像表示光と、第二ライトガイド５における出射面５２からの画像表示光とが重なるようにして、観察者の眼Ｅに導くことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 小型化、特に偏心面内で光学素子を細くすることが可能で、広い観察画角を鮮明に且つ遠方の映像として観察することが可能な小型の接眼光学系を提供する。
【解決手段】 映像表示素子５の映像を観察者瞳位置Ｅに表示する接眼光学系１であって、任意の２断面で結像回数が異なることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】全長の長い投影光学系であってもそれを必要な設置場所に容易に設置できるとともに、設置場所における組立調整を短時間に行う。
【解決手段】下部鏡筒６Ａと上部鏡筒６Ｂとを有する投影光学系ＰＯの組立方法は、投影光学系ＰＯの光学特性が調整された状態で、下部鏡筒６Ａと上部鏡筒６Ｂとの相対位置関係を記憶し、下部鏡筒６Ａと上部鏡筒６Ｂとを分解する工程と、次に下部鏡筒６Ａと上部鏡筒６Ｂとを互いに固定する際、記憶された相対位置関係に基づいて、下部鏡筒６Ａと上部鏡筒６Ｂとの相対位置を調整する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】レンズ屈折面形状が変化することで焦点距離が変化するレンズを用いるズームレンズを構成するにあたり、収差を抑制して光学特性の劣化を抑える。
【解決手段】第１の可変レンズ３２を含み、レンズ３２の変形により焦点距離が変化する物体側のレンズ群５１と、このレンズ群５１に対して絞り１１を挟んで像側に配置される第２の可変レンズ４１を含み、この第２の可変レンズ４１の変形により焦点距離が変化する像側のレンズ群５４と、これらの間に、口径絞り１１を含むレンズ群５２を有する。物体側のレンズ群５１及び像側のレンズ群５４に設けられる第１及び第２の可変レンズ３２及び４１の変形を制御することによって変倍を行うとともに、変倍による像面移動補償及び焦点合わせが行われる構成とする。 （もっと読む）

【課題】投影対物器械の物体面に配置された物体視野を投影対物器械の像面に配置された像視野上に結像するための反射屈折投影対物器械を提供する。
【解決手段】反射屈折投影対物器械（１００）は、物体面からのパターンを第１の中間像（ＩＭＩ１）内に結像させるように構成されて第１の瞳表面（Ｐ１）を有する第１の対物器械部（ＬＧ１）と、第１の中間像（ＩＭＩ１）を第２の中間像（ＩＭＩ２）内に結像させるように構成され、第１の瞳表面（Ｐ１）と光学的に共役な第２の瞳表面（Ｐ２）を有する第２の対物器械部（ＨＧ）と、第２の中間像（ＩＭＩ２）を像面（ＩＳ）内に結像させるように構成され、第１及び第２の瞳表面と光学的に共役な第３の瞳表面（Ｐ３）を有する第３の対物器械部（ＬＧ２、ＬＧ３、ＬＧ４）とを有する。 （もっと読む）

本発明は、基板（Ｓ）及び層構成体を備え、層構成体がそれぞれ個別層の少なくとも２つの周期（Ｐ_２、Ｐ_３）の周期的配列からなる複数の層サブシステム（Ｐ’’、Ｐ’’’）を備え、周期（Ｐ_２、Ｐ_３）が高屈折率層（Ｈ’’、Ｈ’’’）及び低屈折率層（Ｌ’’、Ｌ’’’）に関して異なる材料から構成される２つの個別層を含み、各サブシステム（Ｐ’’、Ｐ’’’）内で、隣接する層サブシステムの周期の厚さから逸脱した一定の厚さ（ｄ_２、ｄ_３）を有する、ＥＵＶ波長域用のミラー（１ａ；１ｂ；１ｃ）に関する。ミラーは、基板（Ｓ）から２番目に遠い層サブシステム（Ｐ’’）が有する周期（Ｐ_２）の配列が、基板（Ｓ）から最も遠い層サブシステム（Ｐ’’’）の第１高屈折率層（Ｈ’’’）が基板から２番目に遠い層サブシステム（Ｐ’’）の最終高屈折率層（Ｈ’’）の直後に続くように、且つ／又は基板（Ｓ）から最も遠い層サブシステム（Ｐ’’’）が基板（Ｓ）から２番目に遠い層サブシステム（Ｐ’’）の周期（Ｐ_２）の数（Ｎ_２）よりも多い周期（Ｐ_３）の数（Ｎ_３）を有するようになっていることを特徴とする。本発明はさらに、上記ミラー（１ａ；１ｂ；１ｃ）を備えるマイクロリソグラフィ用の投影対物レンズ、及び当該投影対物レンズを備える投影露光装置に関する。 （もっと読む）

結像光学系は、物体平面（１１）の物体視野（９）を像平面（１４）の像視野（１３）に結像する複数のミラーを有する。ミラーのうちの少なくとも１つの反射面は、回転対称関数によって記述することができない自由曲面として構成される。物体視野は、１よりも大きいアスペクト比（ｘ／ｙ）を有し、物体視野の最小横手寸法と最大横手寸法の比は、０．９よりも小さい。更に別の態様では、物体視野（９）及び／又は像視野（１３）は、鏡面対称視野形態から逸脱する。物体視野（９）を照明するための照明光学系（１０）は、対応して形成された物体視野（９）を照明するように設計された照明光（３）を誘導する構成要素を有する。その結果は、結像光学系によって結像される視野にわたる結像誤差補正に対する高い要求が考慮された結像光学系、照明光学系、及びこれらが装備された投影露光系である。 （もっと読む）

【課題】 光学ガラス（完全に反射型のみの設計、または屈折原理および反射原理の両方に作用する反射屈折設計）から製造される中実のレフラキシコンと、中空のレフラキシコン（完全に反射のみに作用する）との両方、これらの種々の組み合わせに基づく新規な構造を提案する。
【解決手段】 ２つ以上のレフラキシコンを備え、これらのレフラキシコンのうちの１つまたは両方が中実の光透過性材料で形成され、あるいはこれらのレフラキシコンのいずれも中実の光透過性材料では形成され、対物レンズ、リレー、ビーム拡大器として使用および実装されるレフラキシコン装置であって、各レフラキシコンは、略円錐形の中心面と円錐台のような形の遠心面とを有し、これらの面が中心軸に合わせてこの中心軸を中心として対称となるように配置されたことを特徴とする。また、レフラキシコン装置において、前記中心軸は、位置が合わせられ、レフラキシコン装置の光学軸を構成し、前記各面のいずれかならびにレフラキシコン装置の入射面および反射面をさらに曲面とすることにより、用途によって異なる求められる光学的効果が得られるようにする。さらに、中心反射体を構成する円錐面は、それぞれあるいはいずれも、凸面または凹面であり、好ましい実施形態としては、構成の軽減を容易にするために２つの凹形中心反射体を用いる。 （もっと読む）

結像系。光源に対応し、かつ互いに実質的に平行な光軸を有する光源アレイ、およびレンズアレイが提供される。レンズは、平行出力ビームを生成する。レンズの光軸に実質的に平行な光軸を有する、無限焦点光リレーも含まれ、該レンズアレイは、画像面上に各平行出力ビームの画像を生成する光学系を形成するように、無限焦点光リレーに対して位置付けられ、各画像は、所定の焦点深度および最小スポットサイズを有する。光源は、好ましくは、高輝度および長いウエストを有するそれぞれのレーザビームのアレイを生成する、レーザである。情報を感光性ラベル上に書き込むためのシステムは、結像系を含む。結像の方法、および情報を感光性ラベル上に書き込む方法も提供される。
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【課題】製造が容易な投影光学系を有する露光装置を提供する。
【解決手段】原版のパターンを投影光学系によって基板に投影して該基板を露光する露光装置において、前記投影光学系は、ミラーアセンブリを含み、前記ミラーアセンブリは、前記投影光学系の光軸を折り曲げる第１反射面を有する第１ミラー部材と、前記光軸を折り曲げる第２反射面を有する第２ミラー部材と、前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材を支持する支持機構とを含み、前記支持機構が位置決めされることによって前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材の相互の位置関係が維持されたまま前記第１ミラー部材および前記第２ミラー部材が位置決めされる。 （もっと読む）

【課題】 特に高出力のレーザビームを対象とし、全て反射型光学素子を用いて高出力を保ったままで、外径／内径比が使用機器に適した比率のリングビームに変換できるリングビーム変換装置を提供すること。
【解決手段】 レーザビームを同一光軸で反射する、内方向に配置した凸アキシコンミラー１３，２３と外方向に配置した凹アキシコンミラー１５，２５とを有するアキシコンミラー群１７，２７と、このアキシコンミラー群１７，２７の凸アキシコンミラー１３，２３で反射させるレーザビームが通過するレーザ通過孔１１，２１と、アキシコンミラー群１７，２７の凹アキシコンミラー１５，２５で反射させるレーザビームを所定角で反射させる反射面１２，２２とを有するスクレーパミラー１０，２０とを備え、前記アキシコンミラー群１７，２７及びスクレーパミラー１０，２０の保持手段３０を前記レーザビームＬ１，Ｌ２の光路外に配置している。 （もっと読む）

【課題】画面内のＧの色ムラや瞳位置のずれによるＧの色ムラを低減しながら、観察映像の色再現領域を広げる。
【解決手段】ＲＧＢの各色の波長域における回折ピークの半値波長幅がそれぞれ２０ｎｍ以下と狭いＨＯＥを用い、ＨＯＥを介して光学瞳に導かれる映像光が、ＲＧＢの色純度が高くなる波長付近に強度ピークを有するように、光源およびＨＯＥを設定する。しかも、ＨＯＥの傾斜方向において、回折ピーク波長が５２０ｎｍとなる画角でのＧの映像光に対するＢの映像光の強度比よりも、回折ピーク波長が５５５ｎｍとなる画角でのＧの映像光に対するＢの映像光の強度比が高くなるように、光源およびＨＯＥを設定する。 （もっと読む）

【課題】装置を大型化、重量化することなく、広い外界視野を確保するとともに、眼幅の異なる観察者に解像度の良好な映像を観察させる。
【解決手段】表示位置変更機構１７は、瞳位置検出部１６によって検出される観察者の瞳位置に応じて、表示素子１４の表示面を含む面内で、接眼光学系１５に対して映像の表示位置を変更する。しかも、表示位置変更機構１７は、観察者の瞳位置が設計光学瞳からずれる方向とは反対方向に表示位置を変更する。これにより、観察者の瞳位置が設計光学瞳からずれている場合でも、表示素子１４からの映像光を、接眼光学系１５の周辺部分よりも内側の部分を介して観察者の瞳に入射させることができる。また、接眼光学系を移動させる従来のように移動機構が大型化することがなく、表示素子１４と接眼光学系１５との距離を短くすれば、表示素子１４の移動量も小さくできる。 （もっと読む）

【課題】走査に用いるビームの光量を必要以上げることなく画像取得時間の高速化を図ることができると共に、画像の高精細化を図ることができる補償光学系を備えた画像形成装置を提供する。
【解決手段】測定対象を、偏向器によって測定光により走査し、
前記測定対象からの反射光あるいは後方散乱光を、補償光学系で補正して該測定対象の画像を取得する補償光学系を備えた画像取得装置であって、
前記測定光により前記測定対象を走査した際に、該測定対象によって発生する前記測定光の波面収差を検出する波面収差検出器と、
前記波面収差検出器によって検出された波面収差に応じて、前記測定光の波面収差を補正する、前記偏向器と光学的に共役な位置に配置された波面収差補正器と、
前記波面収差補正器と前記偏向器の配置位置の間に、少なくとも１つ配置されている回転対称軸を持たない非球面ミラーと、を有する構成とする。 （もっと読む）

表面上のパターンを走査する方法であって，この方法は，表面上に描画するパターンを含む第１の空間的に変調された光ビームを形成し，上記第１の空間的に変調された光ビームを複数のサブ・ビームに分割し，上記複数のサブ・ビーム間の空間関係を変更し，これにより第２の空間的に変調された光ビームを形成し，上記第２の空間的に変調された光ビームを用いて上記表面を走査する。
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【課題】 照明光によって照明された第１の面での反射光によって第１の面の像を第２の面に投影する際、第１の面側及び第２の面側の両方でほぼテレセントリックである反射型投影光学系を提供すること。
【解決手段】 照明光学系からの照明ビームＩＢによって照明されたレチクルＲのパターン面Ｒ１での反射光によってパターン面Ｒ１の像をウェハＷの露光面Ｗ１に投影する投影光学系ＰＬは、反射ミラーＭ１、Ｍ２を備える第１光学群Ｇ１と、反射ミラーＭ３〜Ｍ６を備える第２光学群Ｇ２とを備える。第１光学群Ｇ１の露光面Ｗ１側の焦点位置と第２光学群Ｇ２のパターン面Ｒ１側の焦点位置とがほぼ一致しており、パターン面Ｒ１の法線Ｎと照明ビームＩＢの主光線Ｌとのなす角度βが投影光学系ＰＬのレチクル側開口数の逆正弦の値よりも大きい。投影光学系ＰＬの全ての光学素子Ｍ１〜Ｍ６は照明ビームＩＢの外縁を規定する光線分の延長面ＩＭを越えない。 （もっと読む）

【課題】ホログラムの虚像を十分目視できるとともにホログラム素子の周囲のサングラスレンズを透過する日中の外光が必要以上に抑制されない透過型ディスプレイ装置及びディスプレイユニットを提供すること。
【解決手段】ユーザーの眼球の直前に配置される視度補正用のサングラスレンズ１４とその前方（物体側）に配置される映像投影モニターとしての透明基板２２とを備え、透明基板２２内部のホログラム素子表面にハーフミラー層を配置する。サングラスレンズ１４は青色可視光の透過率が特異的に低く設定されており、青色以外の他の波長域の可視光の透過率が特異的に高く設定されている。一方、ハーフミラー層はサングラスレンズ１４の透過特性とは逆に設定するようにした。これによって、ホログラム素子に投影される比較的輝度の低いホログラムの虚像が外光によって見にくくなることはなく、ユーザーは目視可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光軸（５）との関係で正確な位置に配置された複数のミラー（Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６）を備えた、短波長、特に波長λ＜１５７ｎｍのための投影レンズ（１）に関する。
【解決手段】ミラー（Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６）は、多層膜を備えている。熱膨張係数のゼロ転移温度周辺の温度に応じて、熱膨張係数の傾き、具体的にはその値の符号が異なる少なくとも２つの異なるミラー材料が用いられる。 （もっと読む）

【課題】光線束を案内するためのミラーにおいて、ミラーの熱放散装置の熱放散能力を改善する。
【解決手段】光線束を案内するためのミラー（８；４４）は、ベース（２１；４５）と、ベース（２１；４５）の反射面（１９）におけるミラー（８；４４）の反射性を増大させるコーティング（２２）と、コーティング（２２）に溜まった熱（２３）を放散させるための熱放散装置（２４）とを備える。熱放散装置（２４）は少なくとも１つのペルティエ素子（２５）を有し、コーティング（２２）は、ペルティエ素子（２５）に直接に塗布される。 （もっと読む）

本発明は、基板上に塗布した階層構造を有し、階層構造が複数個のサブ層系（Ｐ’’，Ｐ’’’）を含み、各サブ層系は、一連の個別層よりなる少なくとも１個の周期（Ｐ_２，Ｐ_３）の周期的配列で構成し、周期（Ｐ_２，Ｐ_３）は、高屈折率層（Ｈ’’，Ｈ’’’）および低屈折率層（Ｌ’’，Ｌ’’’）としての異なる材料からなる２個の個別層を含み、かつ各サブ層系（Ｐ’’，Ｐ’’’）に関しては、隣接するサブ層系の周期厚と相違する一定の厚さ（ｄ_２，ｄ_３）を有する、ＥＵＶ波長域用のミラーに関する。当該ミラーは、基板から最も遠く離れたサブ層系（Ｐ’’’）が、基板から２番目に遠く離れたサブ層系（Ｐ’’）の周期膜（Ｐ_２）の個数（Ｎ_２）より多い周期（Ｐ_３）の個数（Ｎ_３）を有する、及び／又は基板から最も遠く離れたサブ層系（Ｐ’’’）の高屈折率層（Ｈ’’’）の厚さが、基板から２番目に遠く離れたサブ層系の高屈折率層（Ｈ’’）の厚さと０．１ｎｍ超相違することを特徴とする。本発明はさらにそのようなミラーを備えるマイクロリソグラフィ用の投影対物鏡およびそのような投影対物鏡を含む投影露光装置に関する。
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