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Fターム[2H087TA02]の内容

レンズ系 (153,160) | 反射光学系 (3,147) | 反射鏡の枚数 (1,410)

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Fターム[2H087TA02]に分類される特許

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【課題】撮像光学系における絞り機構を改善することにより、フレアやゴーストを防ぎ、ダイナミックレンジの範囲を拡大することを可能にした撮像装置を提供することにある。
【解決手段】少なくとも、撮像光学系2と、撮像光学系2により被写体の光学像を結像する撮像素子5とを備える撮像装置1において、撮像光学系2は、その結像光学系において少なくとも1つを反射ミラー4、7で構成するとともに、反射ミラーの1つが絞り機能6、7、8を有することを特徴とする撮像装置である。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造を用いて温度変化による光学部材の位置の変化を抑制できる光学系を提供する。
【解決手段】鏡筒によってミラーM1〜M6を支持する投影光学系POにおいて、その鏡筒は、温度変化による熱変形によって、ミラーM1〜M6のうちのミラーM1をZ方向に変位させる支持部材22と、温度変化による熱変形によって、ミラーM1のZ方向への変位が相殺されるようにミラーM1を変位させ、支持部材22とは線膨張係数の異なる部分鏡筒12Aとを含む。 (もっと読む)


【課題】組み立て時での母線の曲がりを調整する際の操作性を向上させることができる構成を備えた光走査装置を提供する。
【解決手段】光学素子305を支持し、光軸周りに回転させる向きに揺動可能な支持部材301’の主走査方向端部に設けられた加圧手段326’において、支持部材301’に挿通され、先端がベース部材1000に埋設されるロッド部材からなるガイドピン326A’と、ガイドピン326A’に挿嵌されてガイドピン326A’の頭部との間に配置されるスプリング326B’の抜け止めを行う抜け止め326C’とをユニット構造とし、組み立て時の支持部材301’を光学素子305の母線の曲がり矯正の際に部品の分散脱落などを防止することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光学素子の波面収差を好適に維持できる光学素子位置調整装置、光学系、露光装置及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】光学素子位置調整装置は、ミラー33,35を保持し、且つ鏡筒29に対してミラー33,35を6自由度方向に移動させるべく駆動する駆動部を有するミラー保持装置と、第6ミラー35のZ軸方向における位置を計測するための第6軸方向計測器61Fと、第4ミラー33のY軸方向における位置を計測するための鏡筒半径計測器62及び間隔計測器63と、各計測器61F,62,63からの計測結果に基づきミラー保持装置を制御する制御装置とを備えている。 (もっと読む)


【課題】観察者の頭部に装着されたときのフレームの変形が、画像表示装置によって得られる画像と観察者の瞳との間の相対的な位置関係に影響を与えることのない頭部装着型ディスプレイを提供する。
【解決手段】観察者の頭部に装着される眼鏡型のフレーム10及び2つの画像表示装置を備えており、各画像表示装置は、画像生成装置110A,110B、及び、全体として画像生成装置よりも観察者の顔の中心側に配置され、画像生成装置から出射された光が入射され、導光され、観察者の瞳41に向かって出射される導光手段120から構成されており、2つの画像生成装置110A,110Bを結合する結合部材20を更に有し、結合部材20は、観察者の2つの瞳41の間に位置するフレームの中央部分12に取り付けられており、各画像生成装置1140A,110Bは観察者の瞳41よりも外側に位置している。 (もっと読む)


【課題】ミラーに振動を伝えることなくミラーを裏面側から効率的に変形及び/又は冷却できる装置を提供する。
【解決手段】ミラー装置は、ミラーM1の裏面に隔壁部35dによって区分けされた複数の穴部35cと、複数の穴部35cの底面にそれぞれ固定された複数の薄膜圧電素子41と、穴部35cに差し込まれる複数の突部36aを有する放射温調板36と、ミラーM1を変形させるために、その複数の薄膜圧電素子41に加える電圧を個別に制御するミラー制御系40とを備える。 (もっと読む)


【課題】撮像光学系を改善することにより、フレアやゴーストを防ぎ、ダイナミックレンジを広範囲化することを可能にした広ダイナミックレンジ撮像装置を実現すること。
【解決手段】少なくとも、撮像光学系1と、撮像光学系1により被写体の光学像が結像される撮像素子4を備える広ダイナミックレンジ撮像装置において、撮像光学系1は、その結像光学系のすべてを反射ミラーで構成したことを特徴とする広ダイナミックレンジ撮像装置である。 (もっと読む)


【課題】撮像光学系における絞り機構を改善することにより、フレアやゴーストを防ぎ、ダイナミックレンジの範囲を拡大することを可能にした撮像装置を提供することにある。
【解決手段】少なくとも、撮像光学系2と、撮像光学系2により被写体の光学像を結像する撮像素子5とを備える撮像装置において、撮像光学系2は、その結像光学系において少なくとも1つが反射ミラーで構成され、該反射ミラーは、透明部材6と、透明部材6の入射面とは反対側の面に接する反射面を有すると共に、該反射面の反射面積を可変することにより絞り機能を有する流体材料7と、流体材料7の反射面積を可変する反射面積可変手段9,10,11とからなることを特徴とする撮像装置である。 (もっと読む)


光学装置は、ビーム(10)を伝達することができる複数の光学素子(8、8’)を有するとともに、少なくとも1つの部分ハウジング(9、9’)を備え、少なくとも1つの部分ハウジング(9、9’)は、光学素子(8、8’)の表面から、ビームが光学素子(8、8’)から出射する方向、またはビームが光学素子に入射する方向に延在し、少なくとも1つの部分ハウジング(9、9’)の形状はビームの形状に適合し、少なくとも1つの部分ハウジング(9、9’)は、それ自体から機械的に分離された測定構造体(11)によって少なくとも部分的に取り囲まれ、前記測定構造体(11)は、少なくとも1つのセンサ(12、17)を有する。
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本明細書中では、レーザー(118)および付随する構成要素(106、108、110、112、114、116)が内部に挿入されている多重視野反射望遠鏡(101、101’)が記載されている。さらに、本明細書では、目標(例えば標的)を測距するかまたは目標(例えば標的)を指定−ハイライト表示する目的で多重視野反射望遠鏡を使用する方法(400、500)が記載されている。
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【課題】反射面を含む結像光学系を採用しつつ、色収差も補正可能で、歪みなく大画面を投射できる投射光学系を実現する。
【解決手段】画像を形成するライトバルブ15に形成された画像を、投射光学系により拡大投射する画像投射装置において、ライトバルブ15に形成された画像を平面の投影面21に拡大投影する投射光学系であって、ライトバルブ15の投影側に、ライトバルブ15の側から第1、第2の順に配設される第1及び第2の光学系を有し、第1の光学系17は1以上の屈折光学系を含み、正のパワーを有し、第2の光学系19は正のパワーを有する反射面を1以上含み、正のパワーを有し、ライトバルブ15により形成された画像を、第1及び第2の光学系17、19の光路上の空間に中間像として結像させ、中間像として結像した後の発散する光束を反射面19で反射することで中間像をさらに拡大し、最終像として投影面21に投射し、中間像の形状によって最終像の平面方向の形状が補正されていることを特徴とする。 (もっと読む)


結像光学系(7)は、複数のミラー(M1〜M6)を有する。結像光学系(7)は、物体平面(5)の物体視野を像平面(9)の像視野内に結像する。ミラー(M5,M6)の少なくとも1つは、結像光(3)の通過のための貫通開口部(18,19)を有する。ミラー(M1〜M6)の配列は、主光線が、物体平面(5)と下流の第1のミラー(M1)との間の結像光(3)のビーム経路内で平行に又は発散して進むようなものである。本発明の第1の態様では、結像光学系(7)は、物体平面(5)の前の5m〜2000mの範囲の結像光(3)のビーム経路内に位置する入射瞳平面を有する。本発明の第2の態様では、結像光学系は、物体平面(5)の前100mm〜5000mmの範囲の結像光のビーム経路内に位置する入射瞳平面を有する。改善された結像品質を有する結像光学系がもたらされる。 (もっと読む)


画像を表示するため、及びボリュメトリックユーザインターフェースを実現するための方法及びシステムを開示する。一つの実施形態では、複数の観察者にコンテンツを表示するためのシステムであって、各々コンテンツの少なくとも一部分のものでありかつ各々がそれ自体の観察可能性空間から観察可能である複数のボリュメトリック画像を生成するためのユニットと、1つ以上の前記観察可能性空間の一部分を各々の観察者の瞳と制御する光学系とを含むシステムを提供する。別の実施形態では、第1空中浮遊ディスプレイの表示空間に第1画像を表示するステップと、第1空中浮遊ディスプレイの表示空間に実際の物体を挿入するステップと、第1空中浮遊ディスプレイの表示空間内の実際の物体の位置を突き止めるステップと、表示空間内で実際の物体を検知するステップと、空中浮遊ユーザインタフェースへの入力として位置を提供するステップとを含む、空中浮遊ユーザインタフェースを実現するための方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 走査露光時の走査速度を高速化する。
【解決手段】 第1面(PN1)の像を第2面(PN2)に投影する投影光学系は、第1面と交差する所定平面(xz平面)に平行な第1光軸(AX1)を有する第1凹面鏡(CM1)および所定平面に垂直な第1平面鏡(FM1)を含み、第1面の第1領域(R1)と光学的に共役な第1共役面(C1)を形成する第1結像系(G1)と、所定平面に平行な第2光軸(AX2)を有する第2凹面鏡(CM2)および所定平面に垂直な第2平面鏡(FM2)を含み、第1面の第2領域(R2)と光学的に共役な第2共役面(C2)を形成する第2結像系(G2)と、第2面の第3領域(R3)と第1共役面とを光学的に共役にし、第2面の第4領域(R4)と第2共役面とを光学的に共役にする第3結像系(G3)とを備えている。 (もっと読む)


マイクロリソグラフィのための照明光学ユニットは、物体視野を照明光で照明するように機能する。第1のファセットミラー(13)は、複数の第1のファセット(19)を有する。第2のファセットミラー(14)は、複数の第2のファセット(20)を有する。第1のファセットミラーのファセットと第2のファセットミラーのファセットとをそれぞれ含むファセット対(19,20)は、物体視野を照明するための複数の照明チャンネルを予備形成する。照明チャンネルの少なくとも一部は、各場合に、それぞれの照明チャンネル内で誘導される照明光の個別偏光状態(x−Pol,y−Pol,xy−Pol,yx−Pol)を予備形成するために割り当てられた偏光要素を有する。その結果、下流の結像の高い構造解像度を保証する物体視野の照明がもたらされる。 (もっと読む)


【課題】光走査装置において、簡単な構成で、射出瞳を移動させる。
【解決手段】光走査装置は、光源101と、該光源からの光束のうち一部領域内の部分光束を走査する走査ユニット104と、該走査ユニットからの部分光束を集光する走査光学系105と、光源からの光束の幅内での上記一部領域の位置を変更する領域変更機構110とを有する。さらに、別の光走査装置は、走査光学系からの部分光束を、観察者の眼が配置される射出瞳107に導く接眼光学系106を有し、領域変更機構は、走査ユニットを、光源、走査光学系及び接眼光学系に対して移動させて上記一部領域の位置を変更する。
(もっと読む)


【課題】装置全体の複雑化を抑制しつつ、光学素子の位置及び形状の調整を行うことができる光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】第1ミラー26を保持する光学素子保持装置40は、第1ミラー26に設けられた被保持部41,42,43を保持する3つの保持機構51,52,53を備えている。各保持機構51〜53には、被保持部41〜43を6自由度方向に移動させることが可能なリンク機構54,55がそれぞれ設けられている。そして、制御装置からの制御情報に基づき各保持機構51〜53がそれぞれ駆動することにより、第1ミラー26は、その位置及び形状の調整が実行される。 (もっと読む)


【課題】画角や画像の歪みの変動を少なくしつつ、観察者の瞳孔の位置に対する射出瞳位置の調整や、瞳孔の移動に追従した射出瞳の移動を可能とする。
【解決手段】走査型表示装置は、光源101と、該光源からの光束を走査する走査ユニット104と、該走査ユニットからの光束を集光する走査光学系105と、該第1の光学系からの光束を観察者の眼108が配置される射出瞳107に導く接眼光学系106とを有する。走査光学系から接眼光学系に進む光束はテレセントリック性を有する。接眼光学系は、走査光学系からの光束を射出瞳に向けて反射する第1の反射面106cを有する。接眼光学系を、走査光学系及び走査ユニットに対して、該走査光学系から接眼光学系への光束の進行方向に沿った方向に移動可能とする第1の機構110を有する。 (もっと読む)


【課題】放射線ビームをパターン化するために使用する個々に制御可能な素子のパターニング・アレイを垂直でない方向に照明するため放射線ビームを向けるのに使用するシステムおよび方法を提供すること。
【解決手段】個々に制御可能な素子は、放射線ビームのテレセントリック性を変えることができる。個々に制御可能な素子上への放射線ビームの投影は、凹状ミラーにより、または個々に制御可能な素子の対象物フィールド内に設置した折り畳みミラーを使用して行うことができる。別の方法としては、個々に制御可能な素子は、放射線ビームの光軸を変えることができる。 (もっと読む)


【課題】投影像が反転する露光装置と投影像が反転しない露光装置間におけるディストーションマッチングを正確に行い得るようにする。
【解決手段】第1パターンをその投影像が反転する第1投影光学系により投影した像又はこれに相当する転写像と、第2パターンをその投影像が反転しない第2投影光学系により投影した像又はこれに相当する転写像との差であるディストーション差を計測する第1工程(S15)と、前記第1パターンの描画誤差と前記第2パターンの描画誤差の差である描画誤差差を計測する第2工程(S16)と、前記第1工程で計測されたディストーション差から、前記第2工程で計測された前記描画誤差差を差し引いた値をディストーションマッチングデータとして管理する第3工程(S17)とを備えている。 (もっと読む)


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