【課題】初期配向転移が円滑に行われるＯＣＢモードの液晶装置の製造方法、液晶装置、これを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶層の配向状態をスプレイ配向からベンド配向に初期配向転移させる液晶装置の製造方法であって、表示領域において凹凸を有する少なくとも一方の基板としての素子基板１０を用意する工程と、少なくとも表示領域を覆うように無機材料からなる多孔質膜（配向膜１８）を形成する工程と、多孔質膜に対して第１の方向（法線方向）からイオンビーム（ＩＢ）を照射して第１の配向処理を施した後に、第１の方向と異なる第２の方向（入射角４５度の方向）からイオンビーム（ＩＢ）を照射して第２の配向処置を施す工程とを備え、第２の配向処理は、スプレイ配向を規定する配向処理であることを特徴とする。凹凸は例えば画素電極１５に設けられたコンタクトホール１５ａである。 （もっと読む）

【課題】動作性能および信頼性の高い半導体装置の作製方法の提供を課題とする。
【解決手段】単結晶シリコン薄膜を熱酸化膜からなる第１の酸化シリコン上に有し、第１の酸化シリコンを第２の酸化シリコン上に有し、第２の酸化シリコンを表面上に有する単結晶シリコン基板を用いる半導体装置の作製方法であって、単結晶シリコン薄膜から複数の島状シリコン層を形成し、複数の島状シリコン層の側面に熱酸化により第３の酸化シリコン膜を形成し、複数の島状シリコン層上にポリシリコンでなるゲート電極を形成し、ゲート電極の側面にサイドウォールを形成し、複数の島状シリコン層にソース領域及びドレイン領域を形成し、ゲート電極、ソース領域、ドレイン領域に金属膜を形成し、加熱してゲート電極、ソース領域、ドレイン領域にシリサイドを形成し、複数の島状シリコン層を覆って、層間絶縁膜を形成する半導体装置の作製方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛を含む半導体膜を用い、ソース電極及びドレイン電極にｎ型又はｐ型の不純物を添加した酸化亜鉛を含む膜を用いたときでも欠陥や不良が生じない半導体装置及びその作製方法を提供する。
【解決手段】絶縁膜を形成し、絶縁膜上に第１の導電膜を形成し、第１の導電膜上にｎ型又はｐ型の不純物が添加された酸化亜鉛を含む第２の導電膜を形成し、第２の導電膜を第１のエッチングによって島状にし、第１の導電膜を第２のエッチングによって島状にし、絶縁膜及び島状の第２の導電膜上に酸化亜鉛を含む半導体膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】チャネルドープに起因するゲート絶縁層の損傷およびトランジスタ特性の変動をを確実に防止することのできる電気光学装置の製造方法、半導体装置の製造方法、および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置などといった電気光学装置で用いられる素子基板１０ｘでは、支持基板１０ｄの上に下地絶縁層１２が形成されているとともに、下地絶縁層１２の表面に電界効果型トランジスタ１０ｙを構成する能動層が形成されている。電界効果型トランジスタ１０ｙの閾値電圧の調整を行うためのチャネルドープを行う際、下地絶縁層１２を介してチャネル領域１ｘに不純物を導入する。このため、ゲート絶縁層２ｙには、チャネルドープの際のストレスに起因する欠陥が発生せず、電界効果型トランジスタ１０ｙでは電流リークや絶縁破壊などの不具合が発生しない。 （もっと読む）

【課題】製造コストを削減し、生産性を向上できる軟式液晶ディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】支持基材１０４の一面にガラスに貼り付けるための耐高温感圧接着剤１０５を塗布し、支持基材１０４の他面にプラスチック基板１０２に貼り付けるための耐高温感圧接着剤１０３を塗布することにより、耐高温両面テープを構成する。続いて、連続ローラーによりプラスチック基板１０２と耐高温両面テープとを接合し、耐高温両面テープの耐高温感圧接着剤１０３をプラスチック基板１０２上に貼り付け、続いて、それをガラス板上に貼り付ける。そして、液晶ディスプレイパネルの処理工程が完了した後、二枚のプラスチック基板１０２を組み合わせるように押し付け、その間に液晶を注入すれば、プラスチック基板１０２から構成される液晶ディスプレイパネルが完成する。 （もっと読む）

【課題】液晶分子の配向を規制する配向規制力と所定のプレティルト角とを同時に得ることができる液晶装置、液晶装置の製造方法及びプロジェクタを提供すること。
【解決手段】配向膜１６、２２が、第１の凸部５１と、当該第１の凸部５１よりも寸法が小さく長手方向が液晶分子５０ａの配向方向に沿うように設けられた第２の凸部５２とを有する無機材料からなるので、第１の凸部５１及び第２の凸部５２の２種類の凸部によって液晶層５０を構成する液晶分子５０ａの配向を規制することができる。これにより、液晶分子５０ａの配向規制力を高めることができる。また、液晶分子５０ａの配向規制力を高めることによって、所望のプレティルト角を容易に得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】保持容量の容量値を低下させることなく、画素開口率を高めることのできる電気光学装置、およびそれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１において、下電極３ｃにおいて上電極６ｃの張り出し領域６ｄが位置する側の端部３ｅと、下層側の絶縁基板１１との層間にタンタル酸化物などからなる高誘電率層５１が形成されているため、下電極３ｃの端部３ｅから延びる電気力線は、比誘電率の低い絶縁基板１１を通らず、高誘電体層５１を通って上電極６ｃの張り出し領域６ｄに届くので、かかる張り出し領域６ｄおよび下電極３ｃの端部３ｅも保持容量１ｈの容量値に寄与する。 （もっと読む）

【課題】 導電膜と配向膜との間に配設される保護膜について、イオン吸着機能を有しつつ、製造プロセスの簡素化に有利となるように膜硬度が制御された液晶装置を提供する。
【解決手段】 液晶装置は、互いに対向する一対の基板１０，２０間に液晶５０を挟持してなる。一対の基板１０，２０のうちの少なくとも一方の基板の内面側には、導電膜９，２１と、イオン吸着性微粒子を含む保護膜４１，６１と、配向膜４０，６０とが順次形成されており、保護膜４１，６１が、メソポーラス構造からなる。 （もっと読む）

【課題】 配向能力が高く配向安定性及び信頼性に優れ、更に電極間のリークを防止し、電極周辺部からの光抜けを防止することのできる液晶装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板１０に導電膜Ｍ２を形成し、この導電膜Ｍ２を陽極酸化して、表面に多数の微細孔を有する陽極酸化膜１２Ａを形成する。次に、この陽極酸化膜１２Ａを電極１１の形状にエッチングする。エッチングは、陽極酸化膜１２Ａの細孔構造を下層側に転写しつつ行なう。これにより、電極１１には、陽極酸化膜１２Ａからなる配向膜１２が形成され、電極の周辺部（陽極酸化膜１２Ａを除去した部分）には、配向膜１２と同様の細孔構造を有する凹凸面１５ａが形成される。 （もっと読む）

【課題】 配向能力が高く、配向安定性及び信頼性に優れた配向膜を形成することのできる液晶装置、それを用いた電子機器、および液晶装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】 対向配置された一対の基板１０、２０の間に液晶を保持した液晶装置の製造方法において、基板１０、２０の表面に無機配向膜を形成する無機配向膜形成工程では、基板表面に金属膜Ｍ１を形成した後、金属膜Ｍ１の表面に多数条の溝Ｍ１０を形成する。しかる後に、金属膜Ｍ１に陽極酸化を施して、表面で複数の微細孔が開口する多孔質陽極酸化膜を配向膜１２、２２として形成する。 （もっと読む）

【課題】 新規な構成で確実に液晶分子を配向規制することができ、しかも信頼性の高い配向膜を備えた液晶装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶装置は、一対の基板１０，２０間に液晶層５０を挟持してなる液晶装置であって、前記基板１０の液晶層５０側に配設された酸化物層９と、該酸化物層９の液晶層５０側に配設された配向層１１とを備え、前記配向層１１が、前記酸化物層９と化学的に結合されてなることを特徴とする。 （もっと読む）