【課題】光の利用効率を高めることができると共に比較的容易に製造可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】電気光学装置は、第１基板（１０）及び第２基板（２０）と、第１及び第２基板のうち入射光が入射される側の一方の基板上における画素領域の非開口領域に、互いに絶縁膜を介して積層された複数の反射部（２１０）とを備え、複数の反射部は、一方の基板の入射光が入射される基板面から遠いものほど、一方の基板上における平面的な幅が広い。 （もっと読む）

【課題】複数の材料層の積層体からなるバリア層を備えるものであって、該バリア層の光反射率の低減を図るとともに、クラック防止、各層の密着性、バリア性の向上を図った表示装置の提供。
【解決手段】複数の積層された材料層からなるバリア層を挟持する第１材料層と第２材料層を備える表示装置であって、
前記第１材料層、前記バリア層の各材料層、および前記第２材料層のそれぞれの光屈折率は、前記第１材料層から前記第２材料層へかけて、高い方から低い方へ、あるいは低い方から高い方へ、順次変化するように構成され、
前記バリア層の各材料層は、高応力膜と低応力膜を交互に積層させて構成されている。 （もっと読む）

【課題】透明基板の製造過程において樹脂組成物の半硬化物への異物の付着を抑制することができる透明基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス繊維よりも屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維よりも屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように樹脂組成物を調製する工程と、樹脂組成物をキャリアフィルム１に塗工し半硬化させて、樹脂組成物のＢステージフィルム２を形成する工程と、樹脂組成物のＢステージフィルム２とガラス繊維の基材３とを積層成形する工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属基板と、この金属基板上に形成された平坦化層を具える可撓性の電子デバイス用基板において、その表面検査及び形成された電極パターンの検査を少ない誤差で良好に行う。
【解決方法】金属基板と、前記金属基板上に形成されるとともに、３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲の光において少なくともその一部の波長に対して吸収性を呈する光吸収層ととを具えるようにして電子デバイス用基板を構成する。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、また水蒸気などのガスの遮断性が高く、加えて反射防止機能を有する透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板１を備える。表面を平滑に形成するための透明な平滑化層２，３が複数層積層して透明積層板に形成されていると共に、複数層の平滑化層２，３が、屈折率が１．５６以上の高屈折平滑化層２と、屈折率が１．４９未満の低屈折平滑化層３からなる。 （もっと読む）

【課題】防眩性および耐擦傷性、強度（スチールウール強度）、鉛筆硬度等に優れた透明被膜付基材を提供する。
【解決手段】基材上に、平均粒子径(Ｄ_P)が０．１〜５μｍの範囲にある無機酸化物粒子
とマトリックスとからなり、該無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）とマトリックスの屈折率
（ｎ_M）との差（ｎ_P）−（ｎ_M）が０．０５〜０．８の範囲にあり、表面に凹凸を有する
第１透明被膜、および、該第１透明被膜上に、表面が平坦な第２透明被膜が形成されてなることを特徴とする透明被膜付基材。前記無機酸化物粒子の屈折率（ｎ_P）が１．２０〜
２．５０の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】例えば、反射型液晶装置内の半導体素子に照射される光を低減する。
【解決手段】液晶装置１は、黒色のＴＦＴアレイ基板１０を備えている。したがって、液晶層５０を透過し、複数の画素電極９ａ間を通り抜けた透過光が、ＴＦＴアレイ基板１０によって反射されること、及びケース部１５０で反射されることを低減できる。よって、ＴＦＴアレイ基板１０によって反射される反射光、或いはケース部１５０で反射される反射光が直接、或いは間接的に、画素スイッチング用ＴＦＴ等の半導体素子を含む回路部６０に向かって照射されることを低減できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示素子の視認性を向上させつつ、表示装置の耐水性向上に寄与する防眩性基板を有する表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】表示素子、及び該表示素子と対向して配置される防眩性基板を有する表示装置であり、該防眩性基板の外表面には、略平面の表面上に、触針式表面走査計で表面状態を観察したときに、正面視で平均面積が８０〜４００μｍ²の円状である小丘体状の凸状体が配置され、該凸状体が液晶表示素子の画素面積に相当するサイズでガラス基板表面を区画した場合に、配置度合いは各区画にランダムに５個以上配置され、該凸状体が配置された表面の表面粗さが０．１〜０．４μｍである凹凸のパターンが形成され、さらに該外表面が水滴の保持性に優れ、且つ該外表面の水滴の静的接触角を８０〜１３０°のものとすること。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部におけるレジストカバー膜の剥がれを防止することができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜の焼成処理（ステップＳ１２）が終了した後、レジスト膜の塗布処理（ステップＳ１４）を行う前に、基板の周縁部洗浄処理（ステップＳ１３）を実行する。反射防止膜の形成処理時には、昇華物などの微小なゴミが発生して基板周縁部に付着することがある。基板の周縁部を洗浄することによって、そのような微小なゴミを取り除き、周縁部が清浄な基板にレジストカバー膜を形成することができるため、基板周縁部の表面とレジストカバー膜との間に微小なゴミが挟み込まれることはなく、基板の周縁部におけるレジストカバー膜の剥がれを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 サーモクロミック特性を有する酸化バナジウム層を低温でガラス上に形成する方法を提供する。
【解決手段】 酸化バナジウムのシード層として、酸化ジルコニウム／酸化錫の積層体を用いることで、サーモクロミック特性を有する酸化バナジウムの成膜に適した結晶質層および配向性を有する酸化ジルコニウム／酸化錫シード層を非加熱成膜で形成することを可能にし、そのシード層に酸化バナジウム層を形成したサーモクロミック体を得る。 （もっと読む）

【課題】ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、タッチパネルなどの各種ディスプレイに使用され、簡単な操作で効率よく製造することのできる低反射ガラス板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基材の片面又は両面に、比重２.４以上のガラス成分と比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む無機混合物層を有する低反射ガラス板、及びガラス基材上に、（Ａ）バインダー樹脂と、（Ｂ）比重２.４以上のガラス粒子と、（Ｃ）比重１.９以下の多孔性シリカ粒子を含む分散液を塗工して塗膜層を形成したのち、４００〜６５０℃の範囲の温度で、前記（Ａ）成分のバインダー樹脂を分解、除去すると共に、前記（Ｂ）ガラス粒子を焼成処理し、無機混合物層を形成する前記低反射ガラス板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】製造工程において、プラスチック基板１２の変形や支持基板１１からの剥離を抑制することにより、生産性を高めようとする。
【解決手段】プラスチック基板１２に複数の薄膜が積層された薄膜積層デバイスの製造方法であって、支持基板１１に上記プラスチック基板１２を重ねて配置した状態で、プラスチック基板１２の一部に弾性部材１３の一部を接着すると共に、支持基板１１の一部に弾性部材１３の他の一部を接着することにより、プラスチック基板１２を支持基板１１に支持させるようにした。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性の良好な、透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】 透明なフィルム基材の一方の面にハードコート層を有し、透明なフィルム基材の他方の面には透明導電性薄膜を有する透明導電性フィルムにおいて、前記ハードコート層の形成材料がウレタンアクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート及び水酸基を２個以上含むアルキル基を有する（メタ）アクリルポリマーを含むことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】酸素および水蒸気など化学的反応種に対して低透過度を有し、実質的に滑らかで欠陥がなく、非封入デバイス、またはデバイス内のその他の機能層または被膜を保護する、デバイスの製造に一般に使用される化学物質に対して化学的に耐性のある被膜を提供する。
【解決手段】本発明の複合品の高保全性保護被膜は、少なくとも１つの平坦化層および少なくとも１つの有機−無機組成バリア被膜層を有する。本発明の他の態様の高保全性保護被膜を堆積する方法は、実質的に均質の樹脂ベース平坦化層組成物を準備し、堆積用表面を提供し、表面に平坦化層組成物を堆積し、平坦化層組成物を硬化させ、平坦化層上に反応種の反応生成物または再結合生成物を堆積し、堆積中に反応チャンバに供給された反応物の組成を変えて、有機−無機組成バリア被膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】虹色干渉縞の発生を防止でき、膜構造が簡単である電気光学装置を提供する。
【解決手段】第１凹凸パターン１０備えた面で液晶層１２を支持する基板７ａと、基板７
ａと液晶層１２との間に設けられた樹脂膜２３と、樹脂膜２３の上に設けられた光反射膜
２４とを有する電気光学装置である。樹脂膜２３の表面には、第１凹凸パターン１０に対
向する領域に第２凹凸パターン２８が設けられている。第２凹凸パターン２８は、第１凹
凸パターン１０を反映した凹凸パターンの上に、さらにフォトリソグラフィ処理によって
凹凸パターンを形成したものであり、複雑でランダム性の高い凹凸パターンである。従っ
て、第２凹凸パターン２８の上に設けられた光反射膜２４で反射した光を用いて行われる
反射型表示において虹色干渉縞が発生することを防止できる。 （もっと読む）

【課題】 液晶プロジェクター等に用いる、液晶パネルを、光透過性がよく、熱伝導性がよく、かつ作業性の良いものとする。
【解決手段】 高熱伝導性透明立方晶多結晶体基板を用いる。該高熱伝導性透明立方晶多結晶体基板はその表面にコーティング層が形成されたものを用いると良く、さらに、該コーティング層は複層とするのが好ましい。コーティングの材料は、金属弗化物と金属酸化物から選択される２種以上とするのが良く、該コーティングにより、光透過性が向上し、かつ環境安定性も向上する。 （もっと読む）

【課題】表面平坦性と水蒸気バリア性が向上した粘土薄膜基板、および、その粘土薄膜基板を用いた表示素子を提供する。
【解決手段】粘土薄膜基板は、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜１１の少なくとも片面に、ガスバリア無機質層１２が積層されている。また、他の粘土薄膜基板においては、粘土粒子が配向して積層した構造を有する粘土薄膜の少なくとも片面に、平坦化無機質層が積層され、該平坦化無機質層の上に、ガスバリア無機質層が積層されている。ガスバリア無機質層は、窒素を含む酸化珪素膜よりなり、平坦化無機質層は、炭素を含む酸化珪素膜よりなる。これらの粘土薄膜基板は、エレクトロルミネッセンス表示素子および液晶表示素子の基板に好適に使用できる。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基板を利用する可撓性表示装置の製造において、生産収率を向上させて、製造工程をさらに正確かつ容易にする。
【解決手段】第１可撓性母基板を第１支持体に接着する段階、第１可撓性母基板を切断して複数の第１基板に分離する段階、第１基板上に薄膜パターンを形成する段階を含む可撓性表示装置の製造方法を提供して、可撓性表示装置の生産収率を向上させながら、製造工程をさらに正確かつ容易にすることができる。 （もっと読む）

【課題】各種ディスプレイの表示画面の最前面に適用される反射防止膜であり、単層構造でありながら低反射光強度を達成する低屈折率と高硬度で耐擦傷性に優れた反射防止膜を提供する。
【解決手段】微細な円柱状空間１２２を均一に含有するシリカと、活性エネルギー線で硬化された樹脂とを含有する反射防止膜１２であって、反射防止膜においては、シリカの微細な円柱状空間と、シリカと樹脂界面との間の空間とを含む。 （もっと読む）

【課題】光透過性基材とハードコート層との界面における界面反射と干渉縞の発生を有効に防止する為の光学積層体を提供する。
【解決手段】光透過性基材の上に、ハードコート層を備えてなる光学積層体であって、前記ハードコート層が、（１）重量平均分子量が２００以上１００００以下であり、かつ、２超過の官能基を有する樹脂と、（２）重量平均分子量が２００以上１０００以下であり、かつ、２以下の官能基を有する樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる組成物により形成されてなる光学積層体。 （もっと読む）