【課題】素子基板側から入射した光を共通電極で反射して素子基板から出射する方式を採用した場合でも、画素トランジスターの能動層に強い光が入射することのない液晶装置、および該液晶装置を備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００においては、素子基板１０側から入射した光を対向基板２０の光反射性共通電極２１で反射して素子基板１０から出射する。光反射性共通電極２１は、画素トランジスター３０の半導体層１ａに対して平面視で重ならない領域１００ｄのみに形成されている。従って、素子基板１０側から斜めに入射した光のうち、対向基板２０において画素トランジスター３０の能動層（半導体層１ａ）と平面視で重なる領域に向かった光は、光反射性共通電極２１の非形成領域２１ｆを通って対向基板２０を透過し、画素トランジスター３０の能動層に向けて反射しない。 （もっと読む）

【課題】コントラスト比の高い透過型液晶パネルを得る。
【解決手段】クロスニコル配置のリファレンス偏光板間に透過型液晶パネルを挿入し、液晶パネルのサファイア基板の一部に第１リファレンス偏光板の透過偏光を透過させ、液晶パネルを回転して、第２リファレンス偏光板を透過する光が最小になる位置を検出する工程と、リファレンス偏光板間から液晶パネルを引き抜き、第１リファレンス偏光板を透過した光の上でサファイア基板用偏光板を回転させ、サファイア基板用偏光板を第１リファレンス偏光板と透過光が最小になるクロスニコルに配置する工程と、サファイア基板にサファイア基板用偏光板を貼付する工程と、液晶パネルを上下反転し、サファイ基板用偏光板を透過した光の上にガラス基板用偏光板を配置して回転し、ガラス基板用偏光板をサファイア基板用偏光板とクロスニコルに配置する工程と、ガラス基板用偏光板をガラス基板に貼付する工程を具備する。 （もっと読む）

【課題】コントラスト比の高い透過型液晶パネルを得る。
【解決手段】サファイア基板のＣ結晶軸と偏光板の透過偏光軸または吸収偏光軸のいずれかの偏光軸を合わせて貼付する、基板の一方がサファイア基板である透過型液晶パネルの製造方法であって、クロスニコルに配置したリファレンス偏光板の間に透過型液晶パネルを挿入し、サファイア基板の一部に一方のリファレンス偏光板を透過した光を透過させ、透過型液晶パネルを回転し、他方のリファレンス偏光板を透過する光が最小になる位置を検出し、透過型液晶パネルに偏光板を貼付するためのマーキングをする透過型液晶パネルの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置における電気光学物質の熱を効率的に放散する。
【解決手段】電気光学装置（１）は、電気光学物質（５０）を挟持する一対の基板（１０、２０）と、該一対の基板の少なくとも一方の基板における電気光学物質に対向しない側に設けられた防塵用基板（２０１、２０２）と、一対の基板及び防塵用基板のうち少なくとも一の基板の側面に少なくとも部分的に配置され、一の基板の熱を放散する放熱用部材（１０ｆ、２０ｆ、２０１ｆ、２０２ｆ）とを備える。放熱用部材によって、一の基板の中心付近と側面との間に比較的大きな温度勾配が生じるため、効率的に一の基板の熱を放散することができる。この結果、電気光学物質の熱を効率的に放散することができる。 （もっと読む）

【課題】反射型液晶装置から効率良く熱エネルギーを逃がす。
【解決手段】多結晶シリコン層（１５０）は、ＴＦＴアレイ基板（１０）より熱伝導率が高い。したがって、液晶装置１の動作時に入射光に起因してＴＦＴアレイ基板１０に蓄積される熱エネルギーがＴＦＴアレイ基板（１０）から多結晶シリコン層（１５０）に速やかに伝播し、多結晶シリコン層（１５０）を介して液晶装置１外部に逃がされる。特に、多結晶シリコン層（１５０）は、ＴＦＴアレイ基板（１０）に直に接しているため、ＴＦＴアレイ基板（１０）の下面が空気（０℃における熱伝導率が０．０２４１Ｗ／ｍＫ）に曝されている場合に比べて、ＴＦＴアレイ基板（１０）から熱エネルギーを効率良く逃がすことが可能である。 （もっと読む）

【課題】サファイア基板の切断に必要なストリート幅が小さくできる液晶表示素子の製造方法を提供する
【解決手段】所望の素子をシリコン面に形成したサファイアのＲ面からなるＳＯＳ基板で矩形状の第１の基板と、前記第１の基板の上記素子を備えた側の面と対向するように設けられた透明部材からなる矩形状の第２の基板と、前記両基板間に液晶層を形成する液晶表示素子領域を複数個形成したマザー基板を個々の液晶表示素子領域に分断する液晶表示素子の製造方法において、少なくとも第１の基板はパルスレーザーによる第１レーザーダイシングにより浅い溝を掘り、ＣＷレーザによる第２レーザーダイシングにより前記溝を深く掘る液晶表示素子の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】ＳＯＳ基板を使用する液晶表示素子のマザーサファイア基板を正確に分断できる液晶表示素子構造を得る。
【解決手段】所望の素子をシリコン面に形成したサファイアのＲ面からなるＳＯＳ基板で矩形状の第１の基板と、前記第１の基板の上記素子を備えた側の面と対向するように設けられた透明部材からなる矩形状の第２の基板と、前記両基板の周辺部を液晶の注入口となる部分を残して封止することにより、前記両基板間に液晶層を形成する液晶表示素子領域を複数個形成したマザー基板を個々の液晶表示素子領域に分断する液晶表示素子において、少なくとも第1の基板はレーザースクライブによりスクライブし、矩形状両基板の少なくとも１辺側は上下でオフセットして分断され、前記注入口は両マザー基板の切断線が上下同じになる辺側に形成するとともに、前記注入口は切断線にかからない液晶表示素子とする。 （もっと読む）

【課題】発熱性の被封止物と組み合わせて用いられる、ガスバリア性と放熱性とを兼ね備えたガスバリア性シート、このガスバリア性シートの製造方法、このガスバリア性シートを用いた封止体、及びこの封止体を用いた有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】基板７上に設けられた発熱性の被封止物５と、被封止物５上に設けられたガスバリア性シート１Ａと、を有し、少なくともガスバリア性シート１Ａと被封止物５周辺の基板７表面とが接着されている封止体１０Ａであって、ガスバリア性シート１Ａが、ダイヤモンドライクカーボンからなる放熱性ガスバリア膜３を有し、放熱性ガスバリア膜３の熱伝導率を３０Ｗ／ｍＫ以上とすることによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 サーモクロミック特性を有する酸化バナジウム層を低温でガラス上に形成する方法を提供する。
【解決手段】 酸化バナジウムのシード層として、酸化ジルコニウム／酸化錫の積層体を用いることで、サーモクロミック特性を有する酸化バナジウムの成膜に適した結晶質層および配向性を有する酸化ジルコニウム／酸化錫シード層を非加熱成膜で形成することを可能にし、そのシード層に酸化バナジウム層を形成したサーモクロミック体を得る。 （もっと読む）

【課題】液晶表示パネルとしてサファイア基板を採用た液晶表示パネルの製造方法に関し、特にサファイア基板の切断面の品質が良好となり、且つ効率の良い分断が行える液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画像表示領域に対応する複数の液晶注入領域を形成するシール部材３を塗布する工程と、マザーサファイア基板１とマザーガラス基板４を貼り合わせる工程と、前記マザーサファイア基板１に形成された隣り合う画像表示領域間に分断ラインとなるライン状分断溝１ａを形成する工程と、前記ライン状分断溝１ａに沿ってレーザービームを照射する工程と、前記レーザービームが照射され加熱されたレーザービーム照射部を冷却し、熱衝撃応力により前記マザーサファイア基板１を分断する工程と、前記マザーガラス基板に分断ラインとなるライン状分断溝４ａを形成する工程と、前記マザーガラス基板に衝撃を加え、当該マザーガラス基板を分断する工程と、を有する液晶表示パネルの製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】可視光線に対しても十分に使用が可能な安定した透光性を有するスピネル構造の焼結体を提供する。
【解決手段】本発明は、組成が、ＭｇＯ・ｎＡｌ₂Ｏ₃ （１．０５≦ｎ≦１．３０）であり、Ｓｉ元素の含有量が２０ｐｐｍ以下であるスピネル焼結体の製造方法であって、Ｓｉ元素の含有量が５０ｐｐｍ以下であり、純度が９９.５質量％以上であるスピネル粉末から成形体を形成する工程と、成形体を真空中において１５００℃〜１７００℃で焼結することにより、密度９５％以上の焼結体を形成する第１の焼結工程と、焼結体を１６００℃〜１８００℃で加圧焼結する第２の焼結工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】例えば液晶装置等の電気光学装置およびその製造方法ならびに該電気光学装置を
備えた投射型表示装置および電子機器に係り、低コストで装置全体の温度上昇を良好に抑
制するができるようにする。
【解決手段】電気光学装置の有効表示領域以外の基板表面に放熱手段を設けたことを特徴
とする。その放熱手段としては、例えば基板表面に凹凸Ｒを形成する、あるいは基板より
も熱伝導率の高い材料よりなる放熱層Ｓを形成する、もしくはその両方を形成するように
してもよい。また上記の基板よりも熱伝導率の高い材料としては、例えば、金、銀、銅、
アルミニウム、シリコン等の金属材料を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】１回のレーザ照射に必要なレーザ光強度を低く抑えたスクライブが可能となるレ
ーザスクライブ方法、表示装置の製造方法、基板、表示装置、電子機器を提供する。
【解決手段】基板３４の片面に膜３５を形成する。レーザ光３６を膜３５の近傍に集光し
て、改質部３７を形成する。改質部３７は中心にクラック部３８が形成され、その周囲に
光吸収部３９が形成される。集光レンズ８と基板３４とを相対移動して１層目の改質部３
７を形成する。１層目の改質部３７の光吸収部３９にレーザ光３６を集光して２層目の改
質部３７を形成する。順次繰り返し、改質部３７の面を形成する。改質部３７の面に沿っ
て、基板３４の厚み方向に局所的な力を加えて基板３４を分断する。 （もっと読む）

【課題】
液晶表示装置、投写型表示装置、信号機、彩飾表示板等に用いられる光学基板において、過熱に起因する割れ、光学フィルムの波打ちおよびしわまたは亀裂の発生危険度を最小化すること。
【解決手段】
フィルム、シートなどの従来技術の分散物に比べ熱伝導性に優れた分散物を有し、ＬＣＤ内の発熱問題を最小化するために必要とされる熱伝導性を有した光学基板とその作成方法を提供する。前記光学基板はガラスまたは重合体材料と窒化ホウ素粒子を含む少なくとも一つの層を有している。窒化ホウ素は要求される光学特性と共に優れた熱伝導率を有している。 （もっと読む）

【課題】 液晶プロジェクター等に用いる、透明基板を、光透過性がよく、熱伝導性がよく、かつ作業性の良いものとする。
【解決手段】 高熱伝導性透明立方晶多結晶体基板を用いる。該高熱伝導性透明立方晶多結晶体基板はその表面にコーティング層が形成されたものを用いると良く、さらに、該コーティング層は複層とするのが好ましい。コーティングの材料は、金属弗化物と金属酸化物から選択される２種以上とするのが良く、該コーティングにより、光透過性が向上し、かつ環境安定性も向上する。 （もっと読む）

【課題】 オーバーフローダウンドロー工程以外の方法により製造できる、フラットパネルディスプレーデバイス用のパネルに使用するガラスを提供する。
【解決手段】 アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、酸化物基準の重量パーセントで計算して、60％−67％のＳｉＯ₂、16％−23％のＡｌ₂Ｏ₃、０％−15％のＢ₂Ｏ₃、０％−８％のＭｇＯ、０％−18％のＣａＯ、０％−15％のＳｒＯ、および０％−21％のＢａＯから実質的になり、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの合計が12％−30％である組成を有するアルミノケイ酸塩ガラスのバッチを溶融し、フロート工程によりその溶融物から溶融ガラスの薄いシートを延伸して、フラットパネルディスプレイ用のガラスパネルを製造する。 （もっと読む）