【課題】FPCのコストの低減を図り、かつFPCのサイズを小さくすることによって電気光学装置を搭載する電子機器の設計の自由度を高めることができる電気光学装置を提供する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、基板上に搭載され、入力側の複数の電極パッド１１と出力側の複数の電極パッド１２とを有する駆動回路素子４を有する。さらに、基板上に形成され、外部入力端子部２ｃにそれぞれ接続されて駆動回路素子４の複数の電極パッド１１へ入力信号を供給する複数の配線６と、基板上に形成され、駆動回路素子４の複数の電極パッド１２から出力される出力信号を表示領域の配線へ供給する複数の配線７とを有する。複数の電極パッド１１は、駆動回路素子４の基板側の面の一辺に沿って、かつ一辺の一部に一列に設けられ、複数の電極パッド１２は、一辺とは反対側の一辺に沿って一列に設けられている。 （もっと読む）

【課題】 配線パターンを形成する際のプロセスタイムを短縮する。
【解決手段】 撥液性を有する基板Ｐ上に配線パターンを形成する配線パターン形成方法であって、液滴吐出法によって親液性材料Ｘ２を上記基板上に吐出配置することによって親液領域Ｈ１を形成する工程と、上記親液領域上に導電性微粒子を含む機能液を配置し乾燥、焼成させることによって上記配線パターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】
表示装置の額縁領域を縮小する。
【解決手段】
Ｘ電極引き回し配線１７及び、Ｙ電極引き回し配線１８ｂは、それぞれ、Ｘ電極接続端子２２及びＹ電極接続端子２１を介して、ドライバＩＣ１４に接続される。Ｘ電極引き回し配線１７のシール部外側端１３１における配線ピッチと、Ｘ電極接続端子２２の端子ピッチとは、実質的に同一となっている。また、Ｙ電極引き回し配線１８ｂのシール部外側端１３１における配線ピッチと、Ｙ電極接続端子２１の端子ピッチとは、同一となっている。これによって、接続端子からシール部１３までの引き回し配線を直線状に形成することができるので、額縁領域を縮小することができる。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置のコモン電極における電圧の変動を低減させ、表示上のノイズを減少させる。
【解決手段】 バックライトとしてインバータ回路３によって電圧を供給されるＣＣＦＬ１を用いる。また、アレイ基板１１上には、コモン電極１５に電圧を印加するための配線を設ける。この配線の途中には、パッド２１を形成する。また、アレイ基板１１と対向するようにして、コモン電極１５およびカラーフィルタ１４を備えたカラーフィルタ基板１３を配置する。カラーフィルタ基板１３には、接地されるメタルフレームを設ける。また、一方の電極がパッド２１に接続され、もう一方の電極がメタルフレーム２３に接続されるコンデンサ２２を設ける。 （もっと読む）

【課題】 配線パターンの引き回しが容易になったり、基板の小型化を図ったりすることができる半導体素子の実装構造等を提供する。
【解決手段】 基板に対して、フェイスダウンボンディングするためのバンプ電極群を備えた半導体素子と、基板上の配線パターンと、を電気接続した半導体素子の実装構造等であって、バンプ電極群が、半導体素子の一辺に沿って配列された第１のバンプ電極列と、半導体素子の対向する一辺から所定距離だけ離して、実質的に直線状に面内配置された第２のバンプ電極列とを含み、基板上に、第１のバンプ電極列に対応した第１の配線パターンと、第２のバンプ電極列に対応した第２の配線パターンとがそれぞれ形成してあり、かつ、鉛直方向に眺めた場合に、第１の配線パターンが半導体素子の一辺と交差するように引き出して形成してあるとともに、第２の配線パターンが、半導体素子の一辺以外の複数辺と交差するように引き出して形成してある。 （もっと読む）

本発明は、ナノワイヤを用いたディスプレイを目的とする。特に、ナノワイヤ画素トランジスタ、ナノワイヤロウトランジスタ、ナノワイヤカラムトランジスタおよびナノワイヤエッジ電子回路を用いた液晶ディスプレイについて説明する。ナノワイヤ画素トランジスタは、液晶を含む画素に印加される電圧制御に使用される。１対のナノワイヤロウトランジスタに接続されたロウトレースに沿って配置されたナノワイヤ画素トランジスタをオン／オフするために使用される。ナノワイヤカラムトランジスタは、ナノワイヤカラムトランジスタに接続されたコラムトレースに沿って配置されたナノワイヤ画素トランジスタ全面に印加される電圧を制御するために使用される。
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【課題】低抵抗の導電物質からなる信号線を用いることにより、良好な接触特性を備える接触構造およびその製造方法を提供する。
【解決手段】接触部形成方法は、基板上に第１配線を形成する段階と、第１配線を覆い、第１配線の一部分を露出させるコンタクトホールを有する絶縁膜を形成する段階と、コンタクトホールによって露出する第１配線の表面に接触層を形成する段階と、接触層を介して第１配線と接続される第２配線を形成する段階とを含み、第１配線は、アルミニウムまたはアルミニウム合金で形成し、第２配線は、ＩＴＯまたはＩＺＯで形成する。 （もっと読む）

導電性層(5)を基板(1)の上に製造する方法は、絶縁体たとえば感光性絶縁体(2)のような材料を基板(1)の上に堆積させること、絶縁材料上に導電層のための溝(3)を画成すること、溝(3)を先駆体で埋めること、そして導電層を与えるための先駆体を処理することを有する。
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アクティブマトリックスディスプレイに、ディスプレイ基板の上、しかし表示領域（６３）の外側で、ディスプレイの端に沿って延びる、導体ライン（６２ａ，６２ｂ，６２ｃ）が設けられる。これらの導体ラインは、画素のアレイを定義する薄膜層に追加される、少なくとも１つの層（９０）を備える。行ドライバ回路および／または列ドライバ回路は、表示領域（６３）の外側で共通基板に設けられた、導体ラインに接続する部分（４０，５０）を有する。専用の処理を、導体ラインのために用いて、低抵抗のラインを形成することができる。これらは、行または列ドライバ回路の、共通基板への集積化または実装を助ける。
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