【課題】 複雑な３次元微細構造体を提供する。また、Ｘ線などの透過率の変化が大きいマスクを簡易に提供する。
【解決手段】 本発明のマスクは、透過部と、透過部により保持される吸収体とを備え、リソグラフィにおいてレジストにパターンを転写するマスクであって、吸収体の材料構成が、レジストに転写するパターンに応じたパターンを有し、吸収体の材料構成のパターンに応じてレジストの露光深さが変化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マスクとしての形状精度及びマスク生産効率としての歩留まりを改善させたステンシルマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】シリコン基板に埋め込み酸化膜を介してシリコン膜を有するSOI基板を利用するステンシルマスクの製造方法であって、前記シリコン膜に所望のレジストパターンを有する第一のレジスト膜を形成する第一の形成工程と、前記埋め込み酸化膜を露出させて前記シリコン膜の側壁と共に画成される空洞部を形成するように、前記第一のレジスト膜をマスクとして前記シリコン膜を除去する第一の除去工程と、前記埋め込み酸化膜を除去する第二の除去工程と前記第一のレジスト膜を剥離する第一の剥離工程と、前記空洞部を埋設物質で埋設させる埋設工程と、前記シリコン基板に所望のレジストパターンを有する第二のレジスト膜を形成する第二の形成工程と、前記第二のレジスト膜をマスクとして前記シリコン基板を除去する第三の除去工程と、前記第二のレジスト膜を剥離する第二の剥離工程とを具備することを特徴とするステンシルマスクの製造方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】 反射率の熱的安定性を向上させることができる反射型マスクブランクを提供すること。
【解決手段】 基板と、当該基板上に形成されて露光光を反射する多層反射膜２と、当該多層反射膜上に形成されて露光光を吸収する吸収体膜とを有する反射型マスクブランクであって、上記多層反射膜は、シリコン層７とモリブデン層６とを交互に積層した材料から構成され、上記シリコン層７とモリブデン層６との間に、モリブデンと炭素を含む材料からなる拡散防止層８、例えば炭化モリブデン、炭化二モリブデンまたはそれらの窒化物からなる拡散防止層が形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】薄膜（マスク層）の下地に欠陥が発生するのを抑える。
【解決手段】下地（ハーフトーン膜１２）をエッチングによりパターニングする場合のマスク層として用いられる薄膜が透光性基板１０上に形成されたマスクブランクの製造方法において、薄膜は複数層（遮光膜１４、１６）からなり、薄膜を層ごとに複数回に分けて形成し、薄膜のそれぞれの層を形成するごとに各層表面の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】透光部、遮光部、及び半透光部が一方向にこの順に隣接しているパターンを有するグレートーンマスクとして、半透光部の透過率分布が良好で、透光部と隣接する遮光部のパターン断面形状が良好で、透光部のパターン精度が良好なグレートーンマスク及びグレートーンマスクの製造方法を提供する。
【解決手段】遮光部、透光部、及び半透光部からなるパターンを有するグレートーンマスク１０であって、前記パターンは、透光部、遮光部、及び半透光部が一方向にこの順に隣接しているパターンを有し、前記遮光部は、遮光部を形成する遮光膜１３ａと、該遮光膜１３ａ上の、前記透光部との隣接部における遮光部側の所望のマージン領域を除く領域に形成された半透光膜１２ａとが積層されている。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度、寸法制御性等の諸性能に優れたアルカリ水溶液を用いて現像するポジ型パタン形成材料およびそれを遮光膜として機能させる露光用マスクの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線照射により酸を生じる化合物およびカルボキシル基および／またはフェノール性水酸基を有するバインダ樹脂、１分子中に少なくとも２個以上のビニルエーテル基を有する化合物、および窒素含有樹脂結合剤を酸触媒付加反応させて得られる組成物を少なくとも含むパタン形成材料を用いる。 （もっと読む）