本発明は半導体素子または液晶ディスプレイ素子の製造工程で使用されるフォトレジスト除去用シンナー組成物に関し、より詳しくは、a）プロピレングリコールモノアルキルエーテルと;b）酢酸アルキルと;c）シクロケトンとを含むシンナー組成物に関するものである。本発明のシンナー組成物はd）ポリエチレンオキシド系界面活性剤、及びe）フッ化アクリルコポリマーよりなる群から１種以上選択される化合物をさらに含むことができる。
本発明によるフォトレジスト除去用シンナー組成物は、液晶ディスプレイ素子と有機ELディスプレイ素子の製造に使用されるガラス基板、及び半導体製造に使用されるウエハーの周縁と背面に使用されて不必要に付着したフォトレジストを短時間で効率的に除去することができ、界面の段差を減らし、特にフォトレジストに対する界面浸透現象を抑制することができる。したがって、多様な工程に適用することが可能であり、経済的な使用はもちろん、製造工程の簡便化及び生産性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置に設けられる半透過反射基板の製造時に、その下地層の部分的な剥離を防止する。
【解決手段】半透過反射基板の製造工程においては、まず、図５（ａ）に示すように第２基板１２０上に感光性樹脂１３２を塗布し、続いて、図５（ｂ）に示すようにフォトマスク１４５にて露光した後、現像して下地層１３０を形成する。このうち、露光処理においては、開口部１２５と凹凸面１３２ｂとが離間するように露光し、それらの間隙が平坦となるような処理を施す。 （もっと読む）

【課題】 有機積層部材、特にフルカラー有機ＥＬディスプレイ等に用いられる色変換部材の製造工程数を減らし、安定的に微細なパターンを形成でき、生産性を向上できる製造方法を提供する。
【解決手段】 基材と、前記基材上に少なくとも第１有機物層と第２有機物層とが順次積層された有機物層とからなる有機積層部材の製造方法であって、前記第１有機物層と第２有機物層とを単一のフォトリソグラフィー工程によってパターニングする。 （もっと読む）

【課題】回折光学素子の製造方法であって，回折面で切った断面形状が任意の非対称ブレーズド形状の回折光学素子を製造する方法において，とりわけシャープな非対称鋸歯形状の回折光学素子を製造する方法，望ましくはアスペクト比が１〜１．５程度であって，直角三角形ブレーズド形状の回折光学素子とするため方法を提供すること。
【解決手段】回折格子状のマスクが形成されてなる基板を，反応性イオンエッチングによって非対称形状の回折格子に形成してなる回折光学素子の製造方法において，基板上に回折格子状に形成されてなるマスクを２以上の異なるエッチングレートを具備した領域よりなるマスクとすること，或いは反応性イオンエッチングのイオン束流れ方向を基板法線方向に対して斜め方向からとすることによって，異方性エッチング特性を任意に制御することが可能となり，任意の非対称ブレーズド形状の回折光学素子が製造可能となる。 （もっと読む）