Fターム[2H096KA11]の内容
感光性樹脂・フォトレジストの処理 (33,738) | 多層レジスト法 (807) | 処理方法 (257)
Fターム[2H096KA11]の下位に属するFターム
塗布、ベーキング (8)
露光 (15)
現像 (41)
レジスト膜のエッチング (126)
耐ドライエッチング化 (12)
凹凸面の平坦化 (8)
上層レジストマスクによる下層露光 (27)
断面形状、オーバーハング形状 (16)
コントラスト増強 (2)
Fターム[2H096KA11]に分類される特許
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マルチカラーマスク
本発明は、支持体を用意し、前記支持体の片側にマルチカラーマスクをコーティングし、支持体の反対側に可視光により硬化可能な層をコーティングし、光硬化可能な層をマスクを通して可視光に露光して光により硬化可能な層を露光部分において硬化させて硬化パターンを形成することを含む、積層透明構造体を形成する方法に関する。
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レジストパターンの形成方法
【課題】 下層に密パターンを形成し、上層にパターンを形成するレジストパターンの形成方法において、ミキシングを抑制できるレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 次の(i)〜(ii)の工程;(i)基板上に第1のネガ型レジスト組成物を用いて第1のレジスト層を形成し、選択的に露光する工程;(ii)該第1のレジスト層の上に第2のネガ型レジスト組成物又はポジ型レジスト組成物を用いて第2のレジスト層を形成し、選択的に露光した後、第1のレジスト層と第2のレジスト層を同時に現像して、前記第1のレジスト層の未露光部の一部を露出させる工程;を含むレジストパターンの形成方法であって、前記第2のネガ型レジスト組成物又はポジ型レジスト組成物として、第1のレジスト層を溶解しない有機溶剤に溶解したものを用いることを特徴とするレジストパターンの形成方法。
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