【課題】ハンプのない半導体装置の製造方法と半導体装置とを提供する。
【解決手段】被加工膜２の上に下層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料が塗布される。下層レジスト材料膜に周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する下層レジスト材料膜の部分が除去される。中間層レジスト膜となる感光性のポジ型のレジスト材料を塗布し、周辺露光処理と現像処理とを施すことにより、外周領域に位置する中間層レジスト材料膜の部分が除去される。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において、フォトレジスト膜の良好なパターン形成が可能であり、良好なドライエッチング耐性を有するエッチングマスク用ケイ素含有膜を形成でき、保存安定性が良好であり、剥離プロセスで使用される溶液で剥離が可能なケイ素含有膜形成用組成物、ケイ素含有膜形成基板、更にパターン形成方法を提供する
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト法において成膜されるケイ素含有膜を形成するための熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物であって、少なくとも、（Ａ）酸を触媒として用いて加水分解性ケイ素化合物を加水分解縮合することにより得られるケイ素含有化合物、（Ｂ）熱架橋促進剤、（Ｃ）炭素数が１〜３０の１価又は２価以上の有機酸、（Ｄ）３価以上のアルコール、（Ｅ）有機溶剤、を含むことを特徴とする熱硬化性ケイ素含有膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比の周期的な構造を有する３次元モールドを、製造効率良く製造する方法と、この製造方法によって得られる３次元モールド、加工物、及び樹脂成形品を提供する。
【解決手段】本発明の３次元モールドの製造方法では、レジスト層を基体上に備える被加工物を準備する工程、第一の加熱工程、照射工程、第二の加熱工程、及び現像工程を少なくとも有する。レジスト層は、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランの加水分解物および縮合物の少なくとも一方を含む。下記一般式（１）において、Ｒ^１は水素原子又は１価の有機基を表し、Ｒ^２は１価の有機基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。第二の加熱工程ではレジスト層を３００℃以上で加熱する。更にこの製造方法によって得られる３次元モールドをモールドとして、加工物及び樹脂成形品を作製する。
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【課題】ダメージのない、寸法安定性の良好なレジストパターンを形成する方法を提供すること。
【解決手段】貫通穴１１形成基板１０上に化学増幅型ネガレジストを塗布してネガレジスト膜１３を形成する工程と、このレジスト膜を選択的に露光する工程と、この露光されたネガレジスト膜上に化学増幅型ポジレジストを重ね塗布してネガレジスト膜１３とポジレジスト膜１４とからなる積層膜を形成する工程と、このポジレジスト膜を選択的に露光する工程と、その後現像して、ネガレジスト膜の露光部分１３ａとポジレジスト膜の未露光部分１４ａとの積層膜からなるパターンを形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。
【解決手段】樹脂と、この樹脂を架橋させる架橋成分と、溶媒とを含み、レジストパターンを微細化するための微細パターン形成用樹脂組成物であって、上記樹脂が下記式（１）で表される繰り返し単位（Ｉ）を含有することを特徴とする。
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【課題】 プリント配線板上に形成された導体回路の角部を覆う永久パターンの被膜が良好であり、永久パターン全面の平坦度が高く、高精細であり、かつ生産効率の優れた感光性永久レジストフィルム及び永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、第１の感光性層及び第２の感光性層を有してなり、前記第１の感光性層が、アルカリ可溶性光架橋性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、エポキシ硬化剤及び無機微粒子（Ａ）を含む第１の感光性組成物からなり、前記第２の感光性層が、アルカリ可溶性光架橋性樹脂、重合性化合物、光重合開始剤、エポキシ硬化剤及び無機微粒子（Ｂ）を含み、該無機微粒子（Ｂ）の含有率（質量％）が、前記無機微粒子（Ａ）の含有率（質量％）の１／３以下である第２の感光性組成物からなる感光性永久レジストフィルムである。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線板上に形成された導体回路の角部を覆う永久パターンの被膜が良好であり、永久パターン全面の平坦度が高く、高精細であり、かつ生産効率の優れた感光性永久レジストフィルム及び該感光性永久レジストフィルムを用いた永久パターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、第１の感光性層、第２の感光性層をこの順に有し、基板上にラミネートする際のラミネート温度における、第１の感光性層の溶融粘度をη_１、第２の感光性層の溶融粘度をη_２としたとき、次式、η_１＞η_２、を満たすことを特徴とする感光性永久レジストフィルムである。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチング耐性が高く、他層とのミキシングや溶解を起こさず、また紫外光吸収により定在波効果を防ぐことのできる多層レジスト中間層形成用塗布液及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る多層レジスト中間層形成用塗布液は、Ｍを金属原子、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３を炭素数１〜８のアルキル基、ａはＭの価数、ｂ、ｃは整数でｂ＋ｃ＝金属原子Ｍの価数として、Ｍ（ＯＲ^１）_ａ、又は Ｒ^２_ｂＭ（ＯＲ^３）_ｃで表される金属アルコキシド誘導体を主成分とし、有機溶剤に溶解されている。ＭはＴｉであることが好ましい。この塗布液を基板に塗布後、１００℃〜２５０℃、不活性ガス雰囲気下にベークして固化させ、多層レジスト中間層とする。 （もっと読む）