【課題】基板の下地パターンの上に不透明な膜が塗布されている場合に、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を鮮明に取得して、基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。
【解決手段】複数の第２の画像取得装置（下方カメラユニット５２）を、チャック１０に支持された基板１の下方に配置して、基板１の下地パターンに設けられた複数のアライメントマーク１ａの画像を基板１の下方から取得し、第２の画像取得装置が出力した基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａの画像信号を処理して、基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａの位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】原版と基板との位置合わせの正確度または精度への迷光の影響を軽減する露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】原版１１の位置を表す原版基準マークと基板３１の位置を表す基板基準マークのそれぞれに含まれ、ＸＹ方向に延びる二種類のマーク部を、投影光学系２０を介して同時に、ＸＹ方向の各々に対応する二種類の検出部を使用して検出する検出器４０と、迷光成分を検出器４０の検出結果から除去した後のピーク位置に基板ステージ３２を移動することによって原版１１と基板３１とをＸＹ平面内で位置合わせする制御部５０と、を有する露光装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】 ガラスマスクとマスクホルダの位置合わせ高精度に行うことができるガラスマスクとマスクホルダの位置合わせ装置を提供する。
【解決手段】ガラスマスク５０を載せたマスクホルダ５１を基台１上に装入し、固定シリンダ１２、１３によりＸ基準位置片１０とＹ基準位置片１１にマスクホルダ５１を押し当てて固定し、マスクホルダ５１の位置決めを行った上、リフター２１を上昇させて吸着パッド２３によりガラスマスク５０を吸着固定し、ＣＣＤカメラ１８から送られる画像に基づいて、アライメントステージ２を動かしてマスクマーク６０と基準マーク６１を整合させる。整合後、ガラスマスク５０をマスクホルダ５１により固定し、マスクホルダ５１の固定を解除し、次工程に送る。 （もっと読む）

【課題】互いに連結されるメインベッドとサブベッドへの位置検出装置の組付け・調整作業が容易で、製造工程を簡素化して、コスト低減を図ることができる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、ベッド１３に対する基板ステージ１５の位置を検出する位置検出装置５０を備える。位置検出装置５０は、ベッド１３に対する位置情報を有し、基板ステージ１５の移動方向に沿ってメインベッド１１及びサブベッド１２毎に配置される複数のリニアスケール５１，５２と、基板ステージ１５の移動方向に離間して基板ステージ１５に固定され、リニアスケール５１，５２の位置情報をそれぞれ検出可能な第１及び第２のセンサヘッド５３，５４と、を備え、第１及び第２のセンサヘッド５３，５４の少なくとも一方によってベッド１３に対する基板ステージ１５の位置を常時検出する。 （もっと読む）

【課題】アライメントカメラに高性能な駆動機構を使用することなく、光照射部とアライメントカメラとの位置関係が変化した場合であっても、基板上の正確な位置に描画を行うことができるパターン描画装置およびアライメント方法を提供する。
【解決手段】パターン描画装置１は、光学ヘッド３２から照射されるパルス光に対する各アライメントカメラ４１〜４４の相対位置のずれ量を検出し、そのずれ量に基づいて基板９のアライメント量および基板９の描画開始位置を補正する。このため、光学ヘッド３２から照射されるパルス光と各アライメントカメラ４１〜４４との位置関係が変化した場合であっても、その変化分を補正しつつ描画処理を行うことができる。したがって、パターン描画装置１は、基板９上の正確な位置に描画を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に描画点を形成する描画ヘッドを、基板に対して相対的に移動させ、その移動に応じて描画ヘッドにより基板上に画像を描画する描画装置において、コストアップを招くことなく、設置環境の振動の影響による画像品質の劣化を抑制する。
【解決手段】画像の描画中における、基板および描画ヘッドの相対的な位置ずれを取得し、その取得した位置ずれに基づいて、描画ヘッドの描画点の形成位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】 ＥＵＶ光を露光光源としながらも、レチクルとウェハとの位置合わせを高精度に行うことができる露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 ５０ｎｍ以下の光で第１のステージに載置されたレチクルを照明する照明光学系と、当該レチクルのパターンを第２のステージに載置された被処理体に投影する投影光学系とを備える露光装置において、前記第２のステージ上に設けられ、前記レチクル又は第１のステージに設けられた前記レチクルと前記被処理体との位置合わせの基準となる基準マークで反射された基準光に対応する形状を持つアライメントパターンと、前記基準光が前記アライメントパターンに入射する入射側に設けられ、前記アライメントパターンで反射された反射光を検出する検出手段とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 タクトタイムを落とさずに基準となる一層目を高精度に露光することができるステップ式近接露光装置を提供する。
【解決手段】 基板ステージ２をマスクＭに対して相対的にステップ移動させて各ステップ毎にマスクＭを基板Ｗに近接して対向配置した状態でパターン露光光を照射し、これにより、マスクＭに描かれた複数のパターンを基板Ｗ上に露光転写するステップ式近接露光装置において、基板Ｗに一層目の露光パターンを転写する際のマスクＭの位置を各ステップを通して検出するマスク位置検出手段を備える。 （もっと読む）

【課題】 投影型リソグラフィに用いるマスクにおいて、マスクに生じる歪を高精度に補正することが可能な荷電粒子線リソグラフィマスクの製造方法及びパターン露光方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 シリコンからなる格子状の梁構造と、その梁構造により支持される薄膜と、を有し、前記梁によって仕切られた前記薄膜にマスクパターンが互いに分割されて形成された荷電粒子線リソグラフィマスクの製造方法であって、前記マスクパターンを形成するための露光に際して、前記梁によって仕切られた個々の分割領域毎にマスクパターン描画装置の露光フィールドの同じ偏向位置を用いて露光し、かつ各分割領域を露光したのと同じ露光フィールドの設定と同じ状態で個々の分割領域を取り囲む前記梁の部分にパターン位置精度測定のためのマークを描画することを特徴とする荷電粒子線リソグラフィマスクの製造方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】パターン形成中に、大きい被加工物の正確な位置測定及び／又は移動を可能にするリソグラフィ装置及び方法を提供する。
【解決手段】本リソグラフィ装置は、パターン形成システムにより放射投影ビームにパターンを付与する。基板４は基板テーブル１で支持され、パターン付与されたビームをテーブル上の基板に投影する。基板移動制御システムは、基板をテーブル及び投影システムに対して所定方向に移動させる。テーブル及びビームに対する基板の位置は、移動制御システムにより決定される。移動制御システムは、基板と共に移動可能な少なくとも１つの位置調整マーク８と、投影ビームの走査時にはこの位置調整マーク８を基板と共に移動させ、投影ビームの走査後には位置調整マーク８を基板から持ち上げるように、位置調整マーク８を基板と接触配置する位置決め装置とを有する。 （もっと読む）