【課題】 ねじれ振動に対して抵抗力及び共振周波数の高いステージ部材を提供することである。
【解決手段】 四角柱状の空隙部を備え、当該空隙部を構成する璧をねじれ変形の方向に対して垂直となるように配置したハニカム構造体を有するステージ部材及び当該ステージ部材を含む露光装置が得られる。ステージ部材のハニカム構造体はセラミックスによって構成することが望ましい。 （もっと読む）

形成した調光分布を一方向に沿って高速に移動させることが可能な二次元調光デバイスを可変成形マスクとして備えた、走査型のマスクレス露光装置を提供する。走査型のマスクレス露光装置の可変成形マスクとして、信号保持要素と調光要素とからなる調光素子が二次元に配列された調光素子アレイ（１１）と、その信号保持要素に保持される調光信号を、一方向に沿って隣接する信号保持要素に順次転送可能な制御回路機構（１２）とを有する二次元調光デバイス（ＶＭ１）を使用する。その可変成形マスク上のパターンとしての一方向に高速転送可能な調光状態分布を、投影光学系（１３）を介して移動している被露光基板（Ｗ）上に転写する。 （もっと読む）

基板上にパターンを作製する方法で、その方法は、基板上に第1のパターンをプリントする工程；及び、第2の実質的に同様なパターンで、第1及び第2のパターンの組み合わせは基板上の画成された素子の最終的なサイズにおける系統的な変動を引き起こすように第1のパターンに対してずれているものをプリントする工程を有する。
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低コストおよび低環境負荷で、かつ連続した薄膜回路パターンを精度よく実現できるパターン形成方法、およびこれにより製造される電子回路、並びにこれを用いた電子機器を提供する。 基板１上にマスク層２を形成する工程と、上記マスク層２に開口パターンを形成する工程と、上記基板１上およびマスク層２上に薄膜３を形成する工程と、上記マスク層２および該マスク層２上に形成された薄膜３を基板１から剥離する工程とを含み、開口パターンを乾式条件下で形成する。 （もっと読む）

本発明は、画像平面に配置された、少なくとも一部が電磁放射線に感応する層で覆われた被処理品をパターン形成するための液浸リソグラフィ装置に関する。同装置は、対象物平面に電磁放射線を放出する放射源と、前記電磁放射線を前記対象物平面で受け取って変調するようになされ、かつ、前記被処理品に向けて前記電磁放射線を中継するようになされたマスクと、前記リソグラフィ装置の最終レンズの少なくとも一部および前記被処理品の一部と接触する液浸媒体とを含み、毛細管力によって前記接触領域が制限される。また、本発明は、被処理品にパターン付与する方法および液浸レンズに関する。
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真空ポンプ排出システムが、第１のガス、例えばキセノンを真空チャンバに供給する第１のガス供給源を有する。ポンプが、チャンバからのガス出力を受け入れる。第２のガス供給源が、第１のガスと共にポンプ排出のためのパージガス、例えば窒素又はヘリウムを供給する。ガスセパレータが、ポンプにより排出されたポンプ排出ガスを受け入れて流れから第１のガス及びパージガスを回収する。回収した第１のガスを真空チャンバ経由で再循環させ、回収した第２のガスを少なくともポンプ経由で再循環させる。
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光学層は多数のサブ照射によってレジスト層（５）内に形成され、各サブ照射において光弁（２１−２５）のアレイ及び対応する光収束素子のアレイ（４０）を使用してサブ像に応じてレジスト層内にスポットのパターンを形成する。サブ照射間において、レジスト層は、アレイ（２１−２５、４０）に対して動かされる。レジスト層内の光学像のスケールが測定され、この測定は、書込みされる必要のある像のスケールと比較される。差がある場合には、光収束素子（４３）間の間隔が物理的に偏光されて基板スケールが調整される。

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