【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系３０において、第１レンズ群３２、第２レンズ群３４、第３レンズ群３６、第４レンズ群３８を備え、第１レンズ群３２と第２、３レンズ群３４、３６との間に、偏光ビームスプリッタ４０を配置する。そして、マスクＰＭの光軸上点からのマージナル光線ＭＬ１、ＭＬ２が偏光ビームスプリッタ４０の入射面に対し垂直入射するように、第１レンズ群３２の光学特性が定められている。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク６の変形を高精度かつ短時間に測定できるプロキシミティ露光装置を提供する。
【解決手段】透明基板６ｂの一方の表面６ｃに転写パターン６ａが形成されたフォトマスク６と、ガラス基板５とのギャップＧを狭めるギャップ狭小手段と、透明基板６ｂの第１端面６ｅから、転写パターン６ａが形成されていない側の透明基板６ｂの表面６ｄで全反射し、第１端面６ｅとは異なる透明基板６ｂの第２端面６ｆへ達する光路を含むレーザ光線２８の光路の光路長を測定する測長手段２４とを有する。レーザ光線２８は、第１端面６ｅから透明基板６ｂ内に入射し、透明基板６ｂ内を、転写パターン６ａが形成されていない側の透明基板６ｂの表面６ｄに向かって進行する。レーザ光線２８は、透明基板６ｂの内部から、表面６ｄに、臨界角より大きな入射角で入射し、全反射する。 （もっと読む）

【課題】光学系中の光学部材の位置関係を容易に効率的に調整できるようにする。
【解決手段】光学部材の位置調整装置であって、レンズ３６Ａを支持する第１支持部５４Ａ１と、第１支持部５４Ａ１に対して第１方向Ｒ１に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂを介して連結された第２支持部５４Ａ２と、第２支持部５４Ａ２に対して第２方向Ｒ２に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄを介して連結された第３支持部５４Ａ３と、第３支持部５４Ａ３に対して第１支持部５４Ａ１及び第２支持部５４Ａ２をそれぞれ第１方向Ｒ１及び第２方向Ｒ２の回りに回転させる第１及び第２駆動機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの変形を補正することによって転写精度を向上させる液晶露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ機構４２，４３と、フォトマスク７１を支持するフォトマスク支持フレームと、フォトマスク支持フレームの歪みを検出する歪み検出手段と、フォトマスク７１の変形を補正する補正手段と、フォトマスク７１の変形パターンと歪みの分布とが対応して記憶されている変形パターン記憶手段と、歪み検出手段によって検出された歪み分布と、変形パターン記憶手段から読み出した変形パターンの歪み分布とを比較して、フォトマスク７１の変形パターンを推定し、推定した変形パターン、及び、歪み検出手段によって検出された歪み量に基づいて、フォトマスク７１の変形を打ち消す補正量を算出し、当該補正量に対応する電圧を補正手段に対して出力する制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度でとることができるアライメントマーク及び露光装置を提供する。
【解決手段】基板とマスクとを相対的に位置合わせする際に、マイクロレンズアレイを基板アライメントマーク３２とマスクアライメントマーク３１との間に配置し、アライメント光を照射し、マスク上に基板アライメントマーク３２の正立等倍像を結像させる。このマスクアライメントマーク３１は、その輪郭を示す全ての辺３ｅ，３ｆ、３ｇ、３ｈが、マイクロレンズの配列方向に対して傾斜している。 （もっと読む）

【課題】複数の光源部の照度をそれぞれ制御することで、ギャップ分布による露光面での照度のばらつきを小さくすることができる近接露光装置及び近接露光方法を提供する。
【解決手段】近接露光装置ＰＥは、複数の光源部７３と、露光制御用シャッター７８と、インテグレータレンズ７４と、コリメーションミラー７７と、を有する照明光学系７０を備え、基板Ｗに対して近接対向するマスクＭに向けて照明光学系７０から光を照射することで、マスクＭのパターンＰを基板Ｗに露光する。露光領域内の複数箇所にて、マスクＭと基板Ｗとの間のギャップを測定するギャップセンサ１７を備え、複数の光源部７３は、複数箇所にて測定された各ギャップに応じて照度をそれぞれ変更する。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの撓みを撓み補正バーにより矯正する機構を設けた水平置きのプロキシミティ露光装置において、フォトマスク基板の板厚の均一性が良くなかったり、パターン形成面の平面性が良くない場合にも、パターン露光の転写精度を劣化させず、塵埃による製品欠陥を防止できること。
【解決手段】マスクホルダが、フォトマスクの下面側に撓み補正バーとでフォトマスクを挟む二つのホルダ部材を有し、ホルダ部材は、撓み補正バーと対向する二辺の内側寄りの縁部を直接支持するように、ワーク基板に対して平行に対向配置され、フォトマスクを直接支持するホルダ部材が接するべきフォトマスク支持面の平面度の分布に対応して、ホルダ部材の直接支持面側の上端部の平面位置により、上端部の高さを調節できるようにした。 （もっと読む）

【課題】移動方向に直交する方向に複数個の露光対象領域が設けられた露光対象基材を一方向に連続的に供給して露光する露光装置において、露光対象基材がその移動方向に直交する方向に伸縮した場合に、マスクの位置を精度よく補正できる露光装置を提供する。
【解決手段】フィルム２には、その移動方向に直交する方向に複数の露光対象領域４が設けられている。光源から出射された露光光は、フィルム移動方向に直交する方向に複数枚配列されたマスク３のパターンを介してフィルムに照射される。フィルム２の露光対象領域間及び両端部には、伸縮確認用マーク２ｃが設けられており、この伸縮確認用マーク２ｃをマスクアライメントマークと共にカメラ５１により観察し、制御部７は、伸縮確認用マーク２ｃがフィルム移動方向に直交する方向にずれたときに、駆動部６により、このずれに応じてマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとのアライメントを高精度でとることができるアライメントマークを提供する。
【解決手段】基板１とマスク２とを相対的に位置合わせする際に、マイクロレンズアレイ３を基板アライメントマーク１１とマスクアライメントマーク２ａとの間に配置し、アライメント光を照射し、マスク２上に基板アライメントマーク１１の正立等倍像を結像させる。マイクロレンズアレイ３の各マイクロレンズには、多角視野絞り（例えば６角視野絞り）が設けられているが、基板アライメントマーク１１は、多角視野絞りの開口の全ての辺に対して傾斜し、複数本の線状のマーク片を有しており、このマーク片同士の交差部の像により、基板アライメントマーク１１のアライメント中心を検出できる。 （もっと読む）

【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とをガラス基板に形成した複数のフォトマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のフォトマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のフォトマスクを、隣り合うフォトマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のフォトマスクは、並置且つ連結されることによって全体として１個のフォトマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 （もっと読む）

【課題】露光装置の経時変化等の原因により、露光時におけるマスク位置が露光対象基材の移動方向に直交する方向にずれたときに、マスク位置を精度よく補正することができる露光装置を提供する。
【解決手段】光源とマスク３との間に介在するように基準板４が配置されており、基準板４には、各マスク３毎に、マスク３が配置されるべき位置の基準を示す第１基準マーク４１が設けられている。カメラ５１により第１基準マーク４１及びマスクアライメントマーク（スリット３２）を検出し、制御部７は、検出された両者間の距離ａに基づいて、フィルム移動方向に直交する方向におけるマスク３のずれを検出し、駆動部６によりマスク３の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】３Ｄ偏光フィルム及び配向フィルム等の製造時の露光に使用でき、薄いが剛性が高く、高精度で露光することができると共に、マスクコストを低減できるスキャン露光用メタルマスク及びスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】メタルスリットマスク５は、金属製の基板１５に、スキャン方向に延びる矩形のスリット５ａがスキャン方向及びスキャン方向に直交する方向にマトリクス状に配列されて形成されている。これらのスリット５ａ群の中で、スキャン方向に配列された各列３個のスリット５ａ１，５ａ２，５ａ３は、それらの相互間に、基板１５の領域１５ａ、１５ｂが位置しており、これらの領域１５ａ、１５ｂは、スキャン方向に直交する方向に直線状に連なっている。この３個のスリット５ａ、５ｂ、５ｃのスリット列のスキャン方向に直交する方向に隣接するもの同士の間隔は、フィルムに形成すべき帯状の露光領域の幅に対応して決められている。 （もっと読む）

【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【課題】大型の被露光材を露光するために、複雑且つ高コストの露光機構を要することなく、露光に使用するマスクのコストを抑えることである。
【解決手段】本発明に係る露光装置は、光源からの照射光を遮断する遮光領域と照射光を透過させる透光領域とを金属板に形成した複数のメタルマスクと、光源と搬送された被露光材との間に、複数のメタルマスクを保持するマスク保持部とを備える。マスク保持部は、同一平面上に並置された複数のメタルマスクを、隣り合うメタルマスクの各端部が互いに接触するように、連結して保持するものであり、複数のメタルマスクは、並置且つ連結されることによって全体として１個のメタルマスクを構成すると共に、マスク保持部に対して、それぞれ個別に着脱できるものである。 （もっと読む）

【課題】フィルム基材の熱膨張に拘わらず、所定の間隔で偏光部を形成することができ、偏光部が高精度で形成された偏光フィルムを得ることができるフィルム露光装置を提供する。
【解決手段】配向材料が塗布されたフィルム１０は、バックロール５に巻き架けられた後、偏光フィルムの巻取装置に送給される。フィルム１０はバックロール５によりシワを伸ばされて支持されており、そのフィルム移動域に、２個のスリットマスク７，１７が配置されている。このスリットマスク７，１７は、露光光源６，１６からの露光光を帯状にしてフィルム１０に照射する。このフィルム１０がバックロール５に接触する手前に、冷却ロール８が配置されていて、冷却ロール８はフィルム１０に転動してこれを冷却する。 （もっと読む）

【課題】高い精度および良好な視認性を有するアライメントマークを形成し、低コストで生産性よくフラットパネルディスプレイを製造する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイの基板の位置を認識するためのアライメントマークを形成する感光性ペーストであって、アライメントマークは、基板上に前記感光性ペーストを塗布するステップと、塗布した膜を乾燥して感光性膜とするステップと、感光性膜を露光することによりアライメントマークを形成するステップとにより形成され、感光性ペーストは、視認性を良くするために黒顔料粒径とガラスフリット粒径の比率に応じて黒色顔料とガラスフリットの体積比率を選択することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】水平方向へのレイアウトの拡大を抑制できる基板の搬送システムを提供する。
【解決手段】搬送システム１は、ロボット７Ａにて搬入及び搬出される基板Ｓが置かれる搬入用スペース１２Ａ及び搬出用スペース１３Ａが上下方向に配置された受け渡しステーション９Ａと、ロボット７Ｂにて搬入及び搬出される基板Ｓが置かれる搬入用スペース１２Ｂ及び搬出用スペース１３Ｂが上下方向に配置された受け渡しステーション９Ｂと、露光前の基板Ｓを各搬入用スペースへ移送する移送ロボット１０Ａと、搬出用スペース１３Ｂの基板Ｓを下流側セクションＳＣ２へ移送する移送ロボット１０Ｂとを備え、移送ロボット１０Ａは搬出用スペース１３Ａの基板Ｓを第２受け渡しステーション９Ｂに配置された中継スペース１４へ移送し、移送ロボット１０Ｂは中継スペース１４の基板Ｓを下流側セクションＳＣ２に移送する。 （もっと読む）

【課題】
携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、正確なマスクの位置を設定することができる。
【解決手段】
基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して複数種の透過光を照射し、マスク部の透光窓を介して取得された透過光を画像情報に変換し、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画面表示画面の隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆うように設定されたものである。 （もっと読む）

【課題】カブリ故障を抑えつつ、良好な露光パターンを得る。
【解決手段】露光機４４は、金属製のバックアップロール４１と、光源５２と、光マスク板５６と、マスク支持板５７Ａ・５７Ｂとを備える。バックアップロール４１は、表面に硬化性膜２７が形成された支持フィルム１３の裏面を周面４１Ａで支持しながら搬送する。光源５２は、バックアップロール４１に支持されている支持フィルム１３上の硬化性膜２７に向けての硬化光を放つ。光マスク板５６は硬化光を遮る。光マスク板５６は、バックアップロール４１に近接するようにして光源５２及びバックアップロール４１の間に配され、Ｘ方向へ延びＹ方向に並ぶスリット５６Ｓを有する。マスク支持板５７Ａ・５７Ｂは、光マスク板５６及びバックアップロール４１の間に配され、バックアップロール４１側から光マスク板５６を支持する。マスク支持板５７Ａ・５７Ｂは、光マスク板５６よりも硬化光が散乱しやすい。 （もっと読む）