【課題】広い発散角度において、高い偏光分離特性を有する偏光ビームスプリッターを提供する。
【解決手段】入射する光束を分離する偏光ビームスプリッターであって、基板上に形成され、基板の屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率材料からなる膜と、基板の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率材料からなる膜とを交互に積層した少なくとも３つ以上の積層群を有し、光束の中心波長λに対して、高屈折率材料からなる膜の光学的膜厚をＨ×λ／４、低屈折率材料からなる膜の光学的膜厚をＬ×λ／４としたとき、少なくとも３つ以上の積層群のうち、最も光束の入射側に形成された最終積層群は、１．３＜Ｈ＜１．５、且つ、１．３＜Ｌ＜１．５を満足し、最終積層群以外の積層群は、０．５＜Ｈ＜１、且つ、１＜Ｌ＜１．５、又は、１＜Ｈ＜１．５、且つ、０．５＜Ｌ＜１を満足することを特徴とする偏光ビームスプリッターを提供する。 （もっと読む）

【課題】偏光した超短光パルスレーザを低フルーエンスで集光照射しても穴や溝等のエッジ及び穴や溝等の底部がガタガタしないレーザ加工方法及び装置を提供すること。
【解決手段】偏光した超短光パルスレーザＬを発生するレーザ発生器１と、超短光パルスレーザＬの偏光面を回転させて偏光面が回転している状態の超短光パルスレーザを出射する回転偏光制御素子２と、回転偏光制御素子２から出射される偏光面が回転している状態の超短光パルスレーザを低フルーエンスで被加工材料５上に集光照射するレーザ照射手段３と、を有することを特徴とするレーザ加工装置。 （もっと読む）

【課題】 光軸を同一にしているか又は実質的に同一にしている波長が異なる複数の光ビームの各ビーム強度レベルを任意に可変可能な光レベル制御器及びその制御方法並びにこれを用いたレーザ応用装置を提供する。
【解決手段】 光レベル制御器１は、レーザ発振器２から出射された波長が異なる２つのビーム強度を独立に制御する。光レベル制御器１は、波長依存性がある波長板３と偏光ビームスプリッタ４とを備えている。波長依存性がある波長板３は、一方の光波に対しては１／２波長板として機能し、他方の光波に対しては全波長板として機能する。偏光ビームスプリッタ４の光軸回りの回転角度だけを調整して、偏光ビームスプリッタ４を直進透過する他方の光波の強度を定める。次に、偏光ビームスプリッタ４を調整した角度に固定して、波長板３の光軸回りの回転角度を調整し、一方の光波の強度を定める。 （もっと読む）

【課題】
レーザ加工機において、反射光の減衰に起因するＳＮ比の低下を防止する。
【解決手段】
レーザ加工機１００は、基板１１上にレーザ光５を照射して基板をレーザ加工する。レーザ発振器４がレーザ光を発振する。レーザ発振器から発射されたレーザ光をビームスキャン光学系が位置決めする。ビームスキャン光学系は、２軸スキャナ８およびｆθレンズ９を有する。ｆθレンズと被加工品間に被加工品からの反射光を偏光する１／４波長板を配置する。 （もっと読む）

【課題】偏光分離素子で分岐したレーザビームそれぞれを円偏光化する場合に、各光路で高い円偏光率を得ることができるレーザ加工機を得ること。
【解決手段】レーザ発振器と、レーザ発振器からのレーザビームを複数の光路に分岐して出力する光路二分岐部２と、光路二分岐部２で分岐された各レーザビームを対象物に照射させる投影レンズと、を備え、対象物に対してレーザ加工を行うレーザ加工機において、光路二分岐部２は、レーザ発振器からのレーザビームＩのＰ偏光を所定の透過率で透過させるとともに、Ｓ偏光を所定の反射率で反射させて、２つの光路に分岐させる偏光分離素子２１と、偏光分離素子２１で分岐されたそれぞれの偏光成分のレーザビームを円偏光または楕円偏光に変換する１／４波長板２４ａ，２４ｂと、の間の少なくとも１つの光路に、分岐されたレーザビームに含まれる他の偏光成分を減衰させる偏光制御素子２２ａ，２２ｂを配置してなる。 （もっと読む）

【課題】 ２枚以上のビスマス置換型希土類鉄ガーネット膜(ＲＩＧ膜)を用いたファラデー回転子において、ＲＩＧ膜に反りや厚みムラなどにより、高出力のレーザーに対してアイソレーションが劣化する。
【解決手段】複数の放熱用基板１ー１，１−２，１−３と複数のＲＩＧ膜２ー１，２−２とからなり、一方面のみに反射防止膜３を形成したＲＩＧ膜を、少なくとも一方面に反射防止膜を形成した放熱用基板に、前記反射防止膜を対向させて接着した後に、前記複数のＲＩＧ膜のファラデー回転角の合計が４５°となるように、ＲＩＧ膜の反射防止膜が形成されていない面を研磨することにより、、放熱用基板とＲＩＧ膜とが交互に並んだファラデー回転子を作製する。また、光アイソレータの製造は、上記した方法により製造されたものであって、第１および第３の放熱用基板が楔型のルチルからなり、第２の放熱用基板がサファイアからなる。 （もっと読む）

【課題】直線偏光された入力レーザービーム（１１０ａ）を第１の出力レーザービーム（１３０ａ）又は第２の出力レーザービーム（１６０ａ）へ選択的に切り換えるための切り換え装置及びレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】切り換え装置は入力レーザービーム（１１０ａ）の偏光方向を選択的に回転させるための一次光学素子（ＥＯＭ）を有する一次光学切り換え素子と、偏光方向によって入力レーザービームを第１の光路（１２０ａ）又は第２の光路（１５０ａ）へ誘導する下流側の一次偏光依存レフレクタ（Ｒ）とを備える。二つの光路の各々（各々１２０ａと１５０ａ）において、更なる光学切り換え素子が各々提供され、これには各々のレーザービーム（各々１２０ｂと１５０ｂ）の偏光方向を選択的に回転させるための二次光学素子（各々ＥＯＭ１とＥＯＭ２）と、偏光方向によって各々のレーザービームを出力レーザービーム（各々１３０ａと１６０ａ）に誘導する二次偏光依存レフレクタ（各々Ｒ１とＲ２）とを備える。 （もっと読む）

【課題】 合成されるパルスレーザビームの波の位相を制御することなく、２つのパルスレーザビームを同一光軸上に合成し、合成されたパルスレーザビームを、各パルスの偏光方向が揃った直線偏光にする。
【解決手段】 偏光ビームスプリッタ３が、入射するレーザビームのＰ偏光成分を透過させ、Ｓ偏光成分を反射する。レーザ光源１が、偏光ビームスプリッタ３に対するＰ偏光となるように直線偏光されたパルスレーザビームｐ１を出射し、レーザ光源２が、偏光ビームスプリッタ３に対するＳ偏光となるように直線偏光されたパルスレーザビームｐ２を出射する。偏光ビームスプリッタ３から出射したパルスレーザビームｐ１及びｐ２が、電気光学変調器４に入射する。電気光学変調器４は、電気光学効果を有する結晶を含んで構成され、所定の電圧を印加すると、それを通過する直線偏光の偏光方向を９０度回転させる。 （もっと読む）

【課題】 １本のパルスレーザ光を２本のパルスレーザ光に分岐させ、分岐されて得られた２本のパルスレーザ光の一方を他方に対して遅延させて出射させる光学装置の汎用性を向上させる。
【解決手段】 光源１がＰＢＳ４に対してＰ偏光である主パルスレーザ光Ｌを出射する。１／４波長板２に主パルスレーザ光Ｌが入射する。保持機構３は１／４波長板２を回転させ得る。これにより、１／４波長板２から出射する主パルスレーザ光のＳ偏光成分とＰ偏光成分の強度比を変化させ得る。ＰＢＳ４が１／４波長板２を通過した主パルスレーザ光ＬをＳ偏光たる第１のパルスレーザ光Ｌ_ＳとＰ偏光たる第２のパルスレーザ光Ｌ_Ｐとに分岐させる。第２のパルスレーザ光Ｌ_Ｐは遅延光路Ａ−Ｂ−Ｃ−Ｄを経由するので、第２のパルスレーザ光Ｌ_Ｐの試料面Ｐへの到達時点が、第１のパルスレーザ光Ｌ_Ｐの試料面Ｐへの到達時点よりも遅延する。 （もっと読む）

【課題】 ファラデー素子からの発熱を効率良く放熱する。
【解決手段】 ファラデー素子である磁性ガーネット結晶膜１と、この磁性ガーネット結晶膜の両側にこれを挟むように装着されている第１及び第２の熱伝導板２，３とを備えており、第１の熱伝導板２は、ガドリニウム・ガリウム・ガーネット（ＧＧＧ）の基板からなり、第２の熱伝導板３は、下記の熱伝導部材（２）〜（９）から選択されるものであるが、第１の熱伝導部２と第２の熱伝導部３とは一方が下記熱伝導部材（１）であるとき、他方は下記熱伝導部材（２）〜（９）から選択されるものである。
（１）ＧＧＧ、（２）ＴｉＯ_２、（３）Ａｌ_２Ｏ_３、（４）３Ｃ−ＳｉＣ、
（５）４Ｈ−ＳｉＣ、（６）６Ｈ−ＳｉＣ、（７）ｈｅｘ．ＡＩＮ、
（８）ｈｅｘ．ＧａＮ、（９）Ｃ （もっと読む）