【構成】平面とその平面の中心に配置されるピボット位置部分を有する平面要素を規定する選択的に位置決め可能な平面要素アセンブリ，上記ピボット位置部分を枢支するピボット支持要素，前記ピボット支持要素に関連して固定され，上記平面に垂直な方向に磁力を働かせて，それにより上記平面要素を前記ピボット支持要素のまわりに傾動させるように配置される電磁石，上記平面要素の位置を検知するセンサ，ならびに上記センサの出力に応答して動作して上記電磁石の作用を制御するフィードバック回路を含む平面ティルティング装置。 （もっと読む）

本発明は、調節可能な回折格子及び略同様の仕組みを有する調節可能な位相シフタなどの様々な光学活性素子（１，２０，２２）に関する。光学活性素子（１，２０，２２）は、駆動手段に対して機械的に相互接続される変形可能な材料から形成される中間層（４）を備えている。駆動手段は、中間層（４）の両側に互いに略対向して配置され且つ中間層（４）を部分的に覆う第１及び第２の駆動プレート（２，３）を備え、これにより、駆動プレート（２，３）による中間層（４）の局部的な圧縮が厚さの局部的な減少を第１の方向で引き起こす。この第１の方向での減少は、中間層の第２の方向での二次的な変形を引き起こし、その結果、光学活性素子の光学的挙動の変化がもたらされる。 （もっと読む）

少なくとも１つのマイクロミラーを基板の上方に弾性的に支持して有する間隔制御式エタロンを備える光変調器。少なくとも１つの絶縁ストッパが、マイクロミラーが印加電圧によって基板に向かって引き寄せられるときの短絡を防止するために、マイクロミラーと基板との間に設けられている。光検出器が、第１のレーザパルスの到着時刻を検出する。制御回路が、第１のレーザパルスの到着時刻から次の入射レーザパルスの到着時刻を予測し、制御信号に応答して、変調器を透過する光を最大または最小にするために予測される時間に、マイクロミラーを絶縁ストッパに当接して保持されるプルダウン位置に拘束し、あるいはマイクロミラーを解放する。所定の回数の機械的振動を許容するように計算された時間間隔の後に、マイクロミラーが、ストッパへと引き戻される。
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ＭＥＭＳデバイスのための支持構造、およびその方法
ドーパント材料を選択的に拡散された犠牲材料で形成された、または選択的に酸化された金属犠牲材料で形成された支持構造を有する微小電気機械システムデバイス。該微小電気機械システムデバイスは、電極を上に形成された基板を含む。別の電極が、キャビティによって第一の電極から分離され、移動可能層を形成する。該移動可能層は、拡散された、または酸化された犠牲材料で形成された支持構造によって支持される。
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