【課題】広い波長帯域の光から特定の波長を抽出可能な波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター５は、第一反射膜５５１及び第三反射膜５５３を有する第一基板５１と、第一反射膜５５１に第一ギャップＧ１を介して対向する第二反射膜５５２を有する第二基板５２と、第三反射膜５５３に第二ギャップＧ２を介して対向する第四反射膜５５４を有する第三基板５３と、第一ギャップＧ１を変更する静電アクチュエーター５６とを備え、平面視において各反射膜が重なる光干渉領域Ａｒ０を有し、第一及び第二反射膜５５１，５５２により構成される波長可変干渉部５７の複数の測定対象波長域のうちいずれか１つは、第三及び第四反射膜５５３，５５４により構成される波長固定干渉部５８の複数の透過可能波長域のうちのいずれか１つと重なる。 （もっと読む）

【課題】マイクロミラー装置およびマイクロミラーアレイのフィルファクタを向上させる
。
【解決手段】電極１５−１〜１５−４は、可動梁１２−１〜１２−４に対向して配置され
る。これにより、固定電極をミラーに対向して配置したするよりも、各ミラー１４を高密
度に配置することができるので、結果として、フィルファクタを向上させることができる
。 （もっと読む）

【課題】迅速な分光測定が可能な分光測定装置を提供する。
【解決手段】分光測定装置１は、固定反射膜を有する固定基板、可動反射膜を有する可動基板、固定反射膜及び可動反射膜の間の反射膜間ギャップのギャップ量を変更する静電アクチュエーターを備えた波長可変干渉フィルター５と、波長可変干渉フィルター５により取り出された光の光強度を検出する検出部１１と、静電アクチュエーターに対して連続的に変化するアナログ電圧を印加する電圧設定部２１及び電圧制御部１５と、静電アクチュエーターに印加された電圧を監視する電圧監視部２２と、電圧監視部２２により監視される電圧が所定の測定対象電圧になった際に検出部１１により検出された光強度を取得する光強度取得部２４と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ミラーアレイの構成を簡略化する。
【解決手段】ミラーアレイ１００は、ベース部２と、ベース部２に支持された複数のミラー１１０と、ミラー１１０に連結されてミラー１１０を駆動する複数のアクチュエータ１，１とを備え、ミラー１１０を互いに直交する主軸Ｘ及び副軸Ｙ回りに回動させる。アクチュエータ１は、副軸Ｙ方向に延びるアクチュエータ本体３と、アクチュエータ本体３の表面３１に積層された圧電素子４とを有し、圧電素子４を伸縮させることによってアクチュエータ本体３を傾動させるように構成されている。各ミラー１１０には、副軸Ｙを挟んで並ぶ２つのアクチュエータ１，１が主軸Ｘに対して一方の側だけに設けられている。 （もっと読む）

【課題】２軸動作が可能なミラー素子をより小さな領域により多く配列できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に離間して配置されたミラー１０２と、ミラー１０２の一端を１つの連結部１０３を介して連結して基板１０１の上で支持する第１支持部１０４と、ミラー１０２を挟んで第１支持部１０４に対向する第２支持部１０５と、第２支持部１０５に一端が支持されて他端がミラー１０２の他端に各々１つの連結部１０６ａ，１０６ｂを介して連結する２つの第１可動梁１０７および第２可動梁１０８と、第１可動梁１０７のミラー１０２側の他端を基板１０１より離れる方向および基板１０１に近づく方向の選択された第１方向に変位させるための第１駆動電極１０９と、第２可動梁１０８のミラー１０２側の他端を上記第１方向に変位させるための第２駆動電極１１０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ギャップ量を精度良く得る光フィルター及び光フィルターモジュール並びに分析機器及び光機器を提供すること。
【解決手段】光フィルター１０は、第１基板２０と、第２基板３０と、第１基板に設けられた第１反射膜４０と、第２基板に設けられた第２反射膜５０と、平面視で第１反射膜の周囲の位置にて第１基板に設けられた第１，第２電極６２，６４と、第２基板に設けられて第１，第２電極と対向する第３，第４電極７２，７４とを有する。第２電極６４は第１スリットを有し、第１電極に接続された第１配線は第１スリットが形成された領域を経て第１基板の外周領域に延在する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、反射膜間のギャップ寸法を変化させた場合でも分解能の低下を抑制できる波長可変干渉フィルター、光モジュール、及び光分析装置を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター５は、固定電極５４１及び可動電極５４２を備えた静電アクチュエーター５４を具備する。そして、固定電極５４１は、複数の固定部分電極５４３を備え、可動電極５４２は、複数の可動部分電極５４４を備え、互いに対向する固定部分電極５４３及び可動部分電極５４４により部分アクチュエーター５５が構成される。そして、これらの部分アクチュエーター５５は、同一面積を有し、重心点が可動部５２１の中心点Ｏを中心とする仮想円Ｐ上で等角度間隔に配置され、電圧印加用部分電極間で電気的に直列に接続される。 （もっと読む）

【課題】反射膜同士が貼りつき難くする波長可変干渉フィルターを提供する。
【解決手段】第１基板１０と第２基板２０との間に第１反射膜１４と第２反射膜２４と静電アクチュエーター４０とを含んで密閉された第１空洞部４５と、第２基板２０と第３基板３０との間に密閉された第２空洞部４６と、を備え、第１空洞部４５内および第２空洞部４６内は大気圧より小さい圧力で保持され、第１空洞部４５内の圧力は、第２空洞部４６内の圧力より大きく形成する。 （もっと読む）

【課題】ノイズを含まず分光精度が高い光学フィルターデバイスを提供する。
【解決手段】光の反射特性および透過特性を有する一対の第１反射膜２５が設けられ、第１反射膜２５間のギャップ寸法を変位させることができる第１波長可変干渉フィルター２０と、光の反射特性および透過特性を有する一対の第２反射膜３５が設けられ、第２反射膜３５間のギャップ寸法を変位させることができる第２波長可変干渉フィルター３０と、を備え、第１波長可変干渉フィルター２０と同じ光軸上に、第２波長可変干渉フィルター３０が配置され、第１反射膜２５は誘電体多層膜、第２反射膜３５は金属膜で形成されている。 （もっと読む）

【課題】２軸動作が可能なマイクロミラー素子より構成されるミラーアレイが、配線数の増加を抑制した状態で形成できるようにする。
【解決手段】第１可動梁１３１を駆動するための第１駆動電極１１１が、基板１０１の側に第１可動梁１３１に対向して配置され、第２可動梁１４１を駆動するための第３駆動電極１１３が、基板１０１の側に第２可動梁１４１に対向して配置されている。一方、第３可動梁１６１を駆動するための第２駆動電極１１２は、基板１０１の側とは反対側で第３可動梁１６１に対向して配置され、第４可動梁１７１を駆動するための第４駆動電極１１４も、基板１０１の側とは反対側で第４可動梁１７１に対向して配置されている。 （もっと読む）

【課題】機械的な干渉、過度の湿気、及び損傷を及ぼす可能性がある物質からインターフェロメトリックモジュレータを保護するバックプレートを備えたインターフェロメトリックモジュレータアレイを提供する。
【解決手段】ＭＥＭＳを基本にしたディスプレイデバイス６００であり、インターフェロメトリックモジュレータアレイ６０４が透明基板を通じて光を反射させるように構成されている。透明基板は、シール６０６を介してバックプレート６０８に取り付けられており、バックプレートは、インターフェロメトリックモジュレータアレイを制御するための電子回路を内蔵することができる。バックプレートは、ディスプレイの状態を制御するために使用することができるデバイス構成要素（例えば電子構成要素、等）に関する物理的支持物となることができる。さらに、バックプレートは、デバイスに関する構造上の主支持物として利用することもできる。 （もっと読む）

【課題】基板の撓みを抑制可能な波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、電子機器、及び波長可変干渉フィルターの製造方法を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター５は、固定反射膜５４を有する固定基板５１と、可動反射膜５５を有する可動基板５２と、固定基板５１及び可動基板５２を接合する接合部５３と、を具備し、可動基板５２は、可動部５２１と、保持部５２２と、基板外周部５２５と、を備え、保持部５２２は、均一厚み寸法の平坦部５２２Ａと、平坦部５２２Ａの外周側に設けられ、基板外周部５２５に向かうに従って厚み寸法が増大する曲面部５２２Ｂと、を備え、接合部５３は、固定基板５１及び可動基板５２の互いに対向する面のうち、各基板外周縁に沿った外周領域に設けられ、かつ、接合部５３の内周縁５３Ａが、曲面部５２２Ｂの外周縁５２２Ｅよりも内側に設けられた。 （もっと読む）

【課題】 複雑で高価な工法を用いることなく、光スキャナ素子構造の破損を防止しながら光スキャナ素子を個片として加工できる光スキャナの製造方法を提供する。
【解決手段】 光スキャナ素子１を形成する加工ウエハ１１の表面を加工する際に、光スキャナ素子１をチップとして個片化するためのダイシングストリート１２を形成する工程と、加工ウエハ１１が光スキャナ素子１の可動部に対応したキャビティ１３を有する支持基板１４を加工ウエハ１１の一方の表面に仮接合する工程と、加工ウエハ１１の仮接合面と反対側の面を粘着フィルム１６に貼り付け、仮接合に用いた部材１５の接合力を消失させて加工ウエハから支持基板１４を剥離する工程と、粘着フィルム１６をエキスパンドさせた後、光スキャナ素子１をピックアップしてパッケージングする工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】迅速に安定状態に移行可能な波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター５は、固定基板５１と、固定基板５１に接合された可動基板５２と、固定基板５１に設けられた固定反射膜５４と、可動基板５２に設けられ固定反射膜５４に反射膜間ギャップＧ１を介して対向する可動反射膜５５と、可動基板５２を固定基板５１側に撓ませて反射膜間ギャップＧ１のギャップ量を変化させる静電アクチュエーター５６と、を具備し、固定基板５１及び可動基板５２の間には、反射膜間ギャップＧ１のギャップ量が小さくなった際に、固定反射膜５４及び可動反射膜５５の間の空気が逃げる解放空間５７が設けられ、可動基板５２のバネ定数をｋ_ｖとし、反射膜間ギャップＧ１に存在する空気のバネ定数をｋ_ａｉｒとした場合に、ｋ_ｖ≧２０×ｋ_ａｉｒの関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】低コスト化を図りつつ、可視光領域での波長分離を高精度に行うことができる光学デバイス、光学デバイスの製造方法、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザを提供すること。
【解決手段】本発明の光学デバイス１は、可動部２１の第２の構造体３側の面上に設けられた第１の駆動電極２８と、第２の構造体３上に第１の駆動電極２８に対向するように設けられた第２の駆動電極３３とを有し、第１の構造体２および第２の構造体３は、金属を主材料として構成された金属層４を介して接合され、かつ、金属層４を導体として第１の駆動電極２８と第２の駆動電極３３との間に電圧を印加することにより、これらの間に静電引力を生じさせて、可動部２１を変位させるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】内部気密性を良好に維持できる光学フィルターデバイス、及び光学モジュール、及び電子機器を提供する。
【解決手段】光学フィルターデバイス６００は、固定基板５１、可動基板５２、固定反射膜、及び可動反射膜を備えた波長可変干渉フィルター５と、波長可変干渉フィルター５を内部に収納する筐体６０１と、を具備する。筐体６０１は、ベース基板６１０と、当該ベース基板６１０に接合され、当該ベース基板６１０との間に内部空間６５０を形成するリッド６２０と、リッド６２０に設けられた光通過孔６２１を閉塞するリッド側ガラス基板６４０とを備える。そして、リッド側ガラス基板６４０は、基板端縁６４１が、光通過孔６２１の外周縁よりも外側に位置し、光通過孔６２１の外周縁から基板端縁６４１までの領域が、リッド６２０に接合される。 （もっと読む）

【課題】応答性が良好な波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器を提供する。
【解決手段】波長可変干渉フィルター５は、固定基板５１と、可動基板５２と、固定基板５１の反射膜固定面５１２Ａに設けられた固定反射膜５４と、可動基板５２の可動面５２１Ａに設けられた可動反射膜５５と、反射膜間ギャップを変化させる静電アクチュエーター５６と、を備え、固定反射膜５４及び可動反射膜５５が対向する反射膜対向領域Ａｒ１には、反射膜固定面５１２Ａ及び可動面５２１Ａが第一ギャップＧ１で対向する第一領域Ａｒ２と、第一ギャップＧ１より第二ギャップＧ２で対向する第二領域Ａｒ３と、が設けられ、固定反射膜５４及び可動反射膜５５は、それぞれ反射膜対向領域Ａｒ１のうち少なくとも第一領域Ａｒ２に設けられ、前記第二領域Ａｒ３を通る光路上に、光を遮光する遮光部５１６が設けられた。 （もっと読む）

【課題】応力関連の変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するＭＥＭＳデバイス、およびその製造方法。
【解決手段】ＭＥＭＳデバイスの実施形態は、上位の支持構造によって支持される移動可能層を含み、更に、下位の支持構造を含むことができる。１つの実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、移動可能層内の残留応力とが、実質的に等しい。別の実施形態では、上位の支持構造内の残留応力と、下位の支持構造内の残留応力とが、実質的に等しい。特定の実施形態では、実質的に等しい残留応力は、同じ厚さを有する同じ材料で形成される層の使用を通じて得られる。更なる実施形態では、実質的に等しい残留応力は、互いの鏡像である支持構造および／または移動可能層の使用を通じて得られる。 （もっと読む）

【課題】視野角特性の問題を解消すること、あるいはシャッタの可動距離の確保を目的とする。
【解決手段】固定開口２４は、移動ライン３４を挟む両側の領域にそれぞれ配置された第１固定スリット２６及び第２固定スリット３０を有する。駆動開口３８は、移動ライン３４を挟む両側にそれぞれ配置された第１駆動スリット４２及び第２駆動スリット４４を有する。第１固定スリット２６及び第１駆動スリット４２は、第１ライン２８に沿って延びるように形成され、シャッタ３６が光を透過する位置にあるときに連通するように配置される。第２固定スリット３０及び第２駆動スリット４４は、第１ライン２８と交差する第２ライン３２に沿って延びるように形成され、シャッタ３６が光を透過する位置にあるときに連通するように配置されている。 （もっと読む）