【課題】細径かつ多画素のイメージファイバおよびこれを用いた光学機器、並びに、イメージファイバの製造方法を提供する。
【解決手段】多数のコア１１、・・・と、これらコア１１、１１、・・・に挟まれ、コア１１、１１、・・・が１つのクラッドを共有するようになされた共通のクラッド１２と、このクラッド１２の外周に設けられたジャケット管１３と、このジャケット管１３の外周を覆っている被覆層１４とからなり、コア１１の長手方向と垂直な断面形状が異方性を有する形状であるイメージファイバ。イメージファイバの端面における画素密度を、その長手方向と垂直な一方向において、他の径方向に対し１．０１〜５０倍とする。このイメージファイバに曲げまたは捻りを加える。このイメージファイバが偏波保持性を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】クラッドモードへの漏れ光による損傷を防止できる光学部品の光入出力端、及びレンズ等によって集光された光が結合される各ファイバ端での光パワー密度の増大による、ファイバ端部の損傷を防止できる光学部品の光入出力端を提供する。
【解決手段】光入出力端１００は、ジャケット管１１０とフランジ１２０とで構成され、中心部にファイバ素線２０が挿通されている。クラッド２２内の漏れ光がジャケット管１１０に効率良く除去されるよう、ジャケット管１１０を石英ガラス又はクラッド２２と同じ材質で形成するとともに、加熱によりジャケット管１１０をクラッド２２に融着または接着固定させることで、ジャケット管１１０とクラッド２２とを一体化させている。また、光ファイバの先端とコアレスファイバとを融着接続した部品により、ファイバ端部でのビーム径を拡大させて、光の入出力端でのパワー密度を下げるようにしている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、従来の耐熱光ファイバに比べて、耐熱性が向上し、かつ高温下でも伝送損失の増加の少ない耐熱光ファイバを提供することを目的としている。
【解決手段】 コア部３とクラッド部２を有する光ファイバの外周に保護被覆層１を有する耐熱光ファイバにおいて、前記保護被覆層１がポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂及びエポキシ樹脂のいずれかからなる有機物とケイ素を含む無機物の複合材料からなることを特徴とする耐熱光ファイバ。 （もっと読む）

【課題】リボンユニット中に含まれる個々の着色した被覆光学ガラス繊維へのミッドスパンアクセスを与える性能を有する、改良された光学ガラス繊維リボンユニットを提供すること。
【解決手段】人の手からの指圧の適用により、その中に含まれる個々の着色した被覆光学ガラス繊維へのミッドスパンアクセスを与える性能を有する、被覆光学ガラス繊維のリボンユニットであって、硬化した着色組成物により各々がさらに被覆された多数の被覆光学ガラス繊維と、当該多数の被覆光学ガラス繊維を一緒に結合するマトリックス材料と、からなること、硬化した着色組成物が少なくとも５０℃のＴｇを有すること、等の所定の条件を満たすリボンユニット。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の高いエアクラッド構造のダブルクラッドファイバを改良し、従来よりも高出力なファイバレーザを提供する。
【解決手段】光増幅成分がドープされたコア１と、コア１を被覆するように設けられた第１クラッド２と、第１クラッド２を被覆するように設けられコア１に沿って延びる複数の細孔３ａが形成された第２クラッド３とを備えたダブルクラッドファイバ１０ａであって、一方のファイバ端面には、コア１を伝搬する光の一部を反射する出射側反射膜１２が設けられ、他方のファイバ端面には、出射側反射膜１２で反射されてコア１を伝搬する光を反射する入射側反射膜１１が設けられていると共に、コア１、第１クラッド２及び第２クラッド３の各径は、一方のファイバ端から他方のファイバ端に向かって拡径している。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１種の重金属酸化物を含むマトリックスガラスを含有する光増幅器用のガラスファイバにおいて、散乱光によって生じる雑音を最小限にし、それによって増幅器の信号出力を増大させる。
【解決手段】マトリックスガラスがＢｉ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｇａ、Ａｓの酸化物、および／もしくは混合酸化物、ならびに／またはこれらの混合物から選択される少なくとも１種の重金属酸化物、および、少なくとも１種の希土類化合物を含有するコアを備えるガラスファイバであって、それによって上記コアが少なくとも２層のガラスクラッドに囲まれ、コアから第１クラッドへの屈折率変化Δｎが０.００１〜０.０８の範囲内にあり、かつ第１クラッドの屈折率がコアよりも低いガラスファイバとする。 （もっと読む）

【課題】低損失な光ファイバを安価に製造する光ファイバの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、光ファイバプリフォームを準備する工程と、プリフォームを軟化する温度まで加熱する工程と、プリフォームから光ファイバを線引きする工程とを有する光ファイバの製造方法であり、プリフォームは、デルタが０．００１より大きい内側コア領域と、デルタが−０．００１〜０．０００５である外側コア領域と、デルタが−０．００１より小さい第１クラッド領域とを少なくとも有し、さらに、内側コア領域と外側コア領域とがＶＡＤ法あるいはＯＶＤ法を用いて形成されている。 （もっと読む）

珪質材料（好ましくは光ファイバー）用の硬化コーティングは、酸化物粉末を分散して有する熱硬化ポリオルガノシルセスキオキサンを含む。酸化物粉末は、約１．２〜約２．７の屈折率を有し、かつ約１００ナノメートル未満の粒度を有する粒子を含む。硬化コーティングは、珪質材料に対して接着性を有し、かつ紫外線に対して透過性である。 （もっと読む）

エポキシ基と脂肪族不飽和を含まないヒドロカルビル基とを含有するエポキシ官能性ポリシロキサン、前記エポキシ官能性ポリシロキサンから選択されたポリシロキサンを含有するシリコーン組成物、シリコーン組成物を紫外線に曝露することによって調製された硬化されたポリシロキサン、硬化されたポリシロキサンを含む被覆された光ファイバ、および被覆された光ファイバを調製する方法。 （もっと読む）

一般に、一態様において、本発明の特徴は、導波路軸に沿って波長λにおいてあるモードの電磁放射をガイドするように構成されたフォトニック結晶ファイバ（２００、９００）を含む装置である。ファイバには、導波路軸に沿って延びるコア（２１０）と、導波路軸に沿って延びコア（２１０）を囲む閉じ込め領域（２２０、９１０）とが、含まれる。閉じ込め領域（２２０，９１０）には、厚さｄ_１およびｄ_２ならびに異なる屈折率ｎ_１およびｎ_２をそれぞれ有する第１および第２の誘電体材料からなる交互層（２１１〜２１９、９２０〜９２２）が含まれる。第１の材料の交互層の少なくとも１つの厚さは、厚さｄ_１^ＱＷとは異なり、または第２の材料の交互層の少なくとも１つは、厚さｄ_２^ＱＷとは異なり、ここで、ｄ_１^ＱＷおよびｄ_２^ＱＷは、２つの誘電体材料に対する４分の１波長条件、式（Ｉ）および式（ＩＩ）に、それぞれ対応する。フォトニック結晶ファイバの波長λにおける被ガイド・モードに対する減衰は、４分の１波長条件に対応する交互層厚さを有すること以外はフォトニック結晶ファイバと同一である基準ファイバに対する減衰に対して、約２以上の因子分の１に低減される。
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