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Fターム[2K002AA05]の内容

光偏向、復調、非線型光学、光学的論理素子 (16,723) | 用途 (1,550) | 光ディスク (47)

Fターム[2K002AA05]に分類される特許

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【課題】 非共鳴2光子吸収断面積が大きい2光子吸収色素と消色性色素を有し、2光子吸収色素による非共鳴2光子吸収により消色性色素を高効率にて消色できる2光子吸収消色材料、それを用いた2光子吸収屈折率変調材料、さらに、それらを用いた3次元光記録材料を提供する。
【解決手段】 少なくとも2光子吸収を行う2光子吸収色素と、2光子吸収の際照射する光の波長のモル吸光係数が100以下の消色性色素を有し、2光子吸収色素が2光子吸収を行うことにより得た励起エネルギーを用いて電子移動またはエネルギー移動により消色性色素を消色する2光子吸収消色材料、それを用いた、2光子吸収屈折率変調材料、さらに、それらを用いた3次元光記録材料。 (もっと読む)


【課題】 精度のよいリッジ型構造の加工が可能な光導波路デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 (a)強誘電体材料からなる第一基体11に、リッジ型構造形成面16を加工する工程、(b)第一基体材料より屈折率の小さい材料が第一基体のリッジ型構造形成面16と接するようにして、第一基体11のリッジ型構造形成面側に固着される第二基体12を設ける工程、(c)第一基体のリッジ型構造形成面16とは反対側である裏面を薄片化処理して、薄片化処理面17を形成する工程、により、先にリッジ型構造を形成した後に、薄片化処理を行うようにする。 (もっと読む)


【課題】 擬似位相整合型波長変換素子を用いて基本波光を高調波光に変換する波長変換レーザ装置におけるレーザの生成効率を改善する。
【解決手段】 光共振器7内に配置する擬似位相整合型波長変換(QPM)素子4の両端面4a、4bの反射率を下げるために、各端面4a、4bに酸化シリコンと窒化シリコンとの混合物を材料とする薄膜を形成する。その混合物の混合比率は、使用する波長におけるQPM素子の基体の屈折率と入射(又は出射)媒質である空気の屈折率とから求まる所定の屈折率になるように制御する。それによって、端面4a、4bでの反射率を従来よりも1桁以上改善した0.01%以下にまで抑制することが可能である。 (もっと読む)


【課題】 材料の相安定性に優れ、長期にわたり優れたフォトリフラクティブ特性を示し、可使時間の長いフォトリフラクティブ材料を得る。
【解決手段】
下記A、B、C並びにD群の成分を含んでなる有機フォトリフラクティブ材料。
A:有機高分子化合物
B:電界応答光学機能化合物として、N−(4−ニトロフェニル)−L−プロリノールと、 下記の化合物群から選ばれた少なくとも1種の化合物との組合せ:
N−(4−ニトロフェニル)−L−プロリノールメチルエーテル、(s)−(−)−N−(5−ニトロ−2−ピリジル)プロリノール、[[4−(ヘキサヒドロ−1H−アゼピン−1−イル)フェニル]メチレン]プロパンジニトリル、4−(2,2−ジシアノビニル)−N−エチル−N−(5−ヒドロキシペンチル)アニリン、及び4−(2,2−ジシアノビニル)−N,N−ビス(2−メトキシエチル)アニリン
C:増感剤
D:可塑剤
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【課題】応答時間の低下を防止でき、かつ、電気信号の劣化を防止できる受光素子およびそれを備えた光ピックアップ装置を提供する。
【解決手段】P型シリコン基板1の表面にはカソード低抵抗化領域8が形成されている。このカソード低抵抗化領域8上には、入射した光信号の強度に応じて反射率が変化するアモルファス合金膜16を形成している。 (もっと読む)


【課題】 材料の相安定性に優れ、長期にわたり優れたフォトリフラクティブ特性を示し、可使時間の長いフォトリフラクティブ材料を得る。
【解決手段】
下記A、B、C並びにD群の成分を含んでなる有機フォトリフラクティブ材料。
A:有機光導電性化合物
B:電界応答光学機能化合物として、N−(4−ニトロフェニル)−L−プロリノールと、 下記の化合物群から選ばれた少なくとも1種の化合物との組合せ:
N−(4−ニトロフェニル)−L−プロリノールメチルエーテル、(s)−(−)−N−(5−ニトロ−2−ピリジル)プロリノール、[[4−(ヘキサヒドロ−1H−アゼピン−1−イル)フェニル]メチレン]プロパンジニトリル、4−(2,2−ジシアノビニル)−N−エチル−N−(5−ヒドロキシペンチル)アニリン、及び4−(2,2−ジシアノビニル)−N,N−ビス(2−メトキシエチル)アニリン
C:増感剤
D:可塑剤
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本発明は、基板表面と平行な方向に伝播する光の光軸方向を前記基板表面に対し角度を持つ方向に変化させる光デバイスであって、前記光軸方向を変化させる機構が前記基板表面に形成された反射面であり、前記反射面は、基板表面における幅が光の入射する側から光の進行方向に向かって減少または増加することにより、1工程でマスクを作成できるのでプロセス工程の増加を防止でき、マスクの精度が高く、傾斜面のばらつきが小さくなり、製造コストを低く抑えることができる。
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