【課題】基板の表裏両面の好適な洗浄を可能とする。
【解決手段】ベース部材２に設けられた保持部材６によってベース部材２と基板Ｗとが離間された状態で基板Ｗの周縁部が保持され、保持部材６に保持された基板Ｗの面のうち、ベース部材２に向く側の第１洗浄面ＷＦ１を洗浄するための第１洗浄ブラシ２１は、第１洗浄具支持アーム２２によって、基板Ｗとベース部材２との間に第１洗浄面ＷＦ１に沿って移動可能に配置支持される。回転モーター１１によってベース部材２に連結された中空状の回転軸９を介して基板保持機構１及びそれに保持された基板Ｗを回転させながら、回転モーター１６による移動動力によって、第１洗浄面ＷＦ１に沿って第１洗浄ブラシ２１を移動させ、第１洗浄ブラシ２１により基板Ｗの第１洗浄面ＷＦ１を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 安価であって、薬品を用いることもなく、バクテリア等の雑菌を除去して、充分な洗浄機能を確保できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 循環配管内ＵＶ照射装置１０３及びタンク内浸漬式ＵＶ照射装置１０５によって紫外線を照射した後のＵＶ処理液（洗浄液）を、洗浄液供給部９によってブラシ基部５１に供給し、ブラシ基部５１では、洗浄液案内路１３を通して吐出口１３１からブラシ毛束５０に対して上記紫外線照射後のＵＶ処理液を吐出して、ブラシ毛束５０での雑菌繁殖を防止する。 （もっと読む）

本発明は、紙匹（１２）の両側に動作的に配置される一対の動作的に回転する洗浄ローラ（１４）と、各ローラの表面の主要部を取り囲む筐体（２０）と、各ローラ（１４）と実質的に同一の広がりを有する真空室（２２）と、各ローラ（１４）と平行に延在し、且つ、それと実質的に同一の広がりを有する長手のスロットとを含み、スロットは、ローラ表面の近傍の入口（２４）と、真空室と連絡し、且つ、ローラ（１４）の近隣から真空室（２２）内への空気流の経路を動作的にもたらす出口（２６）とを有し、各入口（２４）での空気流速度は、ローラの前記表面速度未満ではない紙匹洗浄装置（１０）、並びに、そのような装置（１０）を使用する方法に関する。本発明の他の装置は、ローラ（１４）を取り囲み、約０．５ｍｍ〜約５ｍｍの間隙でそこから離間する筐体（２０）を含む。本発明のさらなる実施態様は、洗浄ステップにおいてローラ（１４）の周りの空気流を制御するためのシャッタ（２０６）を提供する。本発明のさらなる実施態様は、バイパスライン（１２０Ａ）によって制御される弁（１２２Ａ）を提供することによって、紙匹洗浄装置（１０）の所与部分は、それが真空下にないよう大気と連絡する。

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本発明は、軸方向に延びる内孔、および該内孔から円周外表面に連通する複数の小孔を有する、洗浄用スポンジローラー用の略円筒形の中芯において、該内孔の直径が１０ｍｍ以上であり、小孔の直径が２．５ｍｍ以上であり、かつ該小孔の開口断面積の合計が内孔断面積よりも大きいことを特徴とする洗浄用スポンジローラー用の中芯、及び該中芯およびその上に被せられた洗浄用スポンジローラーからなる洗浄用スポンジローラーセットを提供する。 （もっと読む）

【課題】 基板洗浄装置の工程流れ方向に対するコンパクト化を図りつつ、基板の支持を確実化させると共に、基板のエッジ部分の異物残存を回避し、製品歩留まりを向上させる。
【解決手段】 基板２を移送しつつ、スクラビング洗浄工程、リンス洗浄工程、および乾燥工程を順次実行する基板洗浄装置１において、スクラビング洗浄工程を実行する第一の槽４と、リンス洗浄工程および乾燥工程を実行する第二の槽５とを備える。そして、第二の槽５に、基板２を垂直姿勢に保持してスピンリンス洗浄およびスピン乾燥を行うための単一のスピン部５８を配備する。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄基板に接触するスポンジ等の洗浄部材の装着が容易で、被洗浄基板の縁部まで洗浄範囲とすることができ、洗浄部材の押付力の変化によって被洗浄基板との接触面積が変化しにくく、被洗浄基板の膜面にダメージを与えることがない洗浄具及び該洗浄具を用いた基板洗浄装置を提供すること。
【解決手段】 基板洗浄装置に用いる洗浄具であって、洗浄具は被洗浄基板の洗浄面に接触させる洗浄部材１と該洗浄部材１を保持する洗浄部材保持機構２とを具備し、洗浄部材保持機構２は下方部が複数のチャック爪４ａに分割された挟持部材（スリーブ）４と、該挟持部材の外周に嵌入されるリング部材５を具備し、該挟持部材の複数のチャック爪４ａで形成された挿入穴に該洗浄部材１の端部を挿入し、該リング部材５を該挟持部材の外周に嵌入することにより、該複数のチャック爪４ａで該洗浄部材１を締め付け固定する構造、即ちコレットチャック構造とした。 （もっと読む）