【課題】 基板上の位置による処理液の吐出距離の差が小さい液吐出機構、及びその液吐出機構を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板Ｗに処理液を吐出する液吐出機構２に、処理液を吐出するシャワーノズル１２と、シャワーノズル１２と直接又は間接的に接続され、シャワーノズル１２を揺動するために予め定められた軸を中心に回動可能なシャワーパイプ１１と、シャワーパイプ１１の揺動を、処理液の吐出の中心方向が基板Ｗにほぼ垂直になる回動位置と、この回動位置から、シャワーノズル１２と基板Ｗの間の距離が一旦短くなる回動方向へ予め定められた角度だけ回転した回動位置との間で行うように制御するモータ４１及びリンク機構４２とを備え、処理液の吐出の中心方向を示す線と前記軸とが同一面に含まれないようにシャワーノズル１２を備えた。 （もっと読む）

【課題】 かかるコスト及び廃棄物を低減すると共に作業効率を向上し、作業員の健康を配慮した作業環境を提供することのできる浄化装置を提供する。
【解決手段】 接着剤が塗布される部位を、拭き取り手段により汚れを除去し、浄化する浄化装置１００において、前記拭き取り手段１を収容する洗浄ポット３と、前記洗浄ポット３に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記洗浄ポット３において使用した洗浄液を回収し、前記洗浄液供給手段に循環する洗浄液回収手段とを備える。 （もっと読む）

本発明は、電気的に駆動されるポンプと、特に蠕動ローラーポンプとを備える洗浄装置、特に内視鏡用の洗浄装置、ならびにこのような装置の運転方法を開示する。流量を検出および／または調節する制御装置20が設けられる。意図しない狭窄、例えば供給管の詰まり、または意図的な狭窄、例えば狭い洗浄プローブの挿入の場合の過剰に高い圧力を避けるため、ポンプの受け取る電流を検出する電流測定装置を設けること、および、流量が予め定めた限界値を超えて同時に電流が第1の予め定めた電流値を超えるとき、流量が安全な流量値まで減少するような制御装置を作製することが提案される。
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膜スタックを処理するためのクラスタツール、処理チャンバ及び方法の実施形態が提供される。一実施形態においては、膜スタックのシリコン層と金属層をインサイチュエッチングするための方法であって、処理チャンバ内で膜スタックの金属上層をエッチングして下にあるシリコン層の一部を露出させるステップと、処理チャンバから基板を取り出さずにシリコン層におけるトレンチをエッチングするステップと、を含む前記方法が提供される。本発明は、フラットパネルディスプレイの薄膜トランジスタ製造に特に有用である。 （もっと読む）