【課題】 定在波の抑制を確実に行うことで、被洗浄物の表面に発生する縞模様を無くして洗浄品質を向上させる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄層内の溶液に振動を与える超音波振動子と、洗浄層内の音圧を測定する音圧測定部と、ＡＭ変調波電力を発振して超音波振動子に供給する超音波発振部と、音圧測定部で測定した音圧に基いて超音波発振部が発振するＡＭ変調波電力の周波数および電力を制御する制御部をもつ超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】チャンバー内のダクトから遠い位置にあるミストもダクト側に運ぶことができ、従来よりも効率よくチャンバー内を排気する。
【解決手段】チャンバー４０内の保持テーブル１０上にワークＷを保持し、保持テーブル１０を回転させた状態でワークＷの上面に洗浄水Ｃを供給するスピンナ洗浄装置において、保持テーブル１０の外周側面１２に形成した複数の羽１３によって保持テーブル１０の外周周囲に該外周周囲に沿った空気の流れを発生させ、この空気の流れによってチャンバー４０内におけるダクト５０の反対側のミストもダクト５０側に導く。 （もっと読む）

【課題】マスクブランク用基板の洗浄時に、超音波を印加した洗浄水を用いた洗浄方法を適用した場合でも、ガラス基板内部に潜傷が発生することを抑制でき、しかも基板主表面に存在するパーティクルを確実に排除できるマスクブランク用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマスクブランク用基板の製造方法は、ガラス材料からなる基板の表面に向かって、周波数が１．５ＭＨｚよりも高い超音波が印加された洗浄水を当てて基板の表面を洗浄する洗浄工程を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成されたパターンの破損を回避しつつ、基板に対する洗浄能力を低下させずに洗浄を行うことができる。
【解決手段】基板上を複数の領域に区切り、領域毎にその位置情報とパターン情報を取得する情報取得部１１と、位置情報とパターン情報に基づいて、領域毎に基板に薬液を吐出するときの処理条件を決定する条件決定部１２と、基板に薬液を吐出する吐出部１５と、吐出部１５を基板の一端から他端への第１方向に向かって基板に対して相対的に移動する位置制御部１３と、位置制御部１３により移動される吐出部１５が基板上の領域の上方を通過するとき、前記処理条件に従って吐出部１５から吐出される薬液の圧力を調整する吐出調整部１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】多数の超音波振動素子を用いたり、大面積の輻射板を用いる場合であっても、超音波振動素子のキャパシタンスを低減して小さくすることができ、そして負荷インピーダンスを大きくすることができる超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、洗浄液が収容される洗浄槽と、該洗浄槽の壁面に配置され、前記洗浄槽に超音波振動を印加する輻射板と、該輻射板を振動させるために直接または振動板を介して前記輻射板に接合された少なくとも２個以上の超音波振動素子と、該超音波振動素子を振動させるための発振器とを具備する超音波洗浄装置において、前記超音波振動素子は少なくとも２個以上が電気的に直列に接続されているものであり、かつ周波数が２０〜２００ｋＨｚであることを特徴とする超音波洗浄装置。 （もっと読む）

【課題】 構造が簡易でメンテナンス作業も容易な超音波洗浄システムを提供する。
【解決手段】 超音波洗浄槽１１内の液体に洗浄容器２０の一部が接触し得るように支持する容器支持部材としてのローラ部材１３，１４を超音波洗浄槽１１外に備えてなる。従って、洗浄容器２０をローラ部材１３，１４に支持させた状態で回転させると、超音波洗浄槽１１内の液体を介して洗浄容器２０内に超音波が照射され、洗浄容器２０内の被洗浄物の汚れを除去することができる。本発明によれば、ローラ部材１３，１４が超音波洗浄槽１１外に配置されているため、ローラ部材１３，１４のシール対策は簡易でよく、メンテナンス作業も容易で、製造コスト、メンテナンスコストの低減に寄与する。 （もっと読む）

【課題】洗浄品質を向上できるとともに大気汚染や作業環境汚染を確実に防止する。
【解決手段】被洗浄物の洗浄を行う洗浄容器内の圧力変動をアキュムレータで吸収するようにした密閉型洗浄装置において、前記洗浄容器と前記アキュムレータとの間に前記洗浄容器内を減圧する真空発生装置を設け、前記被洗浄物の洗浄の際に、前記洗浄容器を減圧させるとともに、該減圧に伴う前記真空発生装置内の圧力変動を前記アキュムレータで吸収させるように構成した。 （もっと読む）

【課題】液中の検出波の波長の簡単な検出と液中の溶存ガス総量の簡単な評価、制御を可能とする。
【解決手段】音圧を検知する少なくとも2本の同感度で棒状の音圧センサー１７，１９を平行状態で液に挿入し、各音圧センサー１７，１９で検出される検出波２５（２５ａ，２５ｂ）が同期している第１の同期状態から音圧センサー１７，１９を長さ方向に相対移動させて同期をずらし、同期のずれた検出波２５ａ，２５ｂが次に同期する第２の同期状態までの各音圧センサー１７，１９の長さ方向の相対移動量により検出波２５ａ，２５ｂの波長を検出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本願の目的は、ガス洗浄ろ過薄膜のための改良された方法及び装置を提供することである。
【解決手段】本願は、薄膜の表面を通過するように気泡を流し、前記薄膜（６）の表面から堆積物を洗い流すことによって、薄膜ろ過システム内の薄膜（６）を洗浄する方法である。その洗浄方法は、ガスの供給部を通過する液体を流す工程と；前記液体流れ内で減圧を生み出し、ガスの供給部（９）からのガスの流れを前記液体流れ内に生じさせ、該液体流れ内に気泡を形成する工程と；前記薄膜の表面を通過するように、前記気泡を含んだ前記液体を流し、前記薄膜（６）の表面を洗い流す工程と、を含んでいる。その方法を実行するための装置も開示されている。 （もっと読む）

【課題】洗浄対象物を効率的に洗浄することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、洗浄液が設定された高さまで満たされた洗浄液タンクと、前記洗浄液タンクの内部に備わるマイナス電極と、有機発光表示装置製造用メタルマスクが一側に取り付けられ、前記メタルマスクが前記マイナス電極に接触することを誘導するメタルジグと、前記メタルマスクと設定された間隔を置いて前記洗浄液タンクの内部に設けられるプラス電極と、前記マイナス電極及び前記プラス電極に電気的に接続する整流装置とを含む。 （もっと読む）

【課題】基板に付着するリンス液に起因する基板の処理不良を防止することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗが回転するとともに、気液供給ノズル４５３の液体ノズル４５３ａが回転する基板Ｗの中心部ＷＣの上方の位置まで移動する。この状態で、液体ノズル４５３ａから回転する基板Ｗにリンス液が吐出される。気液供給ノズル４５３が基板Ｗの外方位置に向かって移動する。ガスノズル４５３ｂが回転する基板Ｗの中心部ＷＣの上方位置に到達することにより、気液供給ノズル４５３が一時的に停止する。気液供給ノズル４５３が停止した状態で、回転する基板Ｗ上の中心部ＷＣに一定時間不活性ガスが吐出される。その後、気液供給ノズル４５３が再び基板Ｗの外方位置に向かって移動する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に形成されたパターンへのダメージを抑制しながら基板表面を良好に洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板保持手段１１に保持され、洗浄液としてのＤＩＷの液膜が形成された基板Ｗの表面Ｗｆに対し、媒介液供給機構５５から媒介液としてのトルエンを供給し、ＤＩＷの液膜の上にトルエンの液膜を更に形成する。その後、超音波付与機構５１によりトルエンを介してＤＩＷに超音波を付与しながら、凝固手段３１から基板表面Ｗｆに凍結用の窒素ガスを吐出し、ＤＩＷを凝固させる。これにより、結晶サイズの小さいＤＩＷの凝固体を形成し、その後のリンス工程で短時間に解凍することを可能とし、リンス液中に遊離するＤＩＷの結晶を減少し、パターンへのダメージを防止する。 （もっと読む）

【課題】水分濃度が低い有機溶媒を処理部又は被処理体に供給して処理を行うことにより、被処理体や処理部の腐食を抑えること。
【解決手段】イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の供給源３０からＩＰＡを貯留タンク３に供給し、貯留タンク３内のＩＰＡを、水分除去フィルタ４及び濃度測定部５を備えた循環路３２を介して循環供給する。ＩＰＡは、循環路３２内を循環させることにより、水分除去フィルタ４により徐々に水分が除去される。そして、濃度測定部５により測定された水分濃度が０．０１重量％以下であるときには、中間タンク６にＩＰＡを送液する。中間タンク６からは、処理チャンバ１１に水分濃度が０．０１重量％以下のＩＰＡが供給され、処理チャンバ１１では、当該ＩＰＡを高温、高圧状態として、ウエハＷの処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】発熱体の劣化を防止しつつ流体の加熱効率を高めて、運転性能を向上させた洗浄装置を提案する。
【解決手段】洗浄用の水を供給する給水路４と、給水路４内の流体を誘導加熱により加熱する流体加熱装置６とを具備してなり、流体加熱装置６により加熱された流体を被洗浄物に供給する洗浄装置において、流体加熱装置６は、給水路４の中途部に配設され、内部中空を有する筒状の本体部６４、及び本体部６４の内部空間と区画されかつ外部空間と連通される収容部６５が設けられる管体６０と、管体６０の外側に巻回される誘導加熱コイル６１と、管体６０の収容部６５に収容されて配設される発熱体６２と、誘導加熱コイル６１に高周波電流を印加する高周波電源部６３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】多孔質セラミックで構成された保持パッドを従来よりも高い洗浄力で洗浄する。
【解決手段】保持パッド１の多孔質セラミックで構成された保持部３に対し、水とエアとの混合流体である二流体を噴出させて保持部３内の孔に混入する屑を洗い出す二流体噴出洗浄工程と、保持部３を吸引する吸引洗浄工程とを、一定時間ごとに複数回交互に繰り返して保持部３を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄方法、被洗浄物の洗浄装置を提供する。
【解決手段】浸漬時に空気１６を保持可能な穴部１４を表面に有する被洗浄物（多結晶シリコン１２）を洗浄槽１８に浸漬して前記洗浄槽１８を気密封止し、前記洗浄槽１８内の空気を排出することにより前記洗浄槽１８内を減圧する工程と、気体４４を前記洗浄槽１８内に導入することにより前記洗浄槽１８内を加圧する工程と、を繰り返すことにより、前記穴部１４に保持された空気１６を前記洗浄液２８と入れ替えて前記穴部１４の洗浄を行う被洗浄物の洗浄方法であって、前記気体４４として、空気より溶解度の低いものを前記洗浄槽１８に導入することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】汚れ物質の再付着を防止でき、洗浄能力に優れた、また洗浄液面近傍に浮上した汚れ物質を迅速、確実に除去可能な洗浄装置を得る。
【解決手段】搬送アーム５に保持された被洗浄物６が洗浄槽１０中の洗浄液４中に浸漬され、汚れ物質である油脂が離脱され洗浄液４の液面近傍に浮上する。この浮上した汚れ物質をスクレーパー２を矢印Ａ方向に動かすことにより手前側に掻き寄せ、しかる後、被洗浄物６を保持した搬送アーム５を矢印Ｂ方向に移動させ汚れ物質が掻き寄せられて綺麗になった洗浄液４の液面部分において被洗浄物６を引き上げる。綺麗な液面部分において被洗浄物６を引き上げるので、汚れ物質の再付着を防止でき、洗浄能力に優れる。 （もっと読む）

【課題】ワークの下面をスプレー洗浄する際のワークの浮き上がりを防止することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄方法は、ワーク10の上側及び下側にそれぞれ配置された上スプレーノズル２及び下スプレーノズル４から上洗浄液３及び下洗浄液５をそれぞれ噴射した状態で、ワーク10を上下両ノズル2,4に対して相対的に水平方向に移動させることにより、ワーク10の上面10a及び外周面10bのうち少なくとも上面10aを上洗浄液３で洗浄するとともに、ワーク10の下面10cを下洗浄液５で洗浄する洗浄工程を含む。洗浄工程では、上ノズル２及び下ノズル４からそれぞれ上洗浄液３及び下洗浄液５を、下洗浄液５がワーク10の下面10cに当たるときは上洗浄液３が必ずワーク10の上面10a及び外周面10cからなる領域の少なくとも一部に当たるように噴射する。 （もっと読む）

【課題】凹凸のある歯車のようなワークであっても、切屑、切粉等の異物および油分をきれいに除去することができ、また空圧源だけでも作動させることができる、装備および設置が容易な洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を貯留するタンク１０と、洗浄室４０内に回転軸を支持することにより回転自在に設けられたワーク保持具４６と、回転軸に設けられたフィン４８に対し圧縮空気を噴射することによりワーク保持具を回転動させる。ワークＷに相対するように洗浄室内に設けた対物ノズルと、洗浄液を吸引して対物ノズルに圧送する空圧作動式給液ポンプ２０と、圧縮空気を供給する空圧源とからなり、回転動用ノズルから圧縮空気を所定時間噴射することによりワークを回転させると同時に、空圧作動式給液ポンプを作動させて対物ノズルから洗浄液を所定時間噴射し、その後は対物ノズルの流入路が空圧源に切換えられて圧縮空気が所定時間噴射される。 （もっと読む）

【課題】医療用器材等の洗浄対象物に付着した錆やスケールを確実に除去することができるとともに、洗浄対象物の腐食が生じないようにし、かつ作業者の危険性を減らすことができる洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄対象物に、酸性洗浄剤により洗浄を施し、酸性洗浄剤による洗浄終了後に、洗浄対象物に、アルカリ性洗浄剤により洗浄を施し、アルカリ性洗浄剤による洗浄終了後に、アルカリ性洗浄剤を水または温水ですすぐことを特徴としている。 （もっと読む）