【課題】排水手段を熱湯の熱によって劣化させにくくするために、熱湯消毒工程の排水をする前に貯水部に水を供給したときに、被洗浄物に水がかからないようにする。
【解決手段】洗浄装置１０は、下部に洗浄水を貯える貯水部２１の上側に医療用器具を収容する洗浄槽２０と、洗浄槽２０の内周壁に形成された給水口２０ａから貯水部２１に給水源の水を洗浄水の一部として供給する洗浄水供給手段２８と、貯水部２１に湯を供給する熱湯供給手段４０と、医療用器具に貯水部２１の洗浄水を噴射する洗浄ノズル２４、２５と、貯水部２１の洗浄水を洗浄ノズル２４、２５に送出する洗浄ポンプ２７と、洗浄水を排水する排水手段として排水ポンプ３５を介装した排水管３４とを備え、洗浄槽２０には給水口２０ａから供給される水を洗浄槽２０内に収容した被洗浄物側に飛散するのを防止して貯水部２１に案内するガイド手段として、ガイドノズル３１とガイド板３２とを設けた。 （もっと読む）

【課題】硬化層が形成されたレジストを、基層にダメージを与えないように除去する。
【解決手段】レジスト除去方法は、イオンが注入されているレジストに、当該イオンの注入によって形成されたレジストの硬化層にアルカリ可溶性を生じさせる程度の紫外光を照射する照射工程と、前記レジストをアルカリ溶液に接触させて当該レジストをシリコン基板から剥離させる除去工程と、を含む。レジストには、１×１０^１４〜５×１０^１５個／ｃｍ^２のイオンが注入されており、前記照射工程における紫外光の照射量を少なくとも１８００ｍＪ／ｃｍ^２とし、前記除去工程では、６０℃以上に加熱された前記アルカリ溶液を用いる。 （もっと読む）

【課題】水を主体とする洗浄水と微細気泡によって洗浄し、洗浄後のすすぎ工程を省略することによって、環境負荷を抑制する。重量物となる被洗浄物容器の着脱を容易にし、作業者の肉体的負担を軽減し作業効率を向上させる。
【解決手段】被洗浄物を収納する被洗浄物容器２０と、容器を摺動させて装置内外に搬入出する摺動保持機構部９０と、容器を洗浄水に浸漬する洗浄槽３０と、容器を洗浄槽に浸漬及びその引き揚げを行う昇降機構部４０と、昇降機構部に設けられ、容器を回転させる回転機構部５０と、洗浄槽の洗浄水から油脂分を分離する油水分離部８０と、浸漬洗浄中の被洗浄物容器２０に対して、気泡を含む洗浄水流を噴射する気泡発生部６３及びノズル６４と、洗浄槽から引き揚げられ、回転された洗浄後の容器に対して、水切り用の空気流を噴射する水切り機構部７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】枚葉方式で基板を薬液処理した後にリンス処理し乾燥処理する場合に、スループットおよびメンテナンス性を向上させることができるシステムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを１枚ずつ薬液およびリンス液で処理する薬液処理部３８およびリンス処理部４０を連接して処理ユニット１４ａ〜１４ｃを構成し、１つの装置ベース上に複数の処理ユニット、基板搬送部２２および乾燥ユニット１６を設ける。処理ユニット１４ａ〜１４ｃにおいて基板Ｗを薬液処理部３８で薬液処理した後にリンス処理部４０でリンス処理する一連の処理を処理単位とし、１枚の基板に対し一連の処理を複数回行うときは、１つの処理ユニットから別の処理ユニットへ基板を順次搬送して、処理ユニットの設置数に対応する回数以内で適宜必要とする回数だけ処理単位を繰り返してから、基板を乾燥ユニット１６へ搬送して乾燥処理する （もっと読む）

【課題】装置の大型化や複雑化を招かずに、基板の供給位置と搬出位置を同じにできるようにした基板の処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を水平方向に対して直線的に往復搬送するローラコンベア８と、未処理の基板を供給するローダ部２と、ローダ部から供給されてローラコンベアによって搬送された未処理の基板を処理液によって洗浄処理する洗浄処理部１１と、未処理の基板が洗浄処理部に供給される前にその基板を処理液によって湿潤させるアクアナイフ２１と、洗浄処理部で処理された基板をローラコンベアによって搬出するときにその基板に気体を噴射して乾燥処理するエアーナイフ２２と、エアーナイフで処理された基板を格納するアンローダ部３とを具備する。 （もっと読む）

【課題】タンクとノズルとの高低差が大きい床設置タイプであっても、洗浄液を良好に吸い揚げることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】第１のポンプ１２の出側と第２のポンプ１４の入側とを結ぶバイパス経路３０と、バイパス経路３０の連通状態、及び、バイパス経路３０と、洗浄液吐出経路１６の洗浄液タンク側１６Ａ及び廃液吸引経路１８の廃液タンク側１８Ａとの連通状態を制御するための流路切り換え手段（三方弁３２Ａ、３２Ｂ）と、を設け、該流路切り換え手段により、洗浄液吐出経路１６からバイパス経路３０を介し、廃液吸引経路１８に至る経路の連通状態を制御することにより、第１のポンプ１２による駆動力および第２のポンプ１４による駆動力の両方を、洗浄液を吸引させる方向に作用させ、洗浄液の揚程能力を高めることを可能にする。 （もっと読む）

【課題】配線の抵抗のバラツキを少なくすることによって、電子デバイスの品質を安定させ、ランニングコストが安価な基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】基板８を保持して回転させる基板保持部４と、基板８に対して洗浄液等を吐出させる吐出ノズル３とを備えたチャンバー２と、洗浄液が収容される供給タンク２３と、供給タンク２３から吐出ノズル３へ洗浄液を供給するための配管３５及び圧送機構のポンプ２０と、チャンバー２で基板８の洗浄処理が行われた後の洗浄液を供給タンク２３へ戻す戻り配管３７と、供給タンク２３へアンモニアを供給させるアンモニア供給源１９とを備え、チャンバー２において基板８を洗浄処理する毎に、アンモニア供給源１９から供給タンク２３へアンモニアを供給する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、少数の噴射ノズルで高い洗浄力を有し、かつ広範囲の吹き付け面積を有する洗浄装置、及び洗浄方法を提供することを目的とする。さらには、介護用ベッドの部品等の複雑な形状を有する被洗浄物を洗浄した場合にも、洗い残しや洗浄ムラなく洗浄可能な洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 被洗浄物Ｓに洗浄液Ｗを噴射する少なくとも１以上の噴射ノズル１１と、噴射ノズル１１を回転させつつ噴射ノズル１１に洗浄液Ｗを供給する回転アーム１２と、回転アーム１２を被洗浄物Ｓの洗浄面Ｐに対して略々平行に回転させながら洗浄面Ｐに沿って移動させる回転移動手段１３と、を備えた洗浄装置１を提供する。 （もっと読む）

【課題】 洗浄処理をより効果的に、かつ均質に行うことを可能とした洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】 半導体ウエハＷ等の基板に洗浄処理を施す洗浄処理装置、例えば、スクラブ洗浄ユニット（ＳＣＲ）２１ａは、ウエハＷを略水平に保持して面内回転させる保持手段であるスピンチャック７１と、スピンチャック７１に保持された基板の上面を洗浄するブラシ７６ａ・７６ｂ等の洗浄手段と、ブラシ７６ａ・７６ｂを保持するブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂと、ブラシ保持アーム７７ａ・７７ｂをブラシ７６ａ・７６ｂがスピンチャック７１に保持されたウエハＷ上の所定位置を移動するように駆動するアーム駆動機構７９ａ・７９ｂとを具備する。カップ７３の外側の所定位置には、２本のリンスノズル８６ａ・８６ｂが配設されており、それぞれウエハＷの所定位置に洗浄液またはリンス液を供給してウエハＷ上に液膜を形成する。 （もっと読む）