【課題】加工装置による加工精度を向上する。
【解決手段】被加工物としてのワークを凍結固定して加工を行う加工装置１０において、所定の方向に移動可能なベッド１ａ，１ｂと、ベッド１ｂに固定され、ワークを載置するベース２と、ベース２を冷却する温度制御手段２０と、ベッド１ａ，１ｂに対する位置を変動可能に制御され、ワーク２を加工する工具５と、を備え、温度制御手段２０は、ベース２を冷却することにより、ワークを該ワークの材質、および／または該ワークの加工条件に応じた所定の温度に制御する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の板厚の仕上がり寸法バラツキをバッチ間で抑えることができる、研磨装置の提供。
【解決手段】毎回同じ目標板厚値Ａに従ってガラス基板の研磨処理を行う研磨手段として上定盤４０を備える、研磨装置であって、上定盤４０によって今回の研磨処理で研磨されているガラス基板の研磨中板厚値Ｔｃを測定するために上定盤４０のモーター駆動軸６１に対する相対位置を計測する接触式変位センサ６５と、上定盤４０によって前回以前の研磨処理で研磨されたガラス基板の仕上がり板厚値Ｔと目標板厚値Ａとの仕上がり誤差に基づいて、接触式変位センサ６５の計測結果に基づいて得られた研磨中板厚値Ｔｃの板厚補正値Ｔｐを算出する制御部９０とを備え、上定盤４０は、板厚補正値Ｔｐが目標板厚値Ａに到達するまでガラス基板を研磨する、ことを特徴とする、研磨装置。 （もっと読む）

【課題】円盤状基板の研磨を行なう研磨装置の洗浄を行なう場合でも、研磨装置に温度変化が生じにくく、研磨に要求される精度を維持しやすい円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板を研削する研削工程と、研削工程を経たガラス基板の主表面を研磨機５０により研磨剤を用いて研磨するとともに研磨に際して温度管理された処理水を用いる研磨工程と、研磨工程に用いられる処理水の温度管理と同様に温度管理された洗浄水を用いて研磨機５０を洗浄する工程と、を有することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 加工品質の悪化や加工不良、ウエーハの破損を抑制可能なリチウムタンタレートの加工方法を提供することである。
【解決手段】 リチウムタンタレートを研削又は研磨するリチウムタンタレートの加工方法であって、リチウムタンタレートをチャックテーブルで保持する保持ステップと、該チャックテーブルで保持されたリチウムタンタレートを加工手段で研削又は研磨する加工ステップとを備え、該加工ステップでは、低温の加工水をリチウムタンタレートと該加工手段へ供給しつつ、研削又は研磨を実施する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。また、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で研磨するガラス基板の研磨方法、および該研磨方法を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の両主平面を研磨する研磨工程において、ガラス基板の両主平面を同時に研磨したときの両面研磨装置の上定盤の内周端側で測定した表面温度ｔｐ１と外周端側で測定した表面温度ｔｐ２との差Δｔｐ（ｔｐ１−ｔｐ２）の絶対値が３℃以下であることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】単結晶材料の使用状態においても、所望の平滑精度を確保する。
【解決手段】結晶の構造相転移を有する単結晶材料を研磨する結晶材料の研磨方法であって、単結晶材料を用いて作製した素子の使用温度領域が単結晶材料の相転移温度より高く、素子を作製する温度領域が単結晶材料の相転移温度より低い場合に、使用温度領域において単結晶材料が発現する結晶構造と同一の結晶構造を発現した状態で、単結晶材料の表面の研磨を行う。単結晶材料を固定する治具と単結晶材料を研磨する研磨盤を固定する治具の少なくとも一方の温度を調整し、単結晶材料を使用温度領域に設定する。 （もっと読む）

【課題】常に均一な濃度の砥粒を加工材料の加工部位に供給することで加工速度の低下を抑制することができる超音波加工装置を提供する。
【解決手段】加工材料５８の上面に砥粒液６０を供給する砥粒供給手段６２と、工具４６と加工材料５８との相対位置を保った状態で工具４６と加工材料５８を傾斜させる傾斜手段２０を有し、その傾斜手段２０により工具４６と加工材料５８を傾斜させた状態で加工材料５８を加工する。 （もっと読む）

【課題】付加加工を行わず、除去加工のみでロープ溝の成形を行い、ロープを外すことなくロープ溝の加工及び修正加工を短時間で実施することができる溝車のロープ溝加工装置及びロープ溝加工方法を提供する。
【解決手段】溝車１のロープ溝内で研削砥石１１を回転させてロープ溝を加工する加工装置と、前記加工装置を前記溝車の半径方向に移動し得るように支持する半径方向可動器３４と、前記研削砥石の温度を測定する温度測定装置２０と、前記温度測定装置の測定値から温度勾配を算出する温度勾配演算器２３と、前記加工装置の研削負荷を測定する負荷測定装置２２と、前記研削砥石の温度及び前記温度勾配並びに前記研削負荷にもとづいて前記加工装置の切り込み量を設定する演算装置２５とを備えた構成。 （もっと読む）

【課題】錆の発生が抑制され耐候性に優れた研磨仕上げフェライト系ステンレス鋼管を安価に提供する。
【解決手段】フェライト系ステンレス鋼管５に粗研磨とその後の仕上げ研磨を施して研磨仕上げ鋼管を製造する際に、仕上げ研磨工具７を過ぎた直後での素鋼材の表面温度を１１０℃以下に維持した状態で仕上げ研磨を施す。
素鋼材表面温度の１１０℃以下での維持は、研磨工具の使用段数の調整で行うことができる。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性貼付剤の熱的な特性に起因する光学素子の歪みを生じることなく、熱可塑性貼付剤を介して光学素子を貼付皿に保持させる。
【解決手段】熱可塑性貼付剤１２を介してレンズ１０が貼付された貼付皿２２を冷却ブロック４０に載置して冷却を行う冷却ユニット４において、冷却ブロック４０を駆動する冷却ブロック駆動部４２を制御する温度コントローラ４３は、温度制御テーブル４６に格納された熱可塑性貼付剤１２の温度特性に応じた冷却パターンに基づいて急冷と徐冷を適切に組み合わせた温度制御を行う冷却温度制御プログラム４５を実行することで、冷却所要時間を短縮しつつ、レンズ１０に接する熱可塑性貼付剤１２の冷却時における歪みを抑止し、熱可塑性貼付剤１２を介して貼付皿２２に貼付されるレンズ１０の歪みを防止する。 （もっと読む）

【課題】被研磨テープを替えることなく、ウェハ端面の表面粗さが抑制される研磨方法および研磨装置を提供する。
【解決手段】フィルム基材４１の表面に設けられた接着層４２に砥粒４３が固定された研磨テープ４０を用い、ウェハＷの端面側に研磨液を供給した状態で、ウェハＷの端面を研磨する研磨方法において、接着層４２のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも低い処理温度で、ウェハＷの端面を研磨する第１研磨工程と、接着層４２のＴｇ以上の処理温度で、ウェハの端面Ｗを研磨する第２研磨工程とを有することを特徴とする研磨方法およびこの研磨方法に用いる研磨装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の端面研磨において、研磨レートを安定させるとともに、回転ブラシの長寿命化を図り、かつガラス基板主表面への研磨剤等の付着を効果的に防止することのできる磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法を提案することを目的としている。
【解決手段】円盤状のガラス基板１を積層して円柱を構成し、該ガラス基板１の端面に回転ブラシ２を接触させ、研磨液１５を供給しながらガラス基板１と回転ブラシ２を各々平行な軸心で同方向に回転させてガラス基板１の端面の研磨を行う工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、研磨液温度制御手段３３を備え、研磨液１５の温度を調節しながら研磨を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 恒温空調環境等を必要とすることなく、また雰囲気温度に応じた加工補正を必要とすることなく、低コストで高精度なボールねじ軸の加工を行う。
【解決手段】 ボールねじ軸の加工装置１０において、制御部は、ワーク加工機２０に設けられた温度計測センサによる計測値Ｔ_１℃に基づいて、温度調節機４０の循環液の温度を所定の範囲内に制御することにより、恒温槽３０の温度をＴ_２℃に管理する。恒温槽３０は、ワーク加工機２０による加工前のワークＷを所定時間浸漬されることにより、ワーク温度Ｔ_３℃を恒温槽３０の温度Ｔ_２℃と等しくなるように調整させる。ワーク加工機２０は、恒温槽３０により温度調整されたワークＷに、ボール溝加工を行う。 （もっと読む）