【課題】バイオマス中に含まれる有用成分を劣化させることなく高品質で且つ高い回収率で回収することが可能であるマイクロ波を利用した抽出装置を提供すること。
【解決手段】処理対象物が収容されるタンクと、マイクロ波を発生するマイクロ波発生装置と、前記マイクロ波発生装置により発生したマイクロ波を前記タンク内に導く導波管と、前記マイクロ波による加熱により前記タンクから蒸発した前記処理対象物中の成分を凝縮するコンデンサと、前記コンデンサにより凝縮された液体を回収する回収器とを備えており、前記タンクは、前記導波管の接続部にマイクロ波を透過するマイクロ波透過材を備えており、前記マイクロ波透過材は、前記タンクの内面から外面に向かうにつれて大径となる円錐台形状をなしていることを特徴とするマイクロ波を利用した抽出装置である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、加減圧容器を使用した電子レンジを提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、加圧及び減圧の両方が可能な容器を使用し、加圧の時には常圧より高くすることにより短時間に温度を高くし、調理物の栄養分及び旨み成分の減少の低下を図ると共に、内圧を高く維持できるので減圧時の減圧保持区間の温度を減圧のみの容器に対して上げることにより減圧のみによる調理の欠点であった加熱不足による生煮えや調理時間の短縮を図った。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波を用いて、効率よく、焼成体を得られる発熱体装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波吸収率が低い被焼成体を加熱する為に、マイクロ波加熱装置内の被焼成体の周りに設置する発熱体において、発熱体が被焼成体、発熱体若しくはセンサの温度変化に応じて移動する発熱体移動機構を有することを特徴とする発熱体装置である。更に、発生装置に４００℃以下の低温域で該発熱体がマイクロ波を効率よく吸収するピーク波長を含むマイクロ波発生器と、６００〜１４００℃の高温域で該被焼成体がマイクロ波を効率よく吸収するピーク波長を含むマイクロ波発生器とを備える。 （もっと読む）

【課題】被処理体の表面の材料に影響を受けることなく面内の温度の均一性を維持したまま高速で昇降温させることが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗに対して所定の熱処理を施すようにした熱処理装置において、前記被処理体を収容する処理容器４と、前記被処理体を載置する載置台２８と、前記処理容器内を真空引きする真空排気系２４と、前記被処理体に対して加熱用の電磁波を照射する電磁波供給手段５６と、前記被処理体に対してプラズマが立たないような高真空の圧力下、又は電磁波照射エネルギー密度を落とした状態で前記電磁波を照射するように制御する制御手段７８とを備える。これにより、被処理体の表面の材料に影響を受けることなく面内の温度の均一性を維持したまま高速で昇降温させる。 （もっと読む）

【課題】 マグネトロンと負荷室とを連結させるマイクロ波立体回路の構成を単純化し、マイクロ波電力を利用した加熱装置やプラズマ発生装置の生産コストを下げること。
【解決手段】 マグネトロン２１と負荷室としての減圧室２６とを連結するマイクロ波立体回路を導波管２２で形成すると共に、この導波管２２には、マイクロ波電力を減圧室２６に放射する２次アンテナ２５と負荷インピ−ダンスを調節する金属スタブ３１とを設け、前記マグネトロン２１を定格又は定格未満の動作条件で動作可能とした構成となっている。 （もっと読む）

【課題】 容易に製作でき、しかも電源コードが熱の影響を受けにくい、新規な流体加熱装置を提供する。
【解決手段】 円筒形状を有する石英ガラス製の内筒部１ａ及び外筒部１ｂと有し、前記内筒部と外筒部の間の空間が密閉空間１ｄとされた石英ガラス製のガス導入管１と、前記密閉空間１ｄに収容された被加熱部材２と、前記被加熱部材２に対して、マイクロウェーブを照射するマグネトロン１１と、前記ガス導入管１の外周囲を覆い、前記マグネトロンから照射されたマイクロウェーブの拡散を抑制する遮蔽部材１２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】粉体又は液体を連続的に熱処理することが可能な粉体又は液体の連続熱処理方法を提供する。
【解決手段】マイクロ波発生装置２を備える加熱チャンバー１に粉体又は液体を連続的に供給し、該加熱チャンバー１中で前記粉体又は液体にマイクロ波照射を行い、該粉体又は液体を連続的に熱処理する。前記粉体又は液体に照射するマイクロ波の周波数としては、28GHzが好ましい。また、前記粉体を前記加熱チャンバーに連続的に供給するためには、可動コンベアを用いることが好ましく、該可動コンベアにはマイクロ波吸収体を用いることが更に好ましい。 （もっと読む）

【課題】 高温領域まで昇温可能であると共に、プロセスチャンバー内へのマイクロ波の漏洩を抑止し得る半導体基板用マイクロ波加熱セラミックスヒータの提供。
【解決手段】 マイクロ波Ｍを導く直線状のストレート部１ａ、及びストレート部の端部に連設された円形皿状を呈し、マイクロ波を照射する出口部１ｂからなり、プロセスチャンバーの底部に出口部が挿着される導波管１と、導波管の出口部内に設けられ、マイクロ波を均一に照射するためのアンテナ４と、導波管の出口部の開口端に載置される円板状を呈し、上面に半導体基板を載置するセラミックスプレート６と、セラミックスプレート１にその周面及び上面に近接して埋設され、マイクロ波を反射、吸収する金属メッシュ７とを備える。 （もっと読む）