【課題】ＰＴＣ抵抗発熱体を用いながら長手方向により均一な温度分布を有するヒータを実現する。
【解決手段】セラミック製の長尺状基板１１上に形成された電極１２，１３からそれぞれ基板１１の長手方向に配線パタン１４，１５を形成する。配線パタン１４，１５にはそれぞれ基板１１の長手方向に沿ってＰＴＣ抵抗発熱体１６，１７の一端を接続する。発熱抵抗体１６の他端は配線パタン１４，１５同材料で同時に形成された基板１１の長手方向に延びる配線パタン１８に接続する。発熱抵抗体１７の他端は配線パタン１４，１５同材料で同時に形成された基板１１の長手方向に延びる配線パタン１９に接続する。配線パタン１８，１９は電極１２，１３から離れた位置の結合部２０で電気的に接続する。これにより、抵抗発熱体１６，１７の特定箇所に異常があっても幅が大きいことから発熱への影響を極力抑え、均一な温度分布を得ることが可能となる。 （もっと読む）

広範な用途に用いることができる制御された抵抗率の電気加熱要素は、導電性の合成多孔質カーボンモノリスから形成される。 （もっと読む）

腐食的な製造環境での製作中に、半導体ウェハーを加熱するための改良された加熱システム（１０）が開示されている。前記システム（１０）は、新規なセラミックヒータ（１２）を備えており、前記セラミックヒータ（１２）は、該セラミックヒータ（１２）のセラミック基板（１６）内部に完全に直接埋め込まれている多数の加熱素子（４４）と温度センサ配置（３８）を有している層状のセラミック基板（１６）から作成されている。前記複数の加熱素子（４４）と温度センサ配置（３８）は、前記セラミックヒータ（１２）の作動効率を改良する低い温度抵抗係数を備えているモリブデンと窒化アルミニウムの複合物から構成されている。作動時に、前記温度センサ配置（３８）は、前記半導体ウェハーの全表面に渡って一定で一様な温度分布を供給するような方法で前記加熱素子（４４）を制御すること可能であるマイクロプロセッサー（１４）に温度示度を伝達する。 （もっと読む）

【課題】十分な強度と耐候性、耐久性を有し、穏やかに発熱する保温・加熱用ヒーターを提供する。
【解決手段】本発明のセラミックカーボンヒーターは、発熱体層の上面と下面に絶縁層を有し、該発熱体層が石英閃緑袴岩５０〜８５重量％、カーボン１０〜３０重量％及び粘土５〜１５重量％からなる組成を有し、導電性を有することを特徴としている。これを製造するには、上記組成を有する混合粉末に、適量の水を加えて顆粒状に造粒し、これを所望の形状に加圧成形した後、可燃性カーボンを酸化させることなく１，　１００〜１，３００℃で焼成すればよい。 （もっと読む）

【課題】設置スペースを要することなく、壁に掛けて用いることができ、装飾と兼用して使用できる面状発熱装置を提供する。
【解決手段】周縁部に枠体１１が取付けられた金属板から成る放熱パネル１０の背面側に両面が絶縁フィルム２１、２２によって絶縁されたグラファイトシート１６から成る面状発熱体１５を取付け、電極１９、２０を通してグラファイトシート１６に通電することによって発熱させ、放熱パネル１０によって熱を放熱する。 （もっと読む）