【課題】面内の塗布ムラだけではなく、液滴ライン間の塗布ムラが発生し難い有機デバイスの製造装置を提供する。
【解決手段】有機デバイスの製造装置１００は、（ａ）塗布対象基板１０５に有機層を形成するインクを吐出するインクジェットヘッド１０１と、（ｂ）塗布対象基板１０５が設置される場所に懸かる平板部１０３を有し、インクジェットヘッド１０１が入る開口部１０４が平板部１０３に形成された蓋１０２とを備え、（ｃ）複数の走査領域に分けて塗布対象基板１０５に有機層を形成する場合において、インクジェットヘッド１０１が開口部１０４に入って各走査領域の走査開始地点から走査終了地点までインクを吐出している間、直前にインクを吐出した走査領域と、インクを吐出している走査領域とに平板部１０３が懸かっている。 （もっと読む）

【課題】輝度斑を低減することができる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板２と、陽極１１、陽極１１よりも電気抵抗の小さい陰極７及び陽極１１と陰極７との間に形成された有機発光層６とを含み、基板２上に形成された発光部と、基板２上に形成され、陽極１１と接続される陽極端子１２と、基板２上に形成され、陰極７と接続される陰極端子１６とを備えている。外部と接続される陽極端子１２の面を陽極接続面１２ａとし、外部と接続される陰極端子１６の面を陰極接続面１６ａとする。陰極接続面１６ａの面積Ｓ２よりも陽極接続面１２ａの面積Ｓ１の方が大きい。 （もっと読む）

【課題】駆動用トランジスタの閾値補正を行った有機発光素子を用いた表示装置において、移動度ばらつきによる表示ムラが発生する。
【解決手段】駆動用トランジスタの閾値補正を行った後、ドレイン電流を駆動用トランジスタ１１ａに入力し、ドレイン電流により、駆動用トランジスタのゲート電圧を変化させる。ドレイン電流が多いほど、ゲート電圧の上昇が多くなり、ドレイン電流の減少幅が大きくなることで、同一信号電圧入力に対するドレイン電流のばらつきを小さくすることができ、移動度ばらつきがあっても表示ムラが小さくなる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、支持基板上に形成した補助配線を大気と異なる雰囲気中でも確実に検査することができる有機ＥＬ装置、並びにその製造方法および製造装置を提供すること。
【解決手段】トップエミッションタイプの有機ＥＬ装置１００において、支持基板１１０ｄでは、第２電極層１７１と接する複数本の補助配線１７２が一方向に延在しているため、第２電極層１７１の電気的抵抗のばらつきを補助配線１７２によって解消することができる。また、補助配線１７２の両端の各々には、補助配線１７２の幅寸法よりも幅広の補助配線用端子１７２ａが電気的接続されているため、大気と異なる雰囲気とされたチャンバなどの内部で補助配線用端子１７２ａに検査端子を接触させて補助配線１７２の検査を行なうことできる。 （もっと読む）

【課題】半導体薄膜の結晶化アニール工程の短縮化を図りながらも、オン電流が均一な薄膜トランジスタを得ることが可能で、これにより薄膜トランジスタに接続された発光素子の輝度ムラが防止された表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上の各画素ａに形成される薄膜トランジスタＴｒ２のソースＳ／ドレインＤのレイアウトが、第１画素列Ａ１と第２画素列Ａ２とで画素ａの配列方向に反転するように、基板１上にゲート電極１４ｂを形成する。これを覆う状態で基板１上にゲート絶縁膜３１および非晶質の半導体薄膜３２をこの順に成膜する。画素列方向においてドレインＤ側からソースＳ側に向かう走査方向ｖ（−ｖ）となるようにレーザ光Ｌｈを走査させながら、ゲート電極１４ｂ上方における半導体薄膜３２に対してレーザ光Ｌｈを照射して半導体薄膜３２を結晶化させる。 （もっと読む）

【課題】補助配線層を形成する場合でも、隣接する画素で挟まれた領域の幅を広げる必要のない有機ＥＬ装置を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置１００において、第２電極層８３の下層側には第２電極層８３に対して接触する補助配線層８４が形成されている。補助配線層８４は、アルミニウムよりも導電率が高い銀層あるいは銀合金層からなり、略完全な透光性を発揮するほど、薄い膜厚で形成されている。従って、補助配線層８４については、複数の画素１００ａの各々において有機ＥＬ素子８０に平面視で少なくとも一部が重なるようにストライプ状に形成しても出射光量が低下することがない。 （もっと読む）

【課題】表示ムラを改善するＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】ＥＬ表示装置に入力される映像データを前記画素の色で重み付け処理して、点灯率を求める。また、表示する最大階調数を求める。求めた点灯率に基づいて、１フレーム期間における前記ＥＬ素子に電流を流す時間を求め、前記表示画面に帯状の非表示領域を発生させ、もしくは、表示する最大階調数を規定する。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出法で形成する機能膜の膜厚ムラをより少なくし、これによって表示性能を向上した有機エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法、及び電子機器とを提供する。
【解決手段】隔壁１４の開口部１４ａ内に、第１電極１１と少なくとも有機発光層を含む機能層と第２電極とが設けられ、機能層のうちの少なくとも一層が液滴吐出法で形成されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子である。開口部の開口形状が、長軸Ｘと短軸Ｙとを有してなる長円状に形成されている。隔壁１４の、開口部１４ａにおける短軸Ｙ方向に沿う第１隔壁部１４１の高さａが、開口部１４ａにおける長軸Ｘ方向に沿う第２隔壁部１４２の高さｂより高く形成されている。 （もっと読む）

【課題】補正データを効率的に得る。
【解決手段】パネル上の所定数の画素のＴＦＴのゲート電圧対ドレイン電流特性（Ｖｇｓ‐Ｉｄ特性）を測定し、平均的な画素の特性をＩｄ＝（ａ（Ｖｇｓ−ｂ））^ｃというべき乗の関数で近似する（Ｓ１〜Ｓ３）。次に、全画素を測定し、各画素に固有なａ‘とｂ’とを用いて各々Ｉｄ＝（ａ‘（Ｖｇｓ−ｂ’））^ｃというべき乗の関数で近似する（Ｓ４，Ｓ５）。もとめたａ，ｂ，ｃ，ａ‘，ｂ’より、各画素の補正データを演算する。 （もっと読む）

【課題】水及び溶剤を含まないので、有機ＥＬ表示装置にダメージを与えることなく、光散乱層を効率よく形成することができる光散乱層転写材料、及び該光散乱層転写材料を用いた、光取り出し効率に優れ、輝度ムラの少ない有機ＥＬ表示装置の提供。
【解決手段】正極と負極との間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ表示装置における前記負極上に光散乱層を形成するための光散乱層転写材料であって、仮支持体と、該仮支持体上に少なくとも光散乱層を有し、前記光散乱層が、少なくとも透光性樹脂及び光散乱粒子を含有し、前記光散乱粒子の平均粒径が、５０ｎｍ〜３００ｎｍである光散乱層転写材料である。該仮支持体と発光層の間に、光熱変換層を有する態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】光の取り出しを向上させつつ、輝度斑を低減することができる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板２と、基板２上に形成され、光を透過可能な第１透明電極３と、第１透明電極３上に形成された有機発光層６と、有機発光層６に上に形成され、有機発光層６が形成されている領域に開口部７ａが形成された陰極７と、陰極７の上方に間隔を開けて配置されるとともに、有機発光層６の外側で第１透明電極３と接続された導電性の給電部材８と、陰極７と非接触の状態で開口部７ａに挿通されて、第１透明電極３及び給電部材８と接続された凸状接続部材９とを備えている。 （もっと読む）

【課題】出力バッファにおいて生じる電圧降下の変動を抑制して、クロストークを軽減する。
【解決手段】マトリック状に配列された画素回路６００の各行に対応する出力バッファ３００は、ｐ型トランジスタ３０３およびｎ型トランジスタ３０４が直列に接続されたＣＭＯＳインバータである。この出力バッファ３００は、ｐ型トランジスタ３０３と出力ノード３０９との間に電位補償回路３２０を備える。この出力バッファ３００には、発光期間において発光素子６０４に供給される駆動電流が流れるため、ｐ型トランジスタ３０３および電位補償回路３２０の電気抵抗によって電圧降下が起こる。この場合、電位補償回路３２０は、その駆動電流の大きさに応じて、電位補償回路３２０自身の電気抵抗の大きさを変えて、出力ノード３０９の電位変動を抑制する。これにより、各行の出力電位の差が緩和され、クロストークが軽減される。 （もっと読む）

【課題】均一な膜厚の機能層を有し、したがってムラがなく高品質な表示が可能な有機ＥＬ装置を提供することにある。
【解決手段】開口部を形成した隔壁の開口部１４ａと平面視で重なる領域内に、第１電極１１と有機発光層１７を含む機能層１５と第２電極１８とからなる発光素子を有し、機能層１５のうちの少なくとも一層が液滴吐出法で形成された有機エレクトロルミネッセンス装置である。開口部１４ａの開口形状が長円状又は楕円状に形成され、隔壁には、開口部１４ａの隅部における開口縁部に、開口部１４ａに向かって下る傾斜部２７ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】チャネル領域を微結晶化するトランジスタを有する装置において、周辺金属に影響を及ぼさないようにしつつ、トランジスタの特性を十分に確保できるようにすること。
【解決手段】本発明は、複数の画素部３０を備える表示領域１０と、表示領域１０の画素部３０に対応して設けられ、複数の駆動トランジスタ３１ａが表示領域１０の表示面に沿って並列に配置されてなる駆動部３１とを有する表示装置１である。また、駆動トランジスタ３１ａのチャネル領域を形成するにあたり、複数の駆動トランジスタ３１ａの並列となる方向に沿って固体レーザ光を走査して照射する表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機ＥＬパネルの横方向に伝播する光を正面側に取り出せるようにして、タイリングしたパネルの境界の非発光部を目立たせなくさせることを可能にする。
【解決手段】基板１１上に複数の有機エレクトロルミネッセンスパネル２０が平面配置され、前記各有機エレクトロルミネッセンスパネル２０の即周囲に前記有機エレクトロルミネッセンスパネル２０から前記基板１１表面に沿う方向に発光される光を前記有機エレクトロルミネッセンスパネル２０の表面発光方向に反射する反射体３１を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に検査手段を備えたアクティブマトリクス型の表示装置を提供する。
【解決手段】表示を行うための画素アレイ部１と、その検査を行うための検査部７とが、基板上に配されている。各画素２は、少なくとも駆動トランジスタＴｒｄと発光素子ＥＬとを含んでいる。駆動トランジスタＴｒｄは、映像信号に応じて駆動電流を出力し、発光素子ＥＬは、駆動電流に応じて発光する。検査部７は、画素２の各行又は各列に対応して配された複数の検査トランジスタＴｒｔを備えている。検査トランジスタＴｒｔは、対応する行又は列の画素２に含まれる駆動トランジスタＴｒｄと同じ特性を有する。検査トランジスタＴｒｔの特性を測定して、対応する駆動トランジスタＴｒｄの特性を検査する。 （もっと読む）

【課題】良好な表示性能を確保しつつ、よりコンパクト化された表示素子を提供する。
【解決手段】有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂは、基体１１に設けられた平坦化絶縁層１２の凹部１２１に、第１電極層１３、下部有機層１４、上部有機層１５および第２電極１６が順に設けられたものである。第１電極層１３、下部有機層１４、上部有機層１５は、いずれも凹部１２１に収容されているので、凹凸がなく平坦化された上面を有する絶縁層の上に電極層が設けられた従来の構造と比べ、より薄型化される。また、凹部１２１の底面１２１Ｌは平坦面であるので、良好な表示性能を確保することができる。さらに、平坦化絶縁層１２における凹部１２１を取り囲む凸部１２３が発光領域を規定する開口規定絶縁層として機能するので、構造上の簡素化を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を使用する表示装置において、電源供給線の電圧降下に起因するシェーディングやクロストークを抑制する。
【解決手段】各画素回路Ｐは、駆動トランジスタ１２１のドレインを引出し配線１２１DLを介して電源供給線１０５DSL に接続する。同一発光輝度条件下では、各駆動トランジスタ１２１のドレイン電位が同一となるように、引出し配線１２１DLの長さおよび幅の少なくとも一方を電源供給線１０５DSL の長手方向に沿って調整されたレイアウトにする。たとえば、駆動走査部１０５側では、細くかつ長くして高抵抗にし、遠ざかるほど、太くかつ短くすることで低抵抗にする。 （もっと読む）

【課題】光の取り出しを向上させつつ、輝度斑を低減することができる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、基板２と、基板２上に形成され、光を透過可能な第１透明電極３と、第１透明電極３上に形成された有機発光層６と、有機発光層６上に形成された陰極７と、有機発光層６が形成された領域の第１透明電極３上に立設され、上面が陰極７よりも上方に位置する円管状に形成された絶縁性の陰極隔壁８と、陰極の上方に間隔を開けて配置されるとともに、有機発光層６の外側で第１透明電極３と接続された導電性スペーサ１０ａ及び封止板１２と、陰極隔壁８の内周側に配置され、導電性スペーサ１０ａ及び封止板１２と第１透明電極３とを接続する導電性スペーサ１０ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】電源ラインにおける電圧降下の影響を低減する。
【解決手段】スイッチ２８により、ゲートラインＧａｔｅで選択された水平ラインの属するグループの水平電源ライン２４を電源ＰＶＤＤｂに接続する。一方、ゲートラインＧａｔｅで選択された水平ラインを含まないグループの水平電源ライン２４はＰＶＤＤｂとは異なる電源ＰＶＤＤａに接続する。 （もっと読む）