【課題】本発明は、大きな基板に対しても大型化することを小さく抑えつつ、かつ、精度よくレーザ光を照射できる転写装置を提供する。
【解決手段】転写装置１０は、チャンバ２０と、ドナー１１と基板１２とが固定されてチャンバ２０内に収容される固定台３０と、レーザ照射装置５０と、固定台３０を移動し、チャンバ２０内でのドナー１１と基板１２との位置決めを行う移動機構４０とを備える。チャンバ２０は、内側にドナー１１と基板１２と固定台３０とを収容するともに固定台３０の移動方向に枠によって仕切られてレーザ光が通る複数の開口２７〜２９を有する本体２５と、開口２７〜２９を気密に覆うレーザ光が透過可能なガラス板２６とを備える。 （もっと読む）

【課題】発光装置の高精細化（画素数の増大）及び小型化に伴う各表示画素ピッチの微細化を進めることが可能な発光装置の作製方法および成膜用基板を提供する。また、発光装置の作製において、製造に要する時間を短くし、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面にレンズアレイが設けられ、対向する他方の面に光吸収層が設けられた支持基板上に、光吸収層に接する材料層を形成し、支持基板の材料層が形成された面と、被成膜基板の被成膜面とを対向させ、支持基板のレンズアレイが設けられた面側から光を光吸収層の少なくとも一部に選択的に照射して、光を照射された領域の光吸収層と重なる領域に位置する材料層を加熱して、被成膜基板の被成膜面に成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】有機分子を劣化させることなく、かつ転写残りがなく効率的に生産でき、高精細で所定の膜厚を有し、良好なパターニングが可能な、色変換基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】所定波長のレーザー光を透過する支持基板（１１）上に光熱変換層（１２）を形成する工程（１）と、該光熱変換層（１２）が形成された支持基板（１１）上に色変換機能を有する材料を含む色変換層（１３）を形成して転写ドナー基板（１０）とする工程（２）と、前記転写ドナー基板（１０）の色変換層（１３）側に、前記転写ドナー基板（１０）と平行に、かつ離間させて透明支持体（２０）を配置する工程（３）と、前記転写ドナー基板（１０）の前記支持基板（１１）側からレーザー光を照射し、前記色変換機能を有する材料を前記透明支持体（２０）の所定位置に転写させて色変換層（１３Ａ）のパターンを形成する工程（４）とを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができ、転写中に材料等の劣化が起きにくい方法を用いることにより、高精細で発光特性が高く、長寿命である発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】屈折率の異なる膜（高屈折率膜、低屈折率膜）が積層された機能層を有する蒸着用基板である第１の基板に、第１の光（波長＝λ_１）を照射することにより、第１の基板上の材料層をパターン形成し、次に下記式（１）を満たす第２の光（波長＝λ_２）を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させる。λ_２＞１．４λ_１、λ_２＜０．８λ_１かつλ_２≠λ_１／（２ｎ＋１）（但し、ｎは自然数）（１） （もっと読む）

【課題】均一な膜を成膜することを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する成膜方法において、式（１）または式（２）を満たす条件で成膜する。


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【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができる蒸着用基板を用いることにより、蒸着材料の利用効率を高めるだけでなく、蒸着パターンを形成する上での精度を高めることができる発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着用基板である第１の基板に、マスク基板である第２の基板を介して第１の光（レーザ光）を照射することにより、第１の基板上の材料層をパターン形成する蒸着用基板の作製方法である。また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第１の基板に第２の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】材料と被成膜基板との間にマスクを設けることなく、被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜用基板、及び成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高繊細な発光装置を生産性よく作製することを課題の一とする。
【解決手段】第１の領域及び第２の領域を含む透光性基板と、第１の領域において、透光性基板上に透光性の第１の断熱層と、第１の断熱層上に光吸収層と、光吸収層上に第１の有機化合物材料を含む層と、第２の領域において、透光性基板上に反射層と、反射層上に第２の断熱層と、第２の断熱層上に第２の有機化合物材料を含む層とを有し、第２の断熱層の端部は反射層の端部より内側に位置し、第１の断熱層と第２の断熱層とは間隔を有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】予め、第１の基板上の光吸収層と重なる位置にポンプ圧層により材料層を選択的に形成する。この第１の基板と被成膜基板となる第２の基板とを対向して配置し、光吸収層に光の照射を行って加熱し、第２の基板に成膜を行う。光吸収層は全面に設けてもよいし、部分的に設けてもよい。光吸収層が部分的に設けた所望のパターン形状であれば、光が照射された光吸収層のパターン形状を反映した成膜パターンが後に表示パネルの一部となる基板に成膜される。 （もっと読む）

【課題】材料層が形成された基板と転写対象の基板の間の真空度を高く保ちつつ、ムラのないレーザ照射による転写を可能とする技術を提供することを課題とする。
【解決手段】透光性を有し、光吸収層と、発光性材料を有する材料層を第１の面上に有する第１の基板と、第２の基板を対向させ、前記対向させた第１及び第２の基板のうち、第２の基板を真空治具の内部空間に設置し、前記真空治具の内部空間を減圧状態にし、前記第１の基板の第１の面と反対の側の面である第２の面からレーザビームを照射することにより、前記レーザビームが照射された領域の材料層が、第２の基板に転写される成膜方法及びそれを用いた発光素子の作製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができ、転写中に材料等の劣化が起きにくい方法を用いることにより、高精細で発光特性が高く、長寿命である発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の光を照射することにより、蒸着用基板である第１の基板上の材料層をパターン形成し、第２の光を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることができる発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】装置基板側のレイアウトや材質に制限を加えずに簡便な手順で補助電極上の有機層を除去できる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】下部電極５と補助電極５ａとを絶縁性を保って基板１上にパターン形成し、この上部に有機層１３，１５ｂ，１７を成膜する。孔パターン２３ａが設けられた光熱変換層２３とこの上部の膜厚調整層（有機転写層）１９と備えた転写基板３０を用意し、膜厚調整層１９と電子輸送層（有機層）１７とを対向させると共に孔パターン２ａと補助電極５ａとを対向させて転写基板３０と基板１とを重ね合わせる。転写基板３０側から光熱変換層２３にレーザ光Ｌｈを照射し、光熱変換層２３上の膜厚調整層１９を下部電極５上に熱転写して膜厚調整層（有機転写パターン）を形成する。また、補助電極５ａにレーザ光Ｌｈを照射し、補助電極５ａ上の有機層を除去する。 （もっと読む）

【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にすることを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、金属窒化物を含む光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）

【課題】水及び溶剤を含まないので、有機ＥＬ表示装置にダメージを与えることなく、光散乱層を効率よく形成することができる光散乱層転写材料、及び該光散乱層転写材料を用いた、光取り出し効率に優れ、輝度ムラの少ない有機ＥＬ表示装置の提供。
【解決手段】正極と負極との間に少なくとも発光層を有する有機ＥＬ表示装置における前記負極上に光散乱層を形成するための光散乱層転写材料であって、仮支持体と、該仮支持体上に少なくとも光散乱層を有し、前記光散乱層が、少なくとも透光性樹脂及び光散乱粒子を含有し、前記光散乱粒子の平均粒径が、５０ｎｍ〜３００ｎｍである光散乱層転写材料である。該仮支持体と発光層の間に、光熱変換層を有する態様が好ましい。 （もっと読む）

【課題】材料の無駄を減らし利用効率を向上させ、かつ被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を低コストで作製することを課題の一とする。
【解決手段】基板上に光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板に、基板を透過させて光吸収層に光を照射することによって、選択的に材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。光吸収層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、光吸収層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、基板及び光吸収層上に、有機化合物材料を含む粉体を散布し、加熱処理によって固定させて行う。 （もっと読む）

【課題】基板上に異なる複数の材料層を積層する際、スループットを向上しつつ、円滑に材料層の所望のパターン形状を得る成膜方法および発光装置の作製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】予め、第１の基板上の光吸収層と重なる位置に液滴吐出法により材料層を選択的に形成する。この第１の基板と被成膜基板となる第２の基板とを対向して配置し、光吸収層にレーザ光の照射を行って加熱し、第２の基板に成膜を行う。光吸収層が所望のパターン形状であれば、レーザ光が照射された光吸収層のパターン形状を反映した成膜が第２の基板に行われる。第２の基板には光吸収層のパターン形状とほぼ同じ材料層のパターン形状が得られる。 （もっと読む）

【課題】有機機能層を簡易にパターン形成できると共に、その膜厚の均一性を実現できる有機ＥＬ素子の製造方法および装置を提供することを課題とする。
【解決手段】有機化合物を含む発光層を有する積層体である有機ＥＬ素子の製造方法であって、有機機能層となる有機材料が含まれるインクを、インクジェット装置により平板印刷版面にパターン塗布する塗布工程（Ｓ−１１）と、前記平板印刷版上に塗布されたインクの溶媒を除去し、インクの粘度を調整する粘度調整工程（Ｓ−１２）と、前記平板印刷版面上の粘度調整されたインクを転写体に転写する第１の転写工程（Ｓ−１３）と、前記転写体に転写されたインクを基板に転写する第２の転写工程（Ｓ−１４）とを含む。 （もっと読む）

【課題】発光装置の作製において、製造に要する時間（タクトタイム）を短くし、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】透光性支持基板の一方の面に、光吸収層と光吸収層上に湿式法を用いて形成した第１の材料層とを有する第１の成膜用基板と、第１の電極を有する素子基板とを用い、素子基板の第１の電極が形成された面と、第１の成膜用基板の第１の材料層が形成された面とを対向して配置し、第１の成膜用基板の透光性支持基板側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層に接している材料層を加熱し、材料層の少なくとも一部を第２の基板の第１の電極上に成膜する工程を有し、第１の成膜用基板を他の材料層が形成された第２の成膜用基板と交換し、工程を繰り返すことで、少なくとも第１の電極上に、複数の層を形成して発光装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】電極の間に有機物層とパターン状絶縁層とが形成されている有機ＥＬ素子の製造方法において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に有機物層に対する悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極３と発光層５を含む有機物層１３が形成された陽極基板１１と、陰極７が形成された陰極基板８とを準備して、上記陽極基板１１の有機物層１３の表面に、絶縁層転写フィルムの転写層を転写してパターン状絶縁層６を設け、このパターン状絶縁層６が形成された陽極基板１１と上記陰極基板１２とを貼り合わせて有機ＥＬ素子１を製造した。 （もっと読む）

【課題】絶縁層が所定のパターンに形成された有機ＥＬ素子において、絶縁層のパターニングが容易であり、絶縁層を形成する際に発光層等の有機物層に対して悪影響を与える虞がない有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】陽極３と転写により形成されたパターン状絶縁層と発光層５を含む有機物層１３とが形成され、有機物層１３が表面に形成されている陽極基板１１と、陰極７が形成された陰極基板１２とを準備して、上記陽極基板１１の有機物層１３と陰極７が界面となるように陽極基板１１と陰極基板１２を貼り合わせて有機ＥＬ素子１とした。 （もっと読む）

【課題】材料と被成膜基板との間にマスクを設けることなく、被成膜基板に微細なパターンの薄膜を形成する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、このような成膜方法を用いて発光素子を形成し、高精細な発光装置を作製することを課題の一とする。
【解決手段】反射層、光吸収層及び材料層が形成された成膜用基板を透過して、光吸収層にレーザ光を照射することによって材料層に含まれる材料を、対向して配置された被成膜基板へ成膜する。反射層を選択的に形成することによって、被成膜基板に成膜される膜は、反射層のパターンを反映した微細なパターンで選択的に成膜することができる。材料層の形成は、湿式法を用いて行う。 （もっと読む）