【課題】プラスチック基板を用いたフレキシブル表示装置を実現する。
【解決手段】半導体層、ゲート絶縁膜１０４、ゲート電極、層間絶縁膜１０６、ドレイン電極、ソース電極、無機パッシベーション膜１０９、有機パッシベーション膜１１０を含むＴＦＴ層をガラス基板上に形成し、ＴＦＴ層およびエッチング停止層１０１を、接着材１１を介してプラスチック基板１０上に転写する。ＴＦＴ基板の周辺における微小クラックによってＴＦＴ基板自体が破壊することを防止するために、第１補強金属層１２１、および、第２補強金属層１２２をＴＦＴ基板周辺に所定の幅ｗおよび膜厚で形成する。 （もっと読む）

【課題】混合層を被成膜基板上に均一な濃度になるように成膜することを課題とする。
【解決手段】第１の基板の第１の面上に、光吸収層と、昇華温度の異なる２種類以上のホスト及びゲスト材料を含む材料層と、前記材料層より昇華温度の高い材料のキャップ層を形成し、第２の基板の第１の面を、前記第１の基板の第１の面と対向させ、前記第１の基板の第１の面と反対の面である第２の面から光を照射し、前記材料層を昇華させることにより、前記第２の基板の第１の面上に、前記２種類以上のホスト及びゲスト材料が混合された混合層を成膜する成膜用基板、成膜方法、及び、前記成膜方法を利用した発光装置の作製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置において、画素定義膜からのアウトガス量を減少させて、有機膜の劣化を防止する。
【解決手段】画素定義膜からのアウトガス量を減少させて、前記アウトガスによる発光部の劣化を防ぐことができるように前記画素定義膜上に少なくとも一つのバリア層を形成して、またレーザ熱転写法を用いた後工程をし易いようにするために厚さが十分薄い画素定義膜を備えるエレクトロルミネッセンスディスプレイ装置のために、基板と、前記基板上に備えられた複数の画素電極と、前記画素電極上に位置しながら前記各画素電極の所定部分を露出する開口部を備える画素定義膜と、前記画素定義膜の上部及び／または内部に位置する少なくとも一つのバリア層とを備えることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】転写層の所望の範囲を精度よく転写することが可能なドナー基板およびこれを用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ドナー基板４０は、基体４１上に、光吸収層４２，断熱層４３，凸構造４４および汚染防止層４５を順に有している。汚染防止層４５は、凸構造４４の上面の第１部分４５Ａと、断熱層４３の上面の第２部分４５Ｂとを有しており、第１部分４５Ａと第２部分４５Ｂとが分断されている。汚染防止層４５を介した熱拡散が大幅に低減され、転写層５０の非所望の範囲が転写されてしまうおそれが小さくなり、所望の範囲が精度よく転写される。凸構造４４は逆テーパの断面形状を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】長寿命で高輝度な有機電界発光素子を提供すること。
【解決手段】一対の電極間に有機層が狭持された有機電界発光素子基板上に特定の波長を有する光源から発せられた光をそれよりも長波長の光へと波長変換する色変換層が形成されてなり、前記有機層は、少なくとも発光層を含む発光ユニットが複数個積層され、当該各発光ユニット間に電荷発生能を備える中間層が狭持されてなり、前記色変換層は、ホスト材料と、緑色発光性または赤色発光性である燐光発光性のオルトメタル化錯体とを含有する。 （もっと読む）

【課題】真空装置を用いることなく、容易に被転写基板に密着させ、ドナー基板と被転写基板との間の内部空間を減圧することが可能なドナー基板およびこれを用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ドナー基板４０の基体４１に、被転写基板１１Ａとの対向面から反対側の面まで貫通孔４５を設ける。ドナー基板４０および被転写基板１１Ａを重ね合わせて、ステージ６０に載置する。吸着孔６２および内部通路６３を介して排気することにより、凹部６１内が減圧され、ドナー基板４０がステージ６０に吸着される。これと同時に、貫通孔４５を介して、ドナー基板４０と被転写基板１１Ａとの間の内部空間Ｓが減圧される。大気圧下で容易に内部空間Ｓを減圧してドナー基板４０と被転写基板１１Ａとを容易に密着させることが可能となり、被転写基板１１Ａを大型化した場合に極めて有利である。 （もっと読む）

【課題】機能膜の厚みのばらつきが抑えられる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】電気光学装置（としての有機ＥＬ装置１１）は、素子基板上に設けられた発光素子と、発光素子を区画すると共に高さが異なる第１領域６２ａと第２領域６２ｂとを有する隔壁６２と、を備え、発光素子を構成する少なくとも１つの膜が液体プロセスを用いて形成され、第１領域６２ａと第２領域６２ｂとのうち高さの高い領域に、第１領域６２ａと第２領域６２ｂとの撥液性を相対的に異ならせるラミネートフィルム６９が転写されている。 （もっと読む）

【課題】真空中でドナー基板と被転写基板とを容易に分離することが可能な表示装置の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】ドナー基板４０および被転写基板１１Ａを重ね合わせた状態で、ドナー基板４０の裏面の辺４０Ａ近傍に本体５１の曲面５１Ａの一端を当接させる。ドナー基板４０の裏面の上で本体５１を矢印Ｒ１方向に回動させることによりドナー基板４０の裏面を曲面５１Ａに巻きつけると共に、静電チャック５２により曲面５１Ａに密着させる。これにより、ドナー基板４０は、辺４０Ａから曲面に変形されると共に被転写基板１１Ａから剥離される。ドナー基板４０と被転写基板１１Ａとの剥離位置４０Ｃは、変形を開始した辺４０Ａから対辺４０Ｄに向かって移動する。剥離位置４０Ｃが対辺４０Ｄに到達すると、完全にドナー基板４０が被転写基板１１Ａから剥離される。 （もっと読む）

【課題】光電変換効率、発光効率などの光−電気変換特性に優れかつ、光−電気変換特性の安定性に優れる有機エレクトロニクス素子およびその製造方法を提供することにあり、特にフレキシブル基板に好適に用いることができ、光電変換効率、発光効率などの光−電気変換特性に優れかつ、光−電気変換特性の安定性に優れる有機エレクトロニクス素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明支持体11上に第一の電極12を有し、該第一の電極上に有機層を有し、該有機層上に第二の電極14を有する有機エレクトロニクス素子10であって、該第一の電極は透明導電層と、ネット状であり、その開口部が不規則なパターンを有する形状である補助電極とを有することを特徴とする有機エレクトロニクス素子。 （もっと読む）

【課題】粒子が規則正しく配列した粒子配列構造体を容易に製造する方法の提供。
【解決手段】溶媒と、前記溶媒に溶解し得る重合性化合物と、前記溶媒に溶解し得ない粒子を含む分散液を調製し、その分散液を基板上へにスピンコートにより塗布して、分散液相中で前記粒子を配列させ、次いで重合性化合物を硬化させて粒子配列構造体を形成させる。 （もっと読む）

【課題】大型かつ高精度な微細パターニングが可能であり、かつ、ドナー基板の劣化及びデバイス基板のデバイス性能の悪化が防止されるパターニング方法を提供すること。
【解決手段】支持体と、支持体上に形成された光熱変換層と、該光熱変換層に積層して形成された区画パターンと、該区画パターンにより区画された２種類以上の転写材料からなる転写材料層と、を備えるドナー基板をデバイス基板と対向配置し、前記２種類以上の転写材料をドナー基板からデバイス基板に転写するパターニング方法であって、前記２種類以上の転写材料のうち特定の転写材料の位置で光をオーバーラップさせるように光熱変換層に支持体側から光を照射して２種類以上の転写材料を一括して転写することを特徴とするパターニング方法。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とするパターニング方法、および、かかるパターニング方法を使用するデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に光熱変換層と転写材料が形成されたドナー基板をデバイス基板と対向配置し、光を光熱変換層に照射することで転写材料をデバイス基板に転写するパターニング方法であって、照射領域において照射される光の強度を経時的に非対称に変化させることを特徴とするパターニング方法。 （もっと読む）

【課題】ドナー基板の全面に共通層の材料となる有機物層を均一に形成し、かつ、転写された基板上では、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）それぞれの共通層となる転写層の膜厚を異ならせる成膜方法を提供すること課題とする。
【解決手段】第１の基板上に、第１の吸収層と第１の反射層を有する第１のマスク層と第２の吸収層と第２の反射層を有する第２のマスク層を形成し、さらに有機物層を形成し、有機物層と第２の基板の被成膜面が対向させ、第１の基板の有機物層を形成した面と反対側から光照射して、第１及び第２の吸収層の上の有機物層を昇華させ、第２の基板上に第１のマスク層に対応する第１の画素に第１の転写層及び第２のマスク層に対応する第２の画素に第２の転写層を成膜し、第１及び第２の転写層の膜厚は第１及び第２の吸収層の面積比に応じて異なる成膜方法及びそれを用いた発光装置の作製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】発光層または電極層を含む転写層を熱的な影響を受けることなく簡単な構成で、かつ高精度にガラス基板上に転写することができる有機ＥＬパネルの製造に用いる転写装置を提供する。
【解決手段】転写装置１００は、有機ＥＬパネルを構成する陰電極層３１と有機ＥＬ層３２とから構成される転写層３０が一時的に形成された担持体２０を保持する担持体保持部１０３と、同担持体２０に対向した状態で有機ＥＬパネルを構成するガラス基板１０を保持する基板保持部１０２と、互いに対向配置された担持体２０およびガラス基板１０に向けてパルスレーザ光を照射するレーザ光源１０４とを備えている。担持体２０における転写層３０が形成される形成面２１には、複数の微細な凹凸形状からなる溝状の周期構造２２が形成されている。この周期構造２２は、担持体２０の形成面２１上にフェムト秒レーザ光を照射することによって形成される。 （もっと読む）

【課題】有機材料を光加熱して転写させてＥＬ層を形成する方法において、一様に転写されないことを課題とする。
【解決手段】弾性基板の第１面に金属層を形成し、第１面と対向する第２面に有機材料層を形成し、弾性基板の第２面と被成膜基板を空隙をもって配置し、弾性基板の第１面側から金属層を局所的に急速加熱し、金属膜の膨張によって弾性基板を変形させ、有機材料層を弾性基板から被成膜基板に転写する成膜方法、並びに、第１の電極を形成し、弾性基板の第１面に金属層を形成し、第１面と対向する第２面に有機材料層を形成し、弾性基板の第２面と、第１の電極を空隙をもって対向配置し、弾性基板の第１面側から金属層を局所的に急速加熱し、金属膜の膨張によって弾性基板を変形させ、有機材料層を弾性基板から第１の電極に転写し、転写された有機材料層上に、第２の電極を形成する発光装置の作製方法に関する。 （もっと読む）

【課題】光による成膜において、膜を所望の形状にすることができる成膜用基板を提供する。
【解決手段】成膜用基板に光を照射する光源（レーザ）と、成膜用基板に設けられた反射層や光吸収層等との間に配置された反射防止膜を設けた成膜用基板を作製する。また、この反射防止膜を設けた成膜用基板を用いて、光照射による成膜を行い発光装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】光による加熱成膜法により正確なパターンで、かつ良質な膜を成膜し、高繊細な発光装置を生産性よく作製できる技術を提供することを課題の一とする。
【解決手段】光による加熱成膜法において、光吸収層への光照射工程を、光照射時間を０．１ミリ秒以上１ミリ秒未満（より好ましくは０．２ミリ秒以上０．５ミリ秒未満）とし、かつ光源から光吸収層に向かって照射されるエネルギー密度を２×１０^３Ｗ／ｃｍ^２以上２×１０^５Ｗ／ｃｍ^２以下（より好ましくは２×１０^３Ｗ／ｃｍ^２以上１×１０^５Ｗ／ｃｍ^２以下）とする。さらに、成膜する材料層（有機化合物材料を含む層）が設けられた成膜用基板と、対向して配置される被成膜基板とを、材料層表面と被成膜面との間隔ｄを０＜ｄ≦１０μｍ（より好ましくは０＜ｄ≦５μｍ）とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】熱転写法を適用して発光層を形成した場合であっても、安定した発光特性の有機電界発光素子を得ることが可能な転写用基板、および表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】熱転写用の支持基板３と、この支持基板３上に設けられた転写層５とを備えた転写用基板１である。転写層５は、ホスト材料と発光性のドーパント材料とで構成されており、これらの各材料は昇華温度の差が所定範囲内に設定された材料が選択してもちいられている。 （もっと読む）

【課題】コストを抑えた状態で、立体視画像を表示することができる画像表示装置を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬパネル２００は、第１の画像と第２の画像に基づいて立体視画像を表示する画像表示装置であって、偏光発光を行う複数の有機ＥＬ素子と、複数の有機ＥＬ素子の偏光発光を利用して、第１の画像および第２の画像を形成する後面基板２１０とを有する。また、複数の有機ＥＬ素子は、第１の画像の形成に用いられる複数の第１の有機ＥＬ素子２２０と、第２の画像の形成に用いられる複数の第２の有機ＥＬ素子２３０とを含み、後面基板２１０は、複数の第１の有機ＥＬ素子２２０および複数の第２の有機ＥＬ素子２３０を面状に配置し、複数の第１の有機ＥＬ素子２２０の偏光軸が平行であり、かつ、複数の第２の有機ＥＬ素子２３０の偏光軸が平行である。 （もっと読む）

【課題】平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成されたソース電極及びドレイン電極と、ソース／ドレイン電極とコンタクトされる半導体層と、基板上に形成されたゲートと、ソース／ドレイン電極とゲートとの間に形成され、開口部を備える絶縁膜と、絶縁膜の開口部によって一部分が露出される画素電極と、を備える平板表示装置である。絶縁膜は、ゲート絶縁膜と画素電極とを限定する画素定義膜として作用する。 （もっと読む）