【課題】同軸状電極内に発生する面状放電（電流シート）の密度を高め、かつ同軸状電極内の周方向に均一な面状放電を生成することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】１対の同軸状電極１０の中心電極１２とガイド電極１４との間に、中心電極とガイド電極間の浮遊容量Ｃｓより大きい静電容量Ｃ２を有する補助コンデンサ１８をそれぞれ備え、補助コンデンサ１８により中心電極とガイド電極間の電圧を放電電圧より短い周期で変動させて、擬似的に高周波の面状放電２を発生させる。 （もっと読む）

【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めた場合でも熱負荷によるダメージを抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源システムを提供する。
【解決手段】内部が真空排気される真空チャンバー２１内で、中心軸７を中心とする円周上に設置された複数の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、各発光点１ａにおけるプラズマ光８を中心軸７上に位置する集光点９に向けて反射するミラー回転体４０と、ミラー回転体４０を中心軸７まわりに回転駆動する回転駆動装置４８と、ミラー回転体４０の内部を冷却する冷却装置５０とを備える。 （もっと読む）

本発明は電極システムに関し、特にEUV光及び/又は軟X線を発生させるためのガス放電デバイスの電極システムに関する。電極システムは、主要構成要素としてMo若しくはW、又はMo若しくはWの合金を含む電極材から形成された少なくとも二つの電極1、同2を有する。当該電極材は、500 nm以下の平均サイズをもつ微粒子をもつ微細粒構造を有する。提案された電極システムがあると、大きな熱-機械抵抗と、大きな熱-化学抵抗とをもつ電極が実現される。これゆえ、液体Snを使用し且つ高温で作動する周知のEUV光源において当該電極システムを使うことができる。
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【課題】所望の放射の透過率を改善するスペクトル純度フィルタを提供する。
【解決手段】特に投影ビームとしてＥＵＶ放射を用いるリソグラフィ装置で用いるスペクトル純度フィルタは、基板に複数のアパーチャを含む。このアパーチャは、側面を有する壁により画定されている。側面は、基板の前面の法線に対して傾斜している。 （もっと読む）

本発明は、電気的に動作された放電によって、光学放射、特にＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する方法及び装置に関する。プラズマ１５が、少なくとも２つの電極１、２間のガス媒体内で点火され、前記ガス媒体は、少なくとも部分的に液体材料６から生成され、液体材料６は、前記放電空間内で移動する１つ又は幾つかの表面に塗布されると共に、１つ又は複数のパルスエネルギービームによって少なくとも部分的に蒸発される。提案される方法及び装置において、少なくとも２つの連続的なパルス９、１８が、前記表面上への各放電の時間間隔内に供給される。この手段によって、収集可能変換効率は、各放電内の１つのみの単一のエネルギパルスの使用と比較して増大される。
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【課題】励起用の炭酸ガスレーザを除去して極端紫外光（ＥＵＶ）の出力効率が高いＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置は、ターゲット物質を真空室内に供給するターゲット供給装置５と、レーザ導入口３４から入射したＣＯ_２レーザ光をターゲット物質４に照射させてＥＵＶ光を含む放射光線１０を放出させる励起レーザ集光光学系と、放射光線を中間集光点（ＩＦ）に集光するＥＵＶ集光光学系と、放射光線からＥＵＶ光を選択して外部機器に供給するスペクトル純化フィルタ（ＳＰＦ）６と、ガスを噴出するスリットノズル４３とこれに対向してガスを吸引するガスシンク４７を備えて放射光線の光路中にガスカーテンを形成するガスカーテン装置４５と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成によって、充填容器から安全かつ効率よく供給するとともに、簡便な処理と優れた操作性を有する水素化スズの供給方法および供給装置を提供すること。
【解決手段】 水素化スズが充填された所定容器１、所定容器１から水素化スズガスの供給を受けるプロセス装置２と、プロセス装置２と所定容器１を接続する配管部３と、配管部３に設けられた圧力調整器Ｒ・圧力検出器Ｐ１〜Ｐ３・マスフローコントローラＭのいずれかまたはそのいくつかと、配管部３にパージガスを供給するパージガス供給装置５と、パージガス供給装置５からのパージガス流路６ａ〜６ｃおよび配管部３との接続部を有するパージガス配管部６と、前記各部の動作を制御管理する制御部４からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置において、ドロップレットの位置安定性を向上させることにより、放射されるＥＵＶ光の強度を安定化する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質を内部に格納するターゲットタンク、及び、ターゲット物質をジェット状に噴射する噴射ノズルを含み、ターゲット物質をチャンバ内に供給するターゲット供給部と、ターゲットタンクとの間に直流電圧が印加され、噴射ノズルから噴射されるジェット状のターゲット物質がドロップレットに分断される際にドロップレットを帯電させる帯電電極と、ターゲット物質のドロップレットにレーザ光を照射することによってプラズマを生成するレーザと、プラズマから放射される極端紫外光を集光して射出するコレクタミラーとを具備する。 （もっと読む）

放射源は、極端紫外線放射を生成するように構成および配置される。前記放射源は、チャンバと、前記チャンバ内に少なくとも部分的に含まれる第１電極と、前記チャンバ内に少なくとも部分的に含まれる第２電極と、前記チャンバに放電ガスを提供するように構成および配置された供給部と、を備える。前記第１電極および前記第２電極は、前記極端紫外線放射を生成するようにプラズマを形成するために、前記放電ガス中に放電を生成するように構成される。前記放射源は、前記放電付近の位置に約１Ｐａ〜約１０Ｐａの分圧でガスを提供するように構成および配置されたガス供給部も備える。前記ガスは、水素、ヘリウム、および水素とヘリウムとの混合物から成る群から選択される。
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本発明は、高圧電気接続線１１に関し、とりわけ、ガス放電源１０を高圧電源９に電気的に接続するための高圧電気接続線１１に関する。前記接続線は、電気絶縁層１で隔てられる２つの導電板２のスタックから形成される。前記導電板２の材料より高い電気抵抗率を持つ材料から成る導電層８が、前記絶縁層１と前記導電板２との間に配設される。提案接続線は、高圧電源とパルス放電ランプとを接続するために用いられる場合により長い寿命を提供する。
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【課題】
レーザー光のコントラストを改善し、適切なターゲット条件を選ぶことにより、高速電子発生を抑制し、高輝度でコヒーレント、高コントラストのＸ線を発生させる装置及び方法。
【解決手段】
真空ポンプを備えた真空槽内に、パルス圧縮器、集光ミラー、ガス供給装置、偏向磁石及びレーザー阻止Ｘ線透過窓を設け、真空槽を真空ポンプにより真空に保ち、この真空槽内のパルス圧縮器に真空槽外部からレーザー光を導入してパルス圧縮器によりパルス幅をフェトム秒に圧縮した後、集光ミラーによりガス供給装置より発生させるガスジェットターゲットに集光させ、このターゲットの位置をレーザー進行方向に調整することにより高速電子の発生を伴わないＸ線発生に最適な地点でＸ線を発生させる、高速電子発生を伴わない、高強度でコヒーレント、高コントラストのＸ線を発生させる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光発生チャンバのウインドウの劣化によるＥＵＶ光の発生効率の低下を防止することが可能なＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、ドライバーレーザ１と、ＥＵＶ光発生チャンバ２と、ウインドウ６と、ＥＵＶ光集光ミラー８と、レーザ光を発散する凹レンズ４１と、発散されたレーザ光をコリメートする凸レンズ４２と、コリメートされたレーザ光を反射してターゲット物質に集光する放物凹面鏡４３と、放物凹面鏡４３の位置及び角度を調整する放物凹面鏡調整機構４４と、ウインドウ６及び放物凹面鏡４３を保護するためのパージガスを供給するパージガス供給部３１、３３と、パージガスをウインドウ６及び放物凹面鏡４３に導くためのパージガス導入路３３、３４と、ウインドウ６及び放物凹面鏡４３を囲むパージガスチャンバ５０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置のプラズマ発生室にターゲット物質を供給するターゲット物質供給装置において、ターゲット物質の温度を安定させる。
【解決手段】このターゲット物質供給装置は、外部から供給されるターゲット物質を冷却して液化するための液化室１０８と、液化室１０８において液化されたターゲット物質を噴出するためのノズル１０２と、液化室１０８内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１０９、冷却装置１１０、ヒータ１１１、温度センサ１１２、及び、温度制御部１１３と、ノズル１０２内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１１４、冷却装置１１５、ヒータ１１６、温度センサ１１７、及び、温度制御部１１８とを含む。 （もっと読む）

【課題】電極部の絶縁材表面への放電ガスに起因する金属の堆積を抑制し、安定した放電が得られるようにし、また高精度にＥＵＶ光を放出する高密度高温プラズマの位置とＥＵＶ集光鏡の位置との位置合わせ可能とすること。
【解決手段】ＳｎＨ₄ 等の放電ガスおよびデブリを発生せずまたＥＵＶ光の発生もしないガス（例えばＡｒ）を放電部１で衝突するように、主放電電極１２および主放電電極１１側から供給する。ＳｎＨ₄ のリッチな部分からはＳｎおよび／またはＳｎの化合物等が飛び出すが、反対側から供給されるＡｒガスにより絶縁材１３の方向に向かうのを押し戻される。このため、上記化合物等が絶縁材１３に付着堆積する量を減少させることができる。また、上記ガスの流量を調整することにより高密度高温プラズマにおいて波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射する領域の位置制御を高精度に行うことが可能となる。 （もっと読む）

本発明は、放電スペース内の蒸発した液体材料によって形成されるガス状媒体内で、ＥＵＶ放射線および／または軟Ｘ線を放出する放電プラズマ（８）が発生され、液体材料は、放電スペース内の表面に設けられており、エネルギービーム（９）によって少なくとも一部が蒸発されるようになっている、ＥＵＶおよび／または軟Ｘ線ランプの変換効率を高める方法に関する。本発明は、ＥＵＶ放射線および／または軟Ｘ線を発生するための対応する装置にも関する。この方法では、前記液体材料の化学元素よりも質量数が小さい化学元素から構成されたガス（１１）が、指向された状態で放電スペースへ、および／または放電スペースへの供給路上の液体材料へ、少なくとも１つのノズル（１０）を介して局所的に供給され、放電スペース内の蒸発した液体材料の密度を低下させる。本方法および対応する装置によりランプの変換効率が高められる。 （もっと読む）

【課題】ガスの状態でＥＵＶ放射種が供給されても安定してＥＵＶ光を放射することができる放電電極が回転移動する極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】ガス導入口１０からＥＵＶ放射種のキセノンガスが導入される。主放電電極１は、モータ４により回転しており、電子線発生装置５ａから出射した電子線は、主放電電極１に形成されている多数の貫通孔１ａを通過して、貫通孔２ａ内とその近傍に照射されキセノンガスを電離させる。高電圧印加回路５０から、両電極１，２に高電圧パルス電圧を印加すると、両電極１，２間に放電が発生し、貫通孔２ａには電子線により電離したキセノンによる高密度高温プラズマが発生し、このプラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。プラズマから放射されたＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光鏡３に入射して反射集光され、フィルタ６を介して、照射部に出射する。 （もっと読む）

【課題】デブリの運動エネルギーを低下させ、高密度高温プラズマから０°の角度で出射する不用な光は遮光するが、必要な光は遮光しない、また加工が容易で廉価な構造体を備えた極端紫外光光源装置を提供する。
【解決手段】容器１内に極端紫外光を放射する原料を供給する原料供給手段１０と、供給された原料を加熱・励起して極端紫外光を放射するプラズマを発生させる加熱・励起手段４，５，６と、上記プラズマから放射される極端紫外光を集光するように容器１内に配置された集光光学手段１３と、上記集光された極端紫外光を取り出す光出射部１４とを有する極端紫外光光源装置において、加熱・励起手段４，５，６と集光光学手段１３との間に、極端紫外光の光軸上に凹面部を有する部材１５を設け、該凹面部は上記プラズマに対向して設けられている。 （もっと読む）

【課題】プラズマの加熱状態を維持できる電流波形を発生することができる高電圧パルス発生部を備えた極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】高電圧パルス発生部２０の負荷Ｌとして極端紫外光光源装置の一対の主放電電極が接続される。固体スイッチＳＷをｏｎとし、磁気スイッチＳＲ２を介してコンデンサＣ２１、Ｃ２２、Ｃ２３を充電する。ついで磁気スイッチＳＲ３がＯＮとなりコンデンサＣ２１〜Ｃ２３の電荷はそれぞれコイルＬ１〜Ｌ３及び負荷を介して放電する。コイルＬ１〜Ｌ３とコンデンサＣ２１〜Ｃ２３の各直列回路のパラメータを異ならせておけば、負荷Ｌに流れる電流波形は変極点（折曲点）を有する波形となる。したがって、この変極点で電流を増大させ、プラズマがピンチされた状態で電流を増大させるようにすれば、プラズマの加熱状態を維持して、ＥＵＶ光の出力エネルギーを大きくすることができる。 （もっと読む）

本発明は、特にＥＵＶ放射及び／又は軟Ｘ線放射のためのガス放電源であって、該ガス放電源内の真空チャンバ内に、少なくともおおよそ円形の周縁を有する少なくとも２つの電極が、回転のために回転可能に取り付けられており、１つの空間位置において、前記電極が、ガス放電の点火のための小さい間隔を有しており、各場合において、回転の間、前記導電性材料の液体薄膜が、前記電極の円形周縁に渡って形成され、前記電極への電流の流れが、前記リザーバを介して可能にされるような仕方において、液体の前記導電性材料のためのリザーバに接続されている、ガス放電源に関する。当該ガス放電源において、前記電極は、各場合において、接続要素を介して前記リザーバに接続されており、これにより、間隙が、各電極の円形周縁の部分的なセクションに渡って、前記電極と前記接続要素との間に形成されることができると共に、前記間隙内に、前記のような液体の材料が、前記電極の回転の間に、前記接続要素内に形成された少なくとも１つの供給チャネルを介して前記リザーバから浸透することができる。
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【課題】プラズマ放射線源を提供する。
【解決手段】プラズマ放射線源の目的は、デブリに対する効果的な防御を確保することであり、特に副次的なスパッタリングを妨害することである。ターゲットノズルを用いて、ターゲット生成装置によって提供されるターゲット流およびパルス状の励起ビームによって生成されるプラズマは、光軸に対して横断方向に向けられるガス流によって真空室の中で包囲される。 （もっと読む）