【課題】干渉画像により濡れ広がった液滴形状の体積を計測し液滴塗布条件を把握することにより、最適な塗布条件を設定する方法と装置を提供する。
【解決手段】基板７上の塗布位置に対して設定された液滴量で塗布する液滴塗布手段と、前記液滴塗布手段によって塗布されている液滴状態をカメラ３により撮像する手段と、撮像した画像より液滴状態を検出する手段と、液滴塗布時の塗布時間、エアー圧、バキューム圧、電圧等を制御する塗布量コントロール手段と、この液滴塗布手段と撮像手段を移動させる手段を備えた液滴塗布装置において、液滴状態をカメラにより撮像する手段が、白色の干渉であり前記撮像画像の干渉色計測４を用いて、液滴高さ勾配の変化位置別に面積と高さデータより液滴の体積を求め、液滴の濡れ広がり状態、液適量、隣合う液滴の連結状態を監視し、常に塗布条件が一定となるように、前記液滴制御手段によってコントロールする。 （もっと読む）

【課題】原反ロールより繰り出され、搬送速度Ｖで走行するウェブＷの表面に第１の塗布手段により塗布液を塗布し、Ｌ１離れた位置にある第２の塗布手段によりウェブＷの裏面に塗布液を塗布し、Ｌ２離れた位置にある巻き心にウェブが巻き取られる生産形態における、製品ロールの交換時において、未塗布のウェブが新規の巻き心に巻き込まれるという問題を排除する。
【解決手段】原反ロールの繰り出し終了の際に、塗布手段による塗布を終了させ、終了後の原反ロールを新規の原反ロールに交換し、支持体を連続走行させながら第１の塗布手段による塗布を開始させ、Ｔ２経過後に第２の塗布手段による塗布を開始させ、Ｔ１経過後に製品ロールを新規の巻き心に交換し、Ｔ２≦Ｌ１／Ｖの際に、Ｔ１＞（Ｌ１＋Ｌ２）／Ｖとなるように調整し、Ｔ２＞Ｌ１／Ｖの際に、Ｔ１＞Ｔ２＋Ｌ２／Ｖとなるように調整する。 （もっと読む）

【課題】塗布される蛍光体の供給重量又はドット・サイズを精度良く調整する。
【解決手段】噴射システムは、プラズマ・パネル６６に対する相対運動のため取り付けられた噴射ディスペンサ７０を有する。制御装置は、噴射ディスペンサに、パネルのセルに塗布される蛍光体の液体粒子６４を噴射させるよう動作可能である。ドットの位置及びサイズを示すフィードバック信号が、制御装置に通信される。引き続き塗布される蛍光体のドットのサイズ、速度オフセット及び／又は位置が、フィードバック信号に応答して、加熱又は冷却し、又は噴射ディスペンサのピストンのストロークを調整することにより制御される。 （もっと読む）

【課題】長尺状の隙間から流体を吐出するノズルの当該隙間を短時間に安定して測定することができる隙間検査装置を提供する。
【解決手段】スリットノズル２を固定保持するとともに、超音波プローブ４０，５０をスリットノズル２の外側に所定間隔にて対向配置する。超音波プローブ４０から出射された超音波が平板２ａの内壁面によって反射された反射波ＲＳ２が超音波プローブ４０に到達するまでの時間から超音波プローブ４０と平板２ａの内壁面との間の距離が求められる。同様に、超音波プローブ５０から出射された超音波が平板２ｂの内壁面によって反射された反射波ＲＳ４が超音波プローブ５０に到達するまでの時間から超音波プローブ５０と平板２ｂの内壁面との間の距離が求められる。超音波プローブ４０と超音波プローブ５０との配置間隔からそれらを減算して隙間３の間隔を測定する。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板の厚さを短時間で効率的に測定すること。
【解決手段】 レジストノズル１２０に取り付けられている基板厚み測定部１５０は、内蔵の投光部からの光ビームＬＡを基板Ｇの非製品領域Ｇ_mに投光して、基板Ｇのおもて面と裏面からの反射光ＬＡ_a，ＬＡ_bを受光し、それぞれの受光位置間の距離間隔から基板Ｇの厚みを表す測定値を得る。この光学的な基板厚み測定を、レジストノズル１２０が所定量降下する度毎に実行し、複数個の測定値を得る。次いで、それら複数個の測定値から代表値（最大値、平均値等）を求める。 （もっと読む）

液体吐出バルブは、バルブ本体と、バルブシートと、液体出口を通る流れを制御すべくバルブシートに対して係合可能である、往復運動するバルブ部材を具備している。較正装置は、回転可能なストローク制御停止部材と、回転可能な基準リングとを具備している。基準リングと停止部材とは、当初には、ゼロ位置に回転しており、次に、停止部材を回転させて、所望のストローク長さに設定する。１又は複数の流体取付具が設けられ、クランプ板を用いてバルブ本体に対して密封される。

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本発明は、ダイナミックミキサ（１０）と、第１ペーストを収容する第１容器（１１）と、第１ペーストと混合される第２ペーストを収容する第２容器（１２）と、の組合せであって、ミキサ（１０）が、混合チャンバ（２０）と、混合ロータ（２５）と、第１ペーストのための入口開口（２１）と、第２ペーストのための入口開口（２２）と、第１ペーストのための入口開口（２１）から混合チャンバ（２０）まで延在する第１流路と、第１ペーストのための入口開口（２２）から混合チャンバ（２０）まで延在する第２流路と、を備え、第１容器（１１）が、第１ペーストのための出口開口（１４）を備えた出口ソケット（１３）と、出口ソケット（１３）を通して出口開口（１４）まで延在する第３流路と、を備え、出口ソケット（１３）が、第１容器（１１）から混合チャンバ（２０）まで延在する第１全体流路を形成するようにミキサ（１０）に接続され、第２容器（１２）が、第２ペーストのための出口開口（１６）を備えた出口ソケット（１５）と、出口ソケット（１５）を通して出口開口（１６）まで延在する第４流路と、を備え、出口ソケット（１５）が、第２容器（１２）から混合チャンバ（２０）まで延在する第２全体流路を形成するようにミキサ（１０）に接続され、第１全体流路が、１．８ｍｍ²を上回る最小断面積（Ａｏｃ）を有し、第２全体流路が、第１全体流路の最小断面積（Ａｏｃ）より大きい最小断面積（Ａｏｂ）を有する、組合せに関する。
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【課題】 本発明の目的は、幅方向の塗膜厚み分布の均一性を向上させたバックアップロールで保持された支持体に塗布するエクストルージョン型ダイヘッド、塗布装置及びそれを用いた塗布方法を提供することにある。
【解決手段】 バックアップロールで保持され連続搬送されている支持体に塗布液を塗布するエクストルージョン型ダイヘッドにおいて、塗布液吐出用スリットを構成する各ブロックのエッジ頂点部から反対側の底面部に至る距離のバラツキの巾（ΔＡ）が支持体に対し幅手方向（横方向）で１０μｍ未満であり、ダイヘッドのリップ形成部から反対側の底面部に至る距離が縦方向で最大値をとり、かつ該距離のバラツキの巾（ΔＢ）が幅手方向で１０μｍ未満であることを特徴とするエクストルージョン型ダイヘッド。 （もっと読む）