【課題】塗布された反転材の段差を小さくし、反転マスクプロセスにより所望のパターンを形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上の第１領域に第１パターンを形成する工程と、前記第１パターンを覆うように前記被加工膜上に感光性化合物を有する反転材膜を形成する工程と、前記反転材膜を露光及び現像し、前記被加工膜上の前記第１領域とは異なる第２領域において、前記反転材膜を第２パターンに加工する工程と、前記反転材膜を露光及び現像した後、前記第１パターンの上面が露出するように前記反転材膜をエッチバックし、前記第１領域において前記反転材膜を第３パターンに加工する工程と、前記第２パターン及び前記第３パターンをマスクとして前記被加工膜をエッチングする工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントに使用可能であり、且つレジスト現像性、エッチング耐性に優れる、ナノインプリント用硬化性組成物、及びこれを使用したレジスト膜を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用硬化性組成物は、シラノール基及び／又は加水分解性シリル基、並びに重合性二重結合を有するポリシロキサンセグメントと、該ポリシロキサン以外の重合体セグメントとを有する複合樹脂を含有する。


（式中、炭素原子は前記ビニル系重合体セグメントの一部分を構成し、酸素原子のみに結合したケイ素原子は、前記ポリシロキサンセグメントの一部分を構成するものとする） （もっと読む）

【課題】繰り返しモールドを押し付けてもレリーフパターンの形状が維持され、かつレリーフパターン表面が界面活性剤等の離型剤等で汚染されないナノインプリント用組成物が求められている。
【解決手段】炭素数１〜１００の有機基を有するフルオロシルセスキオキサンであるフッ素含有化合物（Ｃ）を含むナノインプリント用組成物、および、当該組成物を基板に塗布し加熱することによって塗膜を形成し、当該塗膜にモールドを押し当て、モールドに刻まれたパターンのネガ像が形成されたレリーフパターンを形成する、レリーフパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層を用いて、所望の解像度を示すレジストパターンを形成する際の必要露光量の低減。
【解決手段】α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるアルコール溶媒Ａと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含むレジスト現像剤。 （もっと読む）

【課題】一旦形成されたパターンを変化させることができる新規なパターンを有する構造体の製造方法及び装置、モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】
パターンを有する構造体の製造方法において、
弾性変形し得る被加工物を、第１の状態から面内方向に弾性変形させ、
変形状態の前記被加工物の表面上に、前記被加工物とは異なる材料を含み構成されるパターン部材を形成し、
前記パターン部材と前記被加工物との接触面積は維持したまま、前記被加工物を前記第１の状態に近づけ又は前記第１の状態に戻すようにする。
【選択図】 図８
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【課題】ナノリソグラフィステップを用いて機能ナノ粒子を形成する方法を提供すること。
【解決手段】機能ナノ粒子は、少なくとも１つのナノリソグラフィステップを使用して形成される。一実施例において、犠牲材料は、インプリントリソグラフィシステムを使用して多層基板上にパターン化される。このパターンは、この多層基板に更にエッチングされる。
機能材料は、次に、多層基板に蒸着され、凝固される。機能材料の少なくとも、一部は、次に、柱を晒すクラウン表面を提供するために除去される。
柱は、機能ナノ粒子を形成する多層基板から除去される。 （もっと読む）

【課題】工数の削減を図れるとともにコスト面で有利であり作業性を良好にすることができるプロテクタ構造及びプロテクタの製造方法を提供する。
【解決手段】 複数の電線３１を有するワイヤハーネス３０の外側に組み付けられるプロテクタ構造であって、熱可塑性樹脂により筒形状に形成されたプロテクタ母材の内側に電線３１が挿通されてから、プロテクタ母材の屈曲位置１４，１５が加熱され、加熱された屈曲位置１４，１５が折り曲げ成形されるプロテクタ構造及びプロテクタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】微細パターン形成体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板と表面に微細パターンを有するモールドとを組み合わせて、重合性モノマー、含フッ素ポリマー、および重合開始剤を含む硬化性組成物を、該基板表面と該モールドのパターン面との間に挟持させる工程、前記硬化性組成物中の重合性モノマーを重合させて該組成物を硬化物とする工程、モールドを硬化物から剥離して基板と一体の微細パターン形成体を得る微細パターン形成体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】円筒表面の凹凸を寸法精度よく容易に作製することができる金型ロールの製造方法、及びその方法を用いた加工対象のシートにバリを発生させず、凹凸を寸法精度よく形成することができる金型ロール、並びにその金型ロールを使用して作製される光学シートを提供する。
【解決手段】内周面に微細な凹凸が形成された円筒形状の原盤の内周面にめっき処理を施し、ついで前記原盤をはずして、外周表面に微細な凹凸を有するシームレスの円筒形状のめっき部分（金属円筒）３０をロール型母材ＭＲの外周に嵌め込みロール金型４０とする。 （もっと読む）

【課題】優れた制振、遮音性能を安価かつ単純な構成で得られる制振遮音シートおよびこれを容易に製造できる制振遮音シートの製造方法を提供する。
【解決手段】アスファルトとフィラーとを含有するアスファルト系混合物８を、対向配置された第１および第２のロール２３ａ、２３ｂの間を通過させて基材２に成形する際、第１のロール２３ａとして、表面に凹凸２４が形成されたものを用いるとともに、前記ロール２３ａ、２３ｂの表面と前記アスファルト系混合物８との間にシート状の表面材３ａ、３ｂを供給し、該表面材３ａ、３ｂを前記基材２の表面に積層接合して、前記基材２と前記表面材３ａ、３ｂとからなる制振遮音シート１を製造する。この際、第１のロール２３ａに供給される表面材３ａを、第２のロール２３ｂに供給される表面材３ｂよりも、低融点のものとすることが好ましい。 （もっと読む）