【課題】その表面の凹凸形状により高級感のある意匠性と、加工適性及び使用適性とを有する化粧シートを安価にかつ容易に製造できる製造方法、化粧シート及びこれを用いた化粧板を提供する。
【解決手段】硬化させた凹凸賦型層を有する賦型シートと、未硬化の樹脂組成物層を有する積層体Ｉとを、該凹凸賦型層と樹脂組成物層とが対面するようにラミネートさせた後、電離放射線を照射して未硬化の樹脂組成物層を硬化させて凹凸層を形成することを特徴とする化粧シートの製造方法、ならびに基材シートＢ、凹凸層、凹凸賦型層、凹凸付与層、及び基材シートＡを順に有し、凹凸付与層、凹凸賦型層及び凹凸層が所定の関係を有する化粧シートである。 （もっと読む）

【課題】賦型材表面の凹凸を転写することにより得られる凹凸模様と、金属光沢、着色、印刷図柄等を同時に、しかも鮮明に生産性よくプラスチック基材に付与した加飾成型材、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基材上に、プラスチックフイルムの片面に意匠層が形成された転写材、少なくとも片表面に凹凸を有する賦型材が順次載置された積層体を得る工程（Ａ）、加熱してプラスチック基材を溶融状態にする工程（Ｂ）、プラスチック基材が溶融状態である積層体を少なくとも賦型材側から加圧して、転写積層体を得る工程（Ｃ）、前記転写積層体を冷却後、転写材のプラスチックフイルム及び賦型材を剥離して、意匠層及び少なくともプラスチック基材の意匠層側表面に凹凸模様を形成する工程（Ｄ）からなること、及び一度使用された賦型材を再度使用しない。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、簡素な構成や工程で、前記被成型品での気泡の発生を防いだ転写をする。
【解決手段】シート状のモールドＭに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Ｗに転写するための転写装置１において、転写をするときに、被成型品Ｗと、被成型品Ｗと協働してシート状のモールドＭを挟み込んで押圧する押圧体５とが内部に位置する真空成型室１７であって、被成型品が設置される真空成型室１７と、押圧体５が位置する真空成型室とに、シート状のモールドＭによって仕切られる真空成型室１７を形成する真空成型室形成手段と、前記真空成型室を仕切るシート状のモールドに貫通孔を形成する貫通孔形成手段９と、前記真空成型室を減圧する減圧手段１１とを有する。 （もっと読む）

【課題】レーザー光の照射領域の樹脂成形品の表面とレーザー光を照射しない部分とで色目が異なる、意匠性に富んだレーザーエッチング品の製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー光照射によりレーザー光３が照射された領域が変色する樹脂成形品１の上に加飾層２が積層された加飾成形品６に対し、表面に加飾層２が積層された側から加飾成形品６の一部にレーザー光３を照射して、レーザー光３が照射された領域の加飾層２を除去し、さらにレーザー光３の照射を継続してその領域の樹脂成形品表面を変色させることにより変色部４を形成する。 （もっと読む）

【課題】 簡単で、費用効率の高いナノメータレンジの型押し具を提供する。
【解決手段】 型押し具（１）の型押し面（２）は、陽極酸化によって生じた開口中空チャンバ（４）を有する陽極酸化表面層又は被覆層（６）によって形成されており、中空チャンバ（４）は、１０〜５００ｎｍの平均直径（Ｄ）の開口面積を有し、且つ、不規則に配列されている。 （もっと読む）

開示されているのは、転写パターン材料をフィルムベース材料に形成して、転写フィルムを作製する工程と、転写パターン材料が基板と接触するように、転写パターンが形成される基板に転写フィルムを張り付ける工程と、フィルムベース材料を転写パターン材料から分離する工程と、ペーストを転写パターン凹部に適用する工程と、ペーストを固化する工程と、転写パターン材料を除去する工程とを含むペーストパターン形成方法である。
（もっと読む）

【課題】疎水性のプラスチックの表面を、超親水性にすることにより、防曇性防汚染性に優れプラスチック成型物を容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】フイルム基材に親水性シリカ膜を形成し、プラスチック表面に圧と熱とでシリカ膜を転写するか、上記フイルムを金型内面に箔送り装置で送り込み、プラスチックを射出成型しシリカ膜を転写することで、超親水性表面を有するプラスチック成型物が得られる。 （もっと読む）