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Fターム[4G001BB53]の内容

セラミック製品 (17,109) | 製品組成 (3,705) | 酸窒化物 (160) | (IVa〜VIa)ON (10)

Fターム[4G001BB53]に分類される特許

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【課題】 高密度および高強度を有し、窒化チタン系の膜を成膜可能なスパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 窒化チタン粉と酸化チタン粉とを焼結したスパッタリングターゲットであって、N:30〜43at%、O:9〜27at%を含有し、残部がTiおよび不可避不純物からなる成分組成を有し、O/Ti原子比が2未満の酸化チタンを含む焼結体からなり、該焼結体の密度が4.4g/cm以上である。また、このスパッタリングターゲットの製造方法は、窒化チタン粉と酸化チタン粉とを混合して混合粉末を作製する工程と、該混合粉末を真空中でホットプレスにて焼結する工程とを有し、前記酸化チタン粉の少なくとも一部をO/Ti原子比が2未満の酸化チタン粉とし、この酸化チタン粉を窒化チタン粉と混合する。 (もっと読む)


【課題】 固体電解コンデンサの小型化と大容量化との両立を図ることが可能なNb化合物の微粉末、多孔質焼結体、これを用いた固体電解コンデンサ、およびこれらの製造方法を提供すること。
【解決手段】 Nb化合物の微粉末であって、その組成が、NbxOyNz(x,zは0を超える正の数、yは0以上の正の数)で表され、その電気伝導度が、Nbの電気伝導度の1/10以上である。 (もっと読む)


【課題】相変化記録媒体の界面層膜の結晶化促進機能と光学的特性とを両立させた金属化合物膜の成膜等を可能にするスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、M(O1-xxz(MはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1種の元素、0.1≦x≦0.5、0.5≦z≦2.0(原子比))で表される組成を有する。このようなスパッタリングターゲットを用いて成膜した金属酸窒化膜は、相変化記録媒体1の界面層4、6等に使用される。 (もっと読む)


【課題】金属切削工具用途のためのサイアロン系セラミック材料に、優れた堅牢性を有する、金属の機械加工のために最適な組成物、好ましくは耐熱性スーパーアロイを提供する。
【解決手段】本発明は、β−サイアロン(Si6-zAlzzN),α−サイアロン、TiN,Ti(C,N)またはTiCを含む耐熱硬質相、粒間の非晶または部分的に結晶の相に基づき、かつイットリウムを含むセラミック材料に関する。β−サイアロン相はz値0.3〜0.8を有する。耐熱硬質相の量は10〜20質量%である。該材料は、耐熱性スーパーアロイ(HRSA)の機械加工のための切削工具挿入物として特に有用である。 (もっと読む)


【課題】毒性が少なく存在量の多い元素により構成され、耐熱性、化学的耐久性等に優れ、しかも高い熱電変換効率を有する新規なn型熱電変換材料を提供する。
【解決手段】一般式:Ti1−x(式中、Aは周期表における第4周期及び第5周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも一種の元素であり、0≦x≦0.5; 0.5≦y≦2;0.01≦z≦0.6である)で表される組成を有し、500℃以上において絶対値が30μV/K以上の熱起電力を有する金属酸窒化物熱電変換材料。
【効果】上記金属酸窒化物からなる新規なn型熱電変換材料、熱電変換素子及び熱電変換モジュールを提供することができる。 (もっと読む)


【課題】相変化記録媒体の界面層膜の成膜等に用いられるスパッタリングターゲットの製造方法において、均質で歩留まりの良いターゲットを得るための製造方法を提供する。
【解決手段】 Ti,ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1種のM元素の酸化物粉末とM元素の窒化物粉末を混合、成形した後、焼結する工程を具備することにより、スパッタリングターゲットは、M(O1-xxz(MはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1種の元素、0<x≦0.7、0.5≦z≦2.0(原子比))、または(M1-aCra)(O1-xxz(MはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1種の元素、0.1≦a≦0.5、0<x≦0.7、0.5≦z≦2.0(原子比))で表される組成を有する。 (もっと読む)


【課題】相変化記録媒体の界面層膜の成膜等に用いられるスパッタリングターゲットにおいて、結晶化促進機能と光学的特性とを両立させた金属化合物膜の成膜を可能にする。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、M(O1-xxz(MはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1種の元素、0<x≦0.7、0.5≦z≦2.0(原子比))、または(M1-aCra)(O1-xxz(MはTi、ZrおよびHfから選ばれる少なくとも1種の元素、0.1≦a≦0.5、0<x≦0.7、0.5≦z≦2.0(原子比))で表される組成を有する。このようなスパッタリングターゲットを用いて成膜した金属酸窒化膜は、相変化記録媒体1の界面層4、6等に使用される。 (もっと読む)


【課題】酸素濃度が1000ppm以下の非酸化性雰囲気であっても強度の著しい劣化や破損を防止することができるとともに、実使用できる寿命を大幅に向上させることができる非酸化性雰囲気用窯道具を提供する。
【解決手段】主成分としてSiCとSi34及び/又はSi22Oを含んで構成され、酸窒化珪素と酸化珪素以外の無機酸化物を0.12〜3.0質量%含有する非酸化性雰囲気用窯道具である。 (もっと読む)


【課題】 難削材料の高速切削加工においても、耐摩耗性に優れ、被削材が溶着し刃先の損傷を引き起こすことのない寿命の長いサイアロン製スローアウェイチップおよびこれを装着した切削工具の提供。
【解決手段】 αサイアロン相およびβサイアロン相からなるサイアロン相と、ガラス相および/または結晶相からなる粒界相とを持つサイアロン中の、Si6−ZAl8−Zで表されるβサイアロン相のZ値が0.2〜1であり、サイアロン相中のαサイアロン相の比率を示すα率が10〜40%であり、サイアロン中にはSc、Y、Dy、Yb、Luから選ばれる希土類元素1種以上を酸化物換算で合計2〜5モル%含有し、該希土類元素のうち30〜50モル%はαサイアロン相中に存在しているサイアロン製スローアウェイチップ、およびこのサイアロン製スローアウェイチップをホルダーに装着した切削工具。 (もっと読む)


【課題】 緻密かつ高剛性・高熱伝導率の窒化ケイ素焼結体とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 窒化ケイ素80〜99質量%と、粒界相がIVa族元素の窒化物のうち少なくとも1種の窒化物0.1〜5質量%、残部がMg、SiおよびIVa族元素の少なくとも1種を含む酸化物もしくは酸窒化物からなり、かつIVa族元素とMgのモル比が酸化物換算で1:1〜1:10の範囲内であり、密度が3.1g/cm3以上、ヤング率が300GPa以上かつ熱伝導率が50W/mK以上であることを特徴とする窒化ケイ素材料。 (もっと読む)


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