【課題】長期間にわたって連続的かつ安定的に運転することが可能なガス溶解水供給装置及びガス溶解水の製造方法を提供する。
【解決手段】脱気膜モジュール１０で脱気した後の脱気水を、気体溶解膜モジュール２０の液相室２２内に供給する。酸素（目的ガス）を、目的ガス供給源３１から気相室２３内に供給する。ここで、気相室２３に供給する酸素量が、液相室２２に供給する脱気水の供給水量から算出される飽和溶解量よりも多い酸素量となるようにする。気相室２３に供給した酸素のうち、前記の算出される飽和溶解量が脱気水に溶解し、飽和酸素水が得られる。酸素の残部が、余剰ガスとして気相室２３外に排出される。この余剰ガスと共に、気相室２３内の凝縮水が排出されるので、運転を停止して気相室２３内の凝縮水を排出する必要がなくなり、連続して効率よく飽和酸素水を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】供給圧力を幅広い範囲で調節自在とするとともに、その調節の際に、原料ガスと空気との混合比率を所定の範囲内に維持し得るようにする。
【解決手段】中圧調整器２、低圧ガバナ５、上下限圧遮断コントローラ１１、昇圧防止弁１２、開閉弁１３、開閉弁コントローラ１４、空気弁１５の各ダイヤフラム１６のバネ室１７に、ローディング用ガバナ２０を介して、コンプレッサ１８からの加圧空気を導入することによって、このバネ室１７側からの付勢力を高める。これによって、前記中圧調整器２からの原料ガスの出口圧力を高めつつ、前記空気弁１５を介しての空気の取り込み量を増やすことができるため、混合ガスの混合比率を所定範囲内に制御するとともに、混合ガスを一時的に貯蔵するクッションタンク４内のガス圧を高めることができる。このため、需要者の幅広い使用規模及び用途に対応してこのガス供給装置を適用することができる。 （もっと読む）

【課題】各ラインの流体を任意の比率で混合可能な安定制御できコンパクトで設置容易であり脈動流体でも制御できる流体混合装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも２つの供給ライン（１、２）に流れる各々の流体を任意の比率で混合させる流体混合装置であって、各々の該供給ライン（１、２）が、制御用流体の圧力操作により流体の圧力を制御する流体制御弁（４、６）と、流体の実流量を計測する流量計測器（３、５）とをそれぞれ具備する。各供給ライン（１、２）に開閉弁（１０、１３）を追加できる。また、絞り弁（２２、２６）を追加することもできる。また、最下流の合流部（７）直前に開閉弁（２８、２９）を配置することもできる。 （もっと読む）

【課題】各ラインの流体を任意の比率で混合させ、脈動した流体も流量制御することができ、コンパクトな構成で狭いスペースに設置可能であり、設置における配管及び配線接続が容易である流体混合装置の提供。
【解決手段】２つの供給ラインがそれぞれ第一、第二流体制御弁と、各ラインの実流量を計測し信号を出力する各流量計測器と、各流体制御弁を制御するための指令信号を出力する各制御部とを具備し、２つの供給ラインに流れる各々の流体を任意の比率で混合させる。第一流体制御弁は制御用流体の圧力操作により流体の圧力を制御し、第２流体制御弁は流路の開口面積を変化させて流体の流量を制御する。例えば、半導体製造用の洗浄液を得るためにフッ化水素酸または塩酸が１に対して純水が１０〜２００の比率で混合される。 （もっと読む）

【課題】主として各ラインの流体の流量を制御して流体を任意の比率で混合させると共に、脈動した流体が流れても問題なく流量制御でき、コンパクトな構成で狭いスペースに設置可能であり、設置における配管及び配線接続が容易である流体混合装置の提供。
【解決手段】供給ライン１，２の各々が、制御用流体の圧力操作により流体の圧力を制御する流体制御弁４、１０と、流体の実流量を計測し実流量の計測値を電気信号に変換し出力する流量計測器３、９と、実流量の計測値と設定流量値との偏差に基づき流体制御弁の開口面積を制御するための指令信号を流体制御弁または流体制御弁を操作する機器へ出力する制御部５、１１とをそれぞれ具備する。例えば、半導体製造用の洗浄液を得るためにフッ化水素酸または塩酸が１に対して純水が１０〜２００の比率で混合される。 （もっと読む）

【課題】各ラインの流体の流量を制御して任意の比率で混合させると共に、脈動した流体でも問題なく流量制御することができ、コンパクトな構成で狭いスペースに設置可能であり、設置における配管及び配線接続が容易な流体混合装置の提供。
【解決手段】各々の供給ライン１，２が、流路の開口面積を変化させて流体の流量を制御する流体制御弁４、１０と、流体の実流量を計測し実流量の計測値を電気信号に変換し出力する流量計測器３、９と、実流量の計測値と設定流量値との偏差に基づいて、流体制御弁の開口面積を制御するための指令信号を、流体制御弁または流体制御弁を操作する機器へ出力する制御部５、１１とをそれぞれ具備する。例えば、半導体製造用の洗浄液を得るためにフッ化水素酸または塩酸が１に対して純水が１０〜２００の比率で混合される。 （もっと読む）