【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）であり、高屈折率、低分散性をもち、高価なＴａ_２Ｏ_５、ＧｅＯ_２、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３を含まない安定性のある精密プレス成型用ガラスの提供。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．７４〜１．７６アッベ数（υｄ）４５〜４９．５の範囲の光学定数をもち、必須成分としてＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｌａ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏを含有し、通常、ガラスの安定化に作用するＴａ_２Ｏ_５、ＧｅＯ_２、ＺｒＯ_２を含まず、また環境に悪い影響のある鉛、砒素、フッ素も含まず、ガラス転移点Ｔｇが、５３０〜５９０℃である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】Ｂ_２Ｏ_３−Ｌａ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＷＯ_３−ＴｅＯ_２系ガラス組成物であって、耐失透性に優れると共に、非球面レンズ等に求められる光学恒数（屈折率、アッベ数等）を有し、かつ、低いガラス転移点を有する精密モールドプレス形成に適した光学ガラスを低コストで提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％で、Ｂ_２Ｏ_３成分を２５〜６０％、ＷＯ_３成分を１〜４０％、ＴｅＯ_２成分を０．２〜６０％含有することを特徴とする。さらには、Ｎｂ_２Ｏ_５成分含有量が５％、好ましくは１％未満であること、Ｇａ_２Ｏ_３成分の含有量が１％未満であることが好ましい。そして、屈折率（ｎｄ）が１．８０〜２．１０、アッベ数（νｄ）が１８〜４０の光学恒数を有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が６８０℃以下の光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】機能を発揮するために紫外域の光が必要な光触媒性材料に対する紫外線や近紫外線の照射が中断又は停止しても、光触媒性材料のもつ超親水性や酸化分解活性といった光触媒機能を持続することが可能な光触媒ガラス部材を提供すること。
【解決手段】機能を発揮するために紫外域の光が必要な光触媒層と、該光触媒層の下面に設けた蓄光材層とからなる光触媒ガラス部材。蓄光材層は、可視光の波長以下の光を透過するガラスに、紫外域に発光スペクトルの極大値がある光を発光する蛍光性粉末及び／又は蓄光性粉末を混合・分散してなる発光ガラスであり、光触媒層は、前記蓄光材層から発光される光により光励起される光触媒性材料からなる。 （もっと読む）

【課題】従来のビスマス系封着材よりも低温で溶融し、かつ温度を上げても安定しており結晶化せずに封着可能なビスマス系低融点ガラス組成物を提供する。
【解決手段】低融点ガラスの組成がモル％表示で、Ｂｉ_２Ｏ_３：３８〜４８％、Ｂ_２Ｏ_３：１６〜２７％、ＺｎＯ：２７〜３５％、ＣｕＯ＋ＣｏＯ：０．１〜６％であり、且つ、実質的にPbOとＳｉＯ_２を含まないことを特徴とするビスマス系低融点ガラス組成物である。 （もっと読む）

【課題】Ｂ_２Ｏ_３−ＴｅＯ_２−Ｌａ_２Ｏ_３系ガラス組成物であって、耐失透性に優れると共に、非球面レンズ等に求められる光学恒数（屈折率、アッベ数等）を有し、かつ、低いガラス転移点を有する精密モールドプレス成形に適した新規の光学ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準のモル％でＢ_２Ｏ_３を３０〜６０％、ＴｅＯ_２を０．２〜５０％、Ｌａ_２Ｏ_３含有することを特徴とする。さらには、ＷＯ_３及びＧａ_２Ｏ_３を酸化物基準のモル％で１％未満含有すること、Ｌａ_２Ｏ_３を酸化物基準のモル％で１〜３５％含有することを特徴とする。そして、屈折率（ｎｄ）が１．８０〜２．１０、アッベ数（νｄ）が１６〜３６の光学恒数を有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が６８０℃以下の光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】光学設計が容易であり、簡便な方法により目的の光学素子が得られる、紫外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属成分と紫外線吸収成分とをガラス構成成分として含むガラス基材に、リチウム化合物、カリウム化合物、ルビジウム化合物、セシウム化合物、銀化合物、銅化合物及びタリウム化合物からなる群から選択される少なくとも１種、有機樹脂並びに有機溶剤を含有するペーストを塗布し、前記ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする紫外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】電子部品をその特性の劣化を招来することなく気密に封止し、電子部品を長期間にわたり正常に作動させることができる電子部品収納用容器を提供すること。
【解決手段】上面に電子部品３を搭載するための絶縁基体１と、絶縁基体１の上面に封止材８を介して接合され、絶縁基体１との間の空間に電子部品３を気密に収容する蓋体２とから成る電子部品収納用容器４であって、封止材８は、酸化ビスマスを５０〜７０質量％、酸化ホウ素を２〜１５質量％、酸化銀を１０〜２０質量％、ヨウ化銀を５〜１５質量％および酸化バリウムを２〜１０質量％を含むガラス成分に、該ガラス成分を１００質量部としたときに、フィラーとしてコージェライトを１０〜４０質量部添加したものから成る。 （もっと読む）

【課題】軟化点が低く、誘電率が低く、AgやCu電極上の誘電体層に用いても黄変や気泡が生じにくく、優れた表示性能のディスプレイを作製することが可能な、ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、B₂O₃、R₂O、Bi₂O₃およびMoO₃を必須成分として含み、且つ、鉛（Pb）を実質的に含まない。Bi₂O₃およびMoO₃以外の組成成分の合計を100重量部としたとき、Bi₂O₃およびMoO₃以外の組成成分が、30重量部≦B₂O₃≦85重量部、3重量部≦R₂O≦25重量部、0重量部≦MO≦50重量部、0重量部≦SiO₂≦26重量部、を満たし、且つ、Bi₂O₃およびMoO₃が、1重量部≦Bi₂O₃≦15重量部、0.3重量部≦MoO₃≦5.0重量部を満たす。ただし、RはLi、NaおよびKから選ばれる少なくとも1種を示し、MはMg、Ca、Sr、BaおよびZnから選ばれる少なくとも1種を示す。このガラス組成物は、例えばＰＤＰの誘電体層6,11から選ばれる少なくとも1つに適用できる。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎｄ）が１．７８〜１．８８、アッベ数（νｄ）が３５〜４５であり、耐失透性に優れた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 屈折率（ｎｄ）が１．７８〜１．８８、アッベ数（νｄ）が３５〜４５、△Ｔ＝（１０^0.5ポイズでの温度−液相温度）が２０℃以上のＢ₂Ｏ₃−ＺｎＯ−Ｌａ₂Ｏ₃−Ｇｄ₂Ｏ₃系ガラス、具体的には質量％で、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜４５％、Ｌａ₂Ｏ₃ ５〜２５％、ＺｎＯ １０〜４５％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ０．５〜２４％、ＳｉＯ₂ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜２０％、ＺｒＯ₂ ０〜１５％、Ｙ₂Ｏ₃ ０〜１５％、ＷＯ₃ ０〜５％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ０〜１５％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率低分散光学ガラスにおいて、液相温度が低く、赤外域において優れた光線透過性を示し、紫外線等の照射の際に発生する蛍光の強度が小さく、さらに内部品質に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．７以上でアッベ数（νｄ）が４０以上を有し、酸化物基準の質量％でＬｎ_２Ｏ_３成分（Ｌｎは、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄから選ばれる１種または２種以上）を３０％以上含有し、Ａｓ_２Ｏ_３及びＳｂ_２Ｏ_３成分の含有量が０．１％未満であることを特徴とする光学ガラス。
前記Ｌｎ_２Ｏ_３成分合計含有量に対するＧｄ_２Ｏ_３の含有量（Ｇｄ_２Ｏ_３／Ｌｎ_２Ｏ_３）の比が２０％以下であり、必須成分としてＢ_２Ｏ_３成分を含有し、液相温度が１１００℃以下であることを特徴とする前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】タブレット一体型排気管に結晶性ガラスタブレットを適用した場合において、結晶性ガラスタブレットが封着工程で軟化流動した後に、ガラスに結晶が析出するタブレット一体型排気管を得ることにより、平面表示装置等の製造効率を向上させること。
【解決手段】本発明のタブレット一体型排気管は、拡径された排気管の先端部に、結晶性ガラスタブレットが取り付けるとともに、結晶性ガラスタブレットの封着面の全部または一部を研磨面とすることに特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板と排気管の封着に際し、結晶性ガラスタブレットを使用するとともに、ガラス基板と排気管の封着強度を担保した上で、真空排気工程で排気温度を上昇させるべく、結晶性ガラスタブレットの結晶性および結晶性ガラスタブレットとガラス基板（或いは結晶性ガラスタブレットと排気管）の反応を適正化することにより、真空排気工程の排気効率を高め、結果として、平面表示装置の製造効率等の向上を図ること。
【解決手段】本発明の平面表示装置は、ガラス基板と排気管が結晶性ガラスタブレットにより封着されている平面表示装置であって、封着部位におけるガラス基板の平均反応深さが０．０５〜２．５μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率ｎdが1.87以上、アッベ数νdが35以上40未満、精密プレス成形に供するプリフォームの成形が容易になる粘性の温度依存性を有し、優れたガラス安定性を示し、生産性良く精密プレス成形が可能な低温軟化性を有する光学ガラスを提供する。前記ガラスからなる精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】モル％表示で、
SiO₂ 0〜20％、
B₂O₃ 5〜40％、
SiO₂＋B₂O₃＝15〜50％、
Li₂O 0〜10％、
ZnO 12〜36％、
ただし、3×Li₂O＋ZnO≧18％、
La₂O₃ 5〜30％、
Gd₂O₃ 0〜20％、
Y₂O₃ 0〜10％、
La₂O₃＋Gd₂O₃＝10〜30％、
La₂O₃／ΣRE₂O₃＝0.67〜0.95％、
（但し、ΣRE₂O₃＝La₂O₃＋Gd₂O₃＋Y₂O₃＋Yb₂O₃+Sc₂O₃＋Lu₂O₃）
ZrO₂ 0.5〜10％、
Ta₂O₅ 1〜15％、
WO₃ 1〜20％、
Ta₂O₅/WO₃≦2.5（モル比）
Nb₂O₅ 0〜8％、
TiO₂ 0〜8％
を含み、
屈折率ndが1.87以上、
アッベ数νdが３５以上４０未満
の光学ガラス。このガラスからなる精密プレス成形用プリフォーム、光学素子とそれらの製造方法。 （もっと読む）

【課題】所定の光学恒数を有し、Ｔｇ及びＴ_Lが低く、プレス成形に適した粘性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】重量％で、ＳｉＯ₂：０．５〜４％、Ｂ₂Ｏ₃：２０〜３０％、ＺｎＯ：１０〜２０％、ＺｒＯ₂：１〜１０％、Ｌａ₂Ｏ₃：３０〜４５％、Ｎｂ₂Ｏ₅：５〜１２％、ＷＯ₃：１〜１５％、ＴｉＯ₂：０．５〜３．５％、ＣａＯ：０．５〜３％、Ｌｉ₂Ｏ：０．１〜０．５％、Ｎａ₂Ｏ：０〜０．４％（ただし、ゼロを含む）、Ｋ₂Ｏ：０〜０．４％（ただし、ゼロを含む）、ただし、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：０．１〜０．５％、の各ガラス成分を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有する光学ガラスにおいて、石英ガラス坩堝溶解で坩堝が結晶化する現象を抑制する製造方法を提供する。
【解決手段】石英ガラス坩堝にて原料を溶融することにより、酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料にＲｎ_２Ｏ成分（ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上）を０．１％以上（ただし、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの合計量は０％を超える）添加することを特徴とする前記製造方法。前記Ｒｎ_２Ｏ成分におけるＫ_２Ｏ成分及び／又はＮａ_２Ｏ成分の割合が全Ｒｎ_２Ｏ成分１００％とした場合、４０％以上であることを特徴とする前記製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス転移温度（Ｔｇ）が低く、線膨張係数が小さいモールドプレス成形に適した光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】重量％で、ＳｉＯ₂：０〜８％、Ｂ₂Ｏ₃：３４．５〜４６％、Ｌｉ₂Ｏ：２．６〜６％、ＺｎＯ：２１〜３８％、Ｌａ₂Ｏ₃：０〜４０％、Ｇｄ₂Ｏ₃：０〜３５％、Ｙ₂Ｏ₃：０〜１５％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃：１０〜４０％、Ｎａ₂Ｏ：０〜１％、Ｋ₂Ｏ：０〜１％、ＭｇＯ：０〜５％、ＣａＯ：０〜８％、ＳｒＯ：０〜１０％、ＢａＯ：０〜１０％、ＴｉＯ₂：０〜５％、ＺｒＯ₂：０〜５％、Ｎｂ₂Ｏ₅：０〜６％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜１０％（ただし、ゼロを含む）、ＷＯ₃：０〜１０％、Ｓｂ₂Ｏ₃：０〜１％、Ｂｉ₂Ｏ₃：０〜３％、の各ガラス成分を有し、所定の屈折率、分散である構成とする。 （もっと読む）

【課題】主としてソーダライムガラス基板を用いたプラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネル等の隔壁層の形成やその他の電気・電子回路の絶縁性被膜形成に関し、高精細パターン形成か可能な感光性ペースト用ガラスセラミックス材料が求められている。
【解決手段】重量％で軟化点が４８０〜５４０℃のガラス微粒子（Ａ）が３５〜８０、軟化点が５７０〜６４０℃のガラス微粒子（Ｂ）が１〜３０、シリカ微粒子が２０〜６５であるプラズマディスプレイ用隔壁材料であって、ガラス微粒子（Ａ）が重量％でＳｉＯ_２を０〜９、Ｂ_２Ｏ_３を５０〜５５、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１１、ＺｎＯを０〜１２、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎa_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を２１〜２５、Ｐ_２Ｏ_５を０〜１０、ＺｒＯ_２を０〜３、さらにＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢaＯのうちから選択される、少なくとも１種を５〜１７含み、屈折率が１．５３〜１．５６であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属酸化物含有量を低減できるＢ_２Ｏ_３−ＺｎＯ系隔壁形成無鉛ガラスの提供。
【解決手段】モル％で、Ｂ_２Ｏ_３ ２８〜４４％、ＺｎＯ ２６〜４３％、ＳｉＯ_２ ０〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．１〜７％、ＭｇＯ＋ＣａＯ ０〜９％、ＳｒＯ＋ＢａＯ １０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１〜６％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０．１〜５％、から本質的になる隔壁形成用無鉛ガラス。Ｂ_２Ｏ_３が３８〜４４％、ＺｎＯが２８〜３８％、ＳｉＯ_２が１〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３が１〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯが０〜１％、ＳｒＯが０〜１％、ＢａＯが１０〜１５％、Ｌｉ_２Ｏが２〜６％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが０〜１％、Ｂｉ_２Ｏ_３が１〜４％である前記隔壁形成用無鉛ガラス。 （もっと読む）

【課題】主としてソーダライムガラス基板を用いたプラズマディスプレイパネル、プラズマアドレス液晶表示パネル等の隔壁層の形成やその他の電気・電子回路の絶縁性被膜形成に関し、高精細パターン形成か可能な感光性ペースト用ガラスセラミックス材料が求められている。
【解決手段】重量％で軟化点が５７０〜６４０℃のガラス微粒子（Ａ）が４０〜７０、軟化点が４８０〜５４０℃のガラス微粒子（Ｂ）が３０〜６０であるプラズマディスプレイ用ガラスセラミックス材料であって、ガラス微粒子（Ａ）が重量％でＳｉＯ_２を２〜１２、Ｂ_２Ｏ_３を５０〜５８、Ａｌ_２Ｏ_３を１０〜２０、ＺｎＯを０〜６、Ｌｉ_２Ｏを０〜２．８、さらにＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢaＯのうちから選択される、少なくとも１種を１０〜２２含み、屈折率が１．５３〜１．５６であることを特徴とするプラズマディスプレイ用ガラスセラミックス材料。 （もっと読む）

【課題】電子部品を不動態化する方法であり、不動態化ガラスが鉛を含まず、失透を生じる傾向が無く、且つ従来知られている付随的不利益を回避する方法であって、更に簡単な工程を通して不動態化層の電子部への塗布を許容する方法を提供する。
【解決手段】ガラス被覆電子部品の製造方法であって、
１．次の組成（重量％で）：
SiO₂ ３〜１２
B₂O₃ １５〜＜２５
Al₂O₃ ０〜６
Cs₂O ０〜５
MgO ０〜５
BaO ０〜５
Bi₂O₃ ０〜５
CeO₂ ０．０１〜１
MoO₃ ０〜１
Sb₂O₃ ０〜２
ZnO ５０〜６５
を含む無鉛ガラスを液体で処理して懸濁液を生成する工程と、
２．上記懸濁液を電子部品に塗布する工程と、
３．塗布された電子部品を焼結する工程と
を含んで成る方法。 （もっと読む）